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本发明涉及一种气体喷嘴。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴包括圆柱本体，在圆柱本体内设有气体主流道，其中气体主流道呈锥筒形状，其末端部形成中心喷气孔。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴的优点和积极效果在于：本发明中，由于气体主流道为锥筒...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。