一种低温多晶硅薄膜的制备方法、薄膜晶体管、阵列基板以及液晶显示面板技术

本发明专利技术提供了一种低温多晶硅薄膜的制备方法，所述方法包括：在基板上形成金属层；利用第一光罩对所述金属层进行曝光显影，得到金属图案，所述金属图案包括镂空的硅岛区和位于所述硅岛区左右侧或者上下侧的金属区；在所述金属图案上形成非晶硅层；对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜。本发明专利技术还提供一种薄膜晶体管、阵列基板以及液晶显示面板。本发明专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中，通过在基板上形成金属图案，使得金属区与硅岛区形成温度差，非晶硅层重结晶时，在低温区形成晶粒结晶的起点，向温度较高的硅岛区侧向结晶，形成均匀的、较大的多晶硅晶粒、具有很高的电子迁移率的低温多晶硅薄膜。

Method for preparing low temperature polycrystalline silicon film, thin film transistor, array substrate, and liquid crystal display panel

The present invention provides a method for preparing polycrystalline silicon thin film, the method includes: forming a metal layer on a substrate; exposing the developing of the metal layer using the first mask, metal pattern, the metal pattern includes a hollow silicon island and is located on the left and right side or on the silicon island side the metal area; an amorphous silicon layer is formed on the metal pattern; the non high temperature treatment and laser annealing of amorphous silicon layer, so that the amorphous silicon layer to form a polysilicon film. The invention also provides a thin film transistor, an array substrate and a liquid crystal display panel. Preparation method of low temperature polycrystalline silicon thin film provided by the invention, by forming a metal pattern on the substrate, the metal and silicon island formation temperature, the amorphous silicon layer crystallization, crystal formation starting point in the low temperature region, to silicon island lateral higher crystallization temperature, forming a uniform and polycrystalline silicon has a larger grain size, low temperature polycrystalline silicon thin film high electron mobility.

【技术实现步骤摘要】
一种低温多晶硅薄膜的制备方法、薄膜晶体管、阵列基板以及液晶显示面板
本专利技术涉及显示面板
，特别是涉及一种低温多晶硅薄膜的制备方法、薄膜晶体管、阵列基板以及液晶显示面板。
技术介绍
随着平面显示技术的发展，具有高分辨率、低能耗的液晶显示面板的需求越来越大。非晶硅的电子迁移率较低，而低温多晶硅可以在低温下制作，且低温多晶硅的电子迁移率比非晶硅的电子迁移率高20-100倍。在使用低温多晶硅的情况下，可以将薄膜晶体管以及像素做到更小，以达到高分辨率的要求。此外，低温多晶硅制作的半导体器件使得液晶显示器能量消耗率低。低温多晶硅较于非晶硅具有如此多的优点，使得低温多晶硅得到了广泛地研究和应用。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种低温多晶硅薄膜的制备方法，能够获取晶粒均匀、较大的多晶硅。为解决上述技术方案，本专利技术提供的一种技术方案是：提供一种低温多晶硅薄膜的制备方法，所述方法包括：在基板上形成金属层；利用第一光罩对所述金属层进行曝光显影，得到金属图案，所述金属图案包括镂空的硅岛区和位于所述硅岛区左右侧或者上下侧的金属区；在所述金属图案上形成非晶硅层；对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜。其中，所述对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜的步骤之后，还包括：利用所述第一光罩对所述多晶硅薄膜进行曝光显影，进而去掉所述金属区。其中，所述在基板上形成金属层的步骤，包括：在基板上依次形成第一隔离层、金属层。其中，所述第一隔离层的厚度范围为3000A-1um。其中，所述在所述金属图案上形成非晶硅层的步骤之前，包括：在所述金属图案上形成第二隔离层；在所述第二隔离层上形成第一辅助功能层；在所述第一辅助功能层上形成非晶硅层。其中，所述对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜的步骤之前，包括：在所述非晶硅层上形成第二辅助功能层；所述对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜的步骤，包括：所述对形成有所述氧化硅层的所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜。其中，所述非晶硅层的厚度范围为450A-600A。为解决上述技术方案，本专利技术提供的另一种技术方案是：提供一种薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括如上所述的制备方法获得的低温多晶硅薄膜。为解决上述技术方案，本专利技术提供的又一种技术方案是：提供一种阵列基板，所述阵列基板包括如上所述的薄膜晶体管。为解决上述技术方案，本专利技术提供的又一种技术方案是：提供一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括如上所述的阵列基板。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中，通过在基板上形成金属图案，使得金属区与硅岛区形成温度差，非晶硅层重结晶时，在低温区形成晶粒结晶的起点，向温度较高的硅岛区侧向结晶，形成均匀的、较大的多晶硅晶粒、具有很高的电子迁移率的低温多晶硅薄膜。附图说明图1是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法的步骤流程示意图；图2是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中形成的金属层的示意图；图3是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中形成的金属图案的示意图；图4是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中形成的非晶硅层的示意图；图5是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法中高温处理的过程示意图；图6是本专利技术提供的低温多晶硅薄膜的制备方法形成的低温多晶硅薄膜的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细的说明。请参阅图1至图6，本专利技术提供一种低温多晶硅薄膜100的制备方法，方法包括：步骤S101，请参阅图2，在基板10上形成金属层20。可以理解，金属层20通过物理气相沉积的方式形成在基板10上。其中，在基板10上形成金属层20的步骤，包括：在基板10上依次形成第一隔离层30、金属层20。第一隔离层30用于防止基板10上的离子杂质扩散，从而影响后续形成的膜层的作用效果。第一隔离层30可为氮化硅层、二氧化硅层或氮化硅层和二氧化硅层的复合层。当第一隔离层30为氮化硅层和二氧化硅层的复合层时，氮化硅层与基板10直接接触，从而达到更佳的隔离效果。第一隔离层30的厚度范围为3000A-1um。可以理解，基板10可为但不限于为柔性基板10或玻璃基板10。可以理解，金属层20的材料选自为钼或钛。步骤S102，请参阅图3，利用第一光罩对金属层20进行曝光显影，得到金属图案21，金属图案21包括镂空的硅岛区23和位于硅岛区23左右侧或者上下侧的金属区25。其中，利用第一光罩对金属层20进行曝光显影的步骤，具体为：使用多晶硅道光罩以及负性光阻，刻画出硅岛区23以及金属区25，再通过湿蚀刻或干蚀刻的方式去除硅岛区23对应的区域，得到金属图案21。可以理解，金属区25间隔设置在第一隔离层30的表面。步骤S103，请参阅图4，在金属图案21上形成非晶硅层40。非晶硅层40的厚度范围为450A-600A，例如450A、500A、550A、600A等。可以理解，非晶硅层40通过物理气相沉积的方式形成在金属图案21上，并覆盖硅岛区23以及金属区25。可以理解，在金属图案21上形成非晶硅层40的步骤之前，进一步包括：在金属图案21上形成第二隔离层50；在第二隔离层50上形成第一辅助功能层60；在第一辅助功能层60上形成非晶硅层40。其中，第一隔离层30为氮化硅材料制成，以进一步防止基板10上的离子杂质扩散至非晶硅层40。第一隔离层30的厚度范围为500-1000A，例如500A、750A、1000A等。第一辅助功能层60为二氧化硅材料制成，以辅助非晶硅重结晶形成多晶硅。第一辅助功能层60的厚度范围为2000A-3000A，例如2000A、2300A、2600A、3000A等。可以理解，二氧化硅的晶格与多晶硅的晶格较为相似，从而在后续步骤中有助于非晶硅层40形成低温多晶硅薄膜100。步骤S104，对非晶硅层40进行高温处理和激光退火，进而使非晶硅层40形成低温多晶硅薄膜100。可以理解，请参阅图4，通过高温处理使得非晶硅层40呈熔融状态，因靠近金属区25的区域散热速度更快，使得该区域温度较低，而远离金属区25的区域散热较慢，温度较高，如此，形成一个温度差。多晶硅在重结晶时按照低能量向高能量方向结晶，使得非晶硅层40自温度较低的区域为起点向温度较高的区域侧向结晶，形成低温多晶硅薄膜100。可以理解，非晶硅层40重结晶时，在靠近金属区25的低温区形成晶粒结晶的起点，向温度较高硅岛区23侧向结晶，由此获得了方向可控且具有较大的多晶硅晶粒的低温多晶硅薄膜。可以理解，对非晶硅层40进行高温处理和激光退火可通过准分子激光照射的方式进行。可以理解，对非晶硅层40进行高温处理和激光退火，进而使非晶硅层40形成低温多晶硅薄膜100的步骤之前，进一步包括：在非晶硅层40上形成第二辅助功能层70；对非晶硅层40进行高温处理和激光退火，进而使非晶硅层40形成低温多晶硅薄膜100的步骤，包括：对形成有氧化硅层的非晶硅层40进行高温处理和激光退火，进而使非晶硅层40形成低温多晶硅薄膜100。可以理解，第二辅助功能层70为二氧化硅材料制成，以进一步辅助非晶硅重本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低温多晶硅薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上形成金属层；利用第一光罩对所述金属层进行曝光显影，得到金属图案，所述金属图案包括镂空的硅岛区和位于所述硅岛区左右侧或者上下侧的金属区；在所述金属图案上形成非晶硅层；对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种低温多晶硅薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上形成金属层；利用第一光罩对所述金属层进行曝光显影，得到金属图案，所述金属图案包括镂空的硅岛区和位于所述硅岛区左右侧或者上下侧的金属区；在所述金属图案上形成非晶硅层；对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述非晶硅层进行高温处理和激光退火，进而使所述非晶硅层形成多晶硅薄膜的步骤之后，还包括：利用所述第一光罩对所述多晶硅薄膜进行曝光显影，进而去掉所述金属区。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在基板上形成金属层的步骤，包括：在基板上依次形成第一隔离层、金属层。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述第一隔离层的厚度范围为3000A-1um。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述金属图案上形成非晶硅层的步骤之前，包括：在...

【专利技术属性】
技术研发人员：方宏，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42