形成有机发光层的方法技术

本文公开一种通过化学气相沉积或分子层沉积在工业规模上形成发光层的方法。根据该方法，具有稳定蒸汽压特征的含金属材料和８－羟基喹啉衍生物作为原料并气化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种，具体而言涉及一种通过化学气相沉积(CVD)或分子层沉积(MLD)在工业规模上。
技术介绍
有机发光层通常是由Mqn组成，其中M是选自铝、镓和锌的金属，q是8-羟基喹啉衍生物，n是1到3的整数。其中，Alq3是具有如附图说明图1所示结构的化合物，并且是一种用于有机电致发光(EL)器件的发光层的代表性材料。在基板上形成Mqn层的传统方法利用热蒸发，是物理气相沉积(PVD)工艺。热蒸发工艺是将Mqn分子喂入反应炉，然后加热到高温使其沉积到基板上。热蒸发虽然具有容易形成Mqn层的优点，但是，它具有Mqn层不均匀和不能进行商业规模的生产的问题。
技术实现思路
技术问题因此，本专利技术是鉴于热蒸发的上述问题而做出的，本专利技术的目的是提供一种通过化学气相沉积或分子层沉积在工业规模上形成EL层的方法。技术解决方案为实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种通过化学气相沉积形成EL层的方法，包括下列步骤1)将基板放入反应室中并使反应室的内部温度保持在特定的反应温度；并且2)将含金属材料和8-羟基喹啉衍生物同时喂入反应室中并使原料反应。如果必要，本专利技术方法可进一步包括在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过原子或分子层沉积形成发光层的方法，包括步骤：１）将基板置于反应室中并使反应室的内部温度保持在特定的反应温度；２）将含金属材料喂入到反应室中并使材料与基板反应；和３）将８－羟基喹啉衍生物喂入到反应室中并使原料反 应。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2004-5-18 10-2004-0035025;KR 2004-5-18 10-2004-1.一种通过原子或分子层沉积形成发光层的方法，包括步骤1)将基板置于反应室中并使反应室的内部温度保持在特定的反应温度；2)将含金属材料喂入到反应室中并使材料与基板反应；和3)将8-羟基喹啉衍生物喂入到反应室中并使原料反应。2.根据权利要求1的方法，还包括在步骤2)之后和步骤3)之前通过第一清洗除去未反应的原料和副产物的步骤。3.根据权利要求1的方法，还包括在步骤3)之后通过第二清洗除去未反应的原料和副产物的步骤。4.根据权利要求1的方法，其中步骤2)和3)重复两次或更多次。5.根据权利要求1的方法，其中含金属材料和8-羟基喹啉衍生物喂入反应室，持续0.1-500秒。6.根据权利要求2的方法，其中第一清洗通过利用安置在反应室内的真空泵抽取并除去未反应的原料和副产物来实施。7.根据权利要求2的方法，其中第一清洗通过向反应室供应选自氦气(He)、氢气(H2)、氮气(N2)和氩气(Ar)的吹扫气体并利用安置在反应室内的真空泵抽取并除去反应室中存在的气体来实施。8.根据权利要求7的方法，其中吹扫气体以1-5000sccm的流速供应，持续0.1-500秒。9.根据权利要求3的方法，其中第二清洗通过利用安置在反应室内的真空泵抽取并除去未反应的原料和副产物来实施。10.根据权利要求3的方法，其中第二清洗通过向反应室供应选自氦气(He)、氢气(H2)、氮气(N2)和氩气(Ar)的吹扫气体并利用安置在反应室内的真空泵抽取并除去反应室中存在的气体来实施。11.根据权利要求10的方法，其中吹扫气体以1-5000sccm流速供应，持续0.1-500秒。12.一种通过化学气相沉积形成发光层的方法，包括步骤1)将基板置于反应室中并使反应室的内部温度保持在特定的反应温度；和2)在用或不用载气情况下将含金属材料和8-羟基喹啉衍生物同时喂入到反应室中并使原料反应。13.根据权利要求12的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：张赫奎，金铉昌，
申请(专利权)人：美卡若尼斯有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]