绝缘层构图方法、通过该方法形成的绝缘层以及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种绝缘层构图方法、通过该绝缘层构图方法形成的绝缘层以及含有该绝缘层的显示装置。所述方法包括：通过将具有绝缘物质的ＦＯＸ（可流动氧化物）和使用挥发溶剂溶解所述绝缘物质的溶剂来制备混合溶液；通过在衬底上施加所述混合溶液、烘烤并硬化施加在所述衬底上的混合溶液来形成涂层；将所述涂层的一区域曝光；以及，通过将所得的已曝光结构浸泡在异丙醇中、溶解所述涂层的未曝光区域并烘烤所述涂层的其余区域来形成绝缘层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种绝缘层构图方法，包括：通过将具有绝缘物质的ＦＯＸ和使用挥发溶剂溶解所述绝缘物质的溶剂混合来制备混合溶液；通过在衬底上施加所述混合溶液、烘烤并硬化施加在所述衬底上的混合溶液来形成涂层；将所述涂层的一区域曝光；以及通过将所得的已曝光结构浸泡在异丙醇中、溶解所述涂层的未曝光区域并烘烤所述涂层的其余区域来形成绝缘层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔相俊，李正贤，房想奉，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]