【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体装置及其制造方法、电路基板及电子机器。
技术介绍
三维安装方式的半导体装置正在开发中。此时,为谋求整体的薄型化,可对各个半导体基板进行磨削使其变薄。在过去的方法中,是把多个半导体芯片之间堆叠而成的,整个工序必须以半导体芯片为单位进行处理,因此生产效率差。或者,另一种想法是把多个半导体晶片之间进行堆叠,然后切断成单片,但这不仅使半导体装置的合格率变差,薄型加工后的半导体晶片的处理也变得困难。专利文献1特开2002-50738号公报。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,对于半导体装置及其制造方法、电路基板及电子机器,谋求生产效率和可靠性的提高。(1)有关本专利技术的半导体装置的制造方法,包括(a)在第一面具有多个芯片搭载区域的基板的、起于所述第一面的凹部内形成导电部的步骤;(b)在所述芯片搭载区域上堆叠半导体芯片的步骤;(c)在所述基板的所述第一面上设置密封材料的步骤;和(d)从第二面除去所述基板的一部分让其减薄,让所述导电部从所述第一面与所述第二面贯通的步骤。根据本专利技术,可以用密封材料加固基板,可以稳定进行基板的薄型化工序,以提高可靠性 ...
【技术保护点】
一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:(a)在第一面具有多个芯片搭载区域的基板的、起于所述第一面的凹部内形成导电部的步骤;(b)在所述芯片搭载区域上堆叠半导体芯片的步骤;(c)在所述基板的所述第一面上设置密封材 料的步骤;和(d)从第二面除去所述基板的一部分让其减薄,让所述导电部从所述第一面与所述第二面贯通的步骤。
【技术特征摘要】
JP 2003-7-31 2003-2836661.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括(a)在第一面具有多个芯片搭载区域的基板的、起于所述第一面的凹部内形成导电部的步骤;(b)在所述芯片搭载区域上堆叠半导体芯片的步骤;(c)在所述基板的所述第一面上设置密封材料的步骤;和(d)从第二面除去所述基板的一部分让其减薄,让所述导电部从所述第一面与所述第二面贯通的步骤。2.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,在所述步骤(a)~(d)结束之后,进一步包括切断相邻所述芯片搭载区域之间,获得多个单片的步骤。3.根据权利要求2所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,采用第一切刀切削所述密封材料,采用所述第二切刀切削所述基板。4.根据权利要求1~3中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述步骤(a)包括在所述基板上形成所述凹部的步骤;在所述凹部的内面上形成绝缘层的步骤;和通过介入所述绝缘层在所述凹部内形成所述导电部的步骤。5.根据权利要求1~4中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,在所述步骤(b)中,在各个所述芯片搭载区域上至少搭载各一个芯片。6.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述步骤(b)中,在任选一个所述芯片搭载区域上堆叠虚设芯片。7.根据权利要求6所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述步骤(b)中,通过在所述芯片搭载区域上堆叠所述半导体芯片或者所述虚设芯片,在各个所述芯片搭载区域上至少搭载各一个芯片。8.根据权利要求1~7中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述半导体芯片,具有贯通两面的贯通电极;所述步骤(b)中,通过所述贯通电极,将所述半导体芯片与所述基板的所述导电部电连接。9.根据权利要求1~7中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,所述步骤(b)中,通过导线,将所述半导体芯片与所述基板的所述导电部电连接。10.根据权利要求1~9中任一项所述的半导体装置的制...
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