多晶硅层以及薄膜晶体管的制造方法技术

一种多晶硅层的制造方法，其先提供一基板，此基板具有正面与背面。接着，依序形成缓冲层、非晶硅层与顶盖层于基板的正面上。再来，图形化顶盖层而形成一图形化顶盖层，其暴露出部分非晶硅层，其中所暴露出的部分非晶硅层的区域是一结晶开始区域。继之，形成金属催化剂层于图形化顶盖层上，且金属催化剂层与结晶开始区域中的非晶硅层接触。之后，对基板的背面进行激光加热制程，使非晶硅层自结晶开始区域结晶并转变成多晶硅层。此多晶硅层的制造方法可解决加热时间过长的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多晶硅层的制造方法，包括：提供一基板，该基板具有一正面与一背面；依序形成一缓冲层、一非晶硅层与一顶盖层于该基板的该正面上；图形化该顶盖层以形成一图形化顶盖层，并暴露出部分该非晶硅层，其中所暴露出的部分该非晶硅层的 区域是一结晶开始区域；形成一金属催化剂层于该图形化顶盖层上，且该金属催化剂层与该结晶开始区域中的该非晶硅层接触；以及对该基板的该背面进行一激光加热制程，使该非晶硅层自该结晶开始区域结晶并转变成一多晶硅层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨芸佩，邓德华，施智仁，吕佳谦，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]