【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气体喷嘴,特别是一种在利用等离子体的半导体晶圆制造工艺中,用于反应室的提高气流分布均匀性的气体喷嘴。
技术介绍
在利用等离子体的半导体晶圆制造工艺中,所使用的装置包括反应室,反应室上安装有气体喷嘴,喷嘴的作用是将反应气体均匀地喷射至反应室内,以激发等离子体,被激发的等离子体再对卡盘上的晶圆进行相关的处理,如刻蚀(Etch)、化学气相沉积(CVD)、剥离光刻胶(Stripping)等。美国专利(U.S 6230651)公开了一种现有的气体喷嘴结构,如图1A和图1B所示包括圆柱本体2,在圆柱本体2内设有气体主流道4,主流道4底端部的中央位置设有与之相通的中心喷气孔7,在气体主流道4底端部圆周方向分布有与之相通的圆周喷气孔6。该种结构的气体喷嘴虽然能够达到一定程度的气流均匀性,但仍存在一些缺陷。由于气体主通道4为内径不变的圆筒形,且只在气体主流道4的底端部设置喷气孔,从而使反应气体集中从主通道4底端部喷向反应室中央,而向外围的喷射能力不足,使反应室内外围的气流密度较低,反应室内中央的气流密度较大。故反应室内的气流密度仍存在较大差异。该种结构中即使其中心喷气孔7的孔径较小,改善仍是有限的。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术的目的在于针对上述现有技术的不足,提供一种能够提高反应室内气体均匀性的气体喷嘴。(二)技术方案为实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案 本专利技术提高气流分布均匀性的气体喷嘴,包括圆柱本体,在圆柱本体内设有气体主流道,其中所述气体主流道呈锥筒形状,其末端部形成中心喷气孔。其中所述圆柱本体的体壁上设有若干与气体主 ...
【技术保护点】
一种提高气流分布均匀性的气体喷嘴,包括圆柱本体(2),在圆柱本体(2)内设有气体主流道(4),其特征在于所述气体主流道(4)呈锥筒形状,其末端部形成中心喷气孔(7)。
【技术特征摘要】
1.一种提高气流分布均匀性的气体喷嘴,包括圆柱本体(2),在圆柱本体(2)内设有气体主流道(4),其特征在于所述气体主流道(4)呈锥筒形状,其末端部形成中心喷气孔(7)。2.根据权利要求1所述的提高气流分布均匀性的气体喷嘴,其特征在于所述圆柱本体(2)的体壁上设有若干与气体主流道(4)相通的圆周喷气孔(5)。3.根据权利要求1所述的提高气流分布均匀性的气体喷嘴,其特征在于所述圆柱本体(2)的下端部为半球形喷...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈鹏,
申请(专利权)人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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