用于探测基片的斜角传感器制造技术

在本发明专利技术的第一方面中，提供了一种用于探测基片的装置。该装置包括（１）发射器／接收器单元，其适合于发射光束通过位于转移室内的基片；（２）反射器，其适合于接收从发射器／接收器单元发射的光束并向发射器／接收器单元反射该发射光束；和（３）控制器，其耦连发射器／接收器单元，且适合于根据发射器／接收器单元接收的反射光束的密度确定基片是否位于发射器／接收器单元与反射器之间。发射和反射光束中至少有一个适合于以非垂直的入射照射位于发射器／接收器单元与反射器之间的基片。本文还提供了许多其他的方面。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关注于基片处理，更明确地，关注于探测转移室内的基片，其中转移室与基片处理室耦连。
技术介绍
图1是传统类型基片处理工具11的示意性平面图，其用于对基片，例如硅晶片或者玻璃板，进行半导体制造处理。如本领域技术人员所熟知的，硅晶片可以用于制造半导体器件，例如处理器、存储设备等。玻璃板可以被处理制造用作计算机监视器、电视机显示器或者类似物的平板显示器。处理工具11包括居中布置的转移室(transfer chamber)13，其中处理室15与之耦连。在每一个室15中，可以执行半导体制造处理，例如薄膜沉积、氧化或者氮化腐蚀、或者热或光刻处理。即将在处理工具11中进行处理的基片通过至少一个与转移室13耦连的负载闭锁室(load lock chamber)17引入到处理工具11中。在转移室13中安装有基片操纵机器手19，用于在负载闭锁室17和处理室15之间转移基片。在处理工具的转移室中普遍安装传感器，用于探测基片是否存在和是否被合适地定位在用于装载进入其中一个与转移室耦连的室的位置，如处理室、负载闭锁室或者其它室。图2图解了用于探测透明基片，例如玻璃板，是否存在的一个传统传感器系统。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于探测基片的装置，包括：发射器／接收器单元，其适合于发射光束通过位于转移室内的基片；反射器，其适合于接收从发射器／接收器单元发出的光束，并向发射器／接收器单元反射该发射光束；和控制器，其耦连发射器／接收器单元， 并适合于根据发射器／接收器单元接收的反射光束的强度确定基片是否位于发射器／接收器单元与反射器之间；其中，发射和反射光束中至少有一个适合于以非垂直的入射照射位于发射器／接收器单元与反射器之间的基片。

【技术特征摘要】
US 2002-6-21 60/390,6071.一种用于探测基片的装置，包括发射器/接收器单元，其适合于发射光束通过位于转移室内的基片；反射器，其适合于接收从发射器/接收器单元发出的光束，并向发射器/接收器单元反射该发射光束；和控制器，其耦连发射器/接收器单元，并适合于根据发射器/接收器单元接收的反射光束的强度确定基片是否位于发射器/接收器单元与反射器之间；其中，发射和反射光束中至少有一个适合于以非垂直的入射照射位于发射器/接收器单元与反射器之间的基片。2.根据权利要求1的装置，其中发射器/接收器单元和反射器都相对于基片通过转移室的路径倾斜一定的角度，从而发射和反射光束都以非垂直的入射照射基片。3.根据权利要求1的装置，其中发射和反射光束适合于以偏离垂直入射约2-6度的角度照射位于发射器/接收器单元与反射器之间的基片。4.根据权利要求3的装置，其中发射和反射光束适合于以偏离垂直入射大约3.8度的角度照射位于发射器/接收器单元与反射器之间的基片。5.根据权利要求1的装置，其中发射和反射光束近似平行。6.根据权利要求1的装置，进一步包括多个发射器/接收器单元和反射器对，每一对具有的发射和反射光束适合于以非垂直的入射照射位于发射器/接收器单元与反射器对之间的基片。7.一种用于探测基片的装置，包括转移室，其适合于耦连至少一个处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗田四日，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]