外观结构件及电子设备制造技术

本申请提供了一种外观结构件和电子设备。外观结构件包括透明硬质基板和设置在所述玻璃基板一侧表面上的复合膜层，该复合膜层为一层氮化硅层和一层二氧化硅层的叠层结构，且所述氮化硅层靠近所述玻璃基板；其中，所述氮化硅层的厚度为600nm

【技术实现步骤摘要】
外观结构件及电子设备


[0001]本技术涉及玻璃盖板
，具体涉及一种外观结构件及电子设备。

技术介绍

[0002]目前，手机、平板电脑、智能手表等电子设备中大量使用玻璃材料，例如显示屏盖板、后盖等外观结构件均可以是玻璃板。然而，现有玻璃板的硬度较低，易出现刮伤、磨损，透过率易降低，从而影响了电子设备的使用体验和质量可靠性。

技术实现思路

[0003]鉴于此，本申请提供了一种外观结构件及电子设备，该外观结构件可兼顾高硬度、高耐磨性能和高透光性，能提高采用其的电子设备的使用体验和质量可靠性。
[0004]具体地，本申请第一方面提供了一种外观结构件，包括透明硬质基板和设置在所述透明硬质基板一侧表面上的复合膜层，所述复合膜层为一层氮化硅层和一层二氧化硅层的叠层结构，且所述氮化硅层靠近所述透明硬质基板；其中，所述氮化硅层的厚度为600nm
‑
1500nm，所述二氧化硅层的厚度小于所述氮化硅层的厚度。
[0005]本申请提供的外观结构件，通过在外观结构件表面设置采用特定厚度的单层氮化硅层及单层二氧化硅层构成的复合膜层，可使所述复合膜层具有较高的硬度和耐磨性能，颜色接近无色，且整体外观结构件的透光性较高，可在对透明硬质基板起良好保护的同时，还不影响透明硬质基板的显示、拍摄等光学需求。
[0006]可选地，所述二氧化硅层的厚度为81nm
‑
87nm。
[0007]可选地，所述复合膜层的厚度为681nm
‑
1587nm。优选地，所述复合膜层的厚度为681nm
‑
1287nm。
[0008]可选地，所述复合膜层在500g载荷下的莫氏硬度为8级以上，例如为8
‑
9级。
[0009]可选地，所述复合膜层的振动耐磨性能超过2小时。
[0010]可选地，所述复合膜层在100g载荷下能耐橡皮摩擦15000次以上。
[0011]可选地，所述外观结构件在380nm
‑
780nm波段的平均透过率在90％以上，例如为91％
‑
92％。
[0012]可选地，所述外观结构件还包括设置于所述二氧化硅层上的抗指纹膜层。
[0013]可选地，所述外观结构件还包括一油墨层，所述油墨层设置于所述玻璃基板背离所述复合膜层的表面。
[0014]第二方面，本申请提供了一种电子设备，包括如本申请第一方面所述的外观结构件。该电子设备的外观结构件的耐磨性能好、硬度高、透光性好，电子设备的质量可靠性高、使用体验好。
[0015]其中，所述电子设备的外观结构件包括组装在所述电子设备前侧的显示屏盖板、组装在所述电子设备后侧的后盖以及摄像头保护盖板中的至少一种，所述显示屏盖板、所述后盖和所述摄像头保护盖板中的至少一种采用所述玻璃盖板。
附图说明
[0016]图1为本申请实施例提供的玻璃盖板的一种结构示意图；
[0017]图2为本申请实施例提供的玻璃盖板的另一种结构示意图；
[0018]图3为本申请实施例提供的玻璃盖板的又一种结构示意图。
具体实施方式
[0019]以下所述是本申请的示例性实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。
[0020]在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0021]此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本申请，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。另外，本说明书中用
“‑”
表示的数值范围是指将
“‑”
前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。在附图中，结构相似或相同的单元用相同的标号表示。
[0022]下面介绍本申请实施例提供的外观结构件及采用该外观结构件的电子设备。
[0023]采用该外观结构件的电子设备可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、可穿戴设备(如智能手表)、电子阅读器、车载设备、医疗装置或可卷曲折叠的电子报纸等电子设备。其中，上述电子设备仅是举例，而非穷举。
[0024]具体地，所述电子设备包括组装在电子设备外侧的外观结构件和位于所述外观结构件内部的电路板。在一些实施方式中，该外观结构件包括组装在所述电子设备前侧的显示屏盖板。在另一些实施方式中，该外观结构件包括组装在所述电子设备后侧的后盖。在又一些实施方式中，所述电子设备还包括位于所述外观结构件内部的摄像头组件，所述外观结构件包括摄像头保护盖板，所述摄像头保护盖板盖设在所述摄像头组件上。
[0025]可选地，所述显示屏盖板、后盖和摄像头保护盖板中的至少一种采用本申请实施提供的下述外观结构件，以提升电子设备的外观结构件的耐磨性能和硬度，且不降低光透过性。
[0026]请参阅图1，本申请实施例提供了一种可用于电子设备的外观结构件200，包括透明硬质基板10，设置在透明硬质基板10一侧表面上的复合膜层100，该复合膜层100为一层氮化硅层101(即，Si3N4层)和一层二氧化硅层102(即，SiO2层)的叠层结构，且氮化硅层101靠近透明硬质基板10；其中，氮化硅层101的厚度为600nm
‑
1500nm，二氧化硅层102的厚度小于氮化硅层101的厚度。
[0027]本申请中，控制复合膜层100的氮化硅层101的厚度在600nm
‑
1500nm的范围，可避
免其厚度过低(若低于500nm)而使复合膜层100的硬度不能达到莫氏8级以上、耐摩擦性能较差等，也可避免其厚度过厚而降低复合膜层100的制备良率。
[0028]而二氧化硅层102具有一定的减反效果，其位于氮化硅层101远离外观结构件200的表面上，可降低整体复合膜100的表面反射率、增加透光性，其可与氮化硅层101共同保护透明硬质基板10免受外界刮伤、磨花等。
[0029]另外，二氧化硅层102的厚度低于氮化硅层101的厚度，可使复合膜层100的透光性较好，可在保证整体的外观结构件200具有较高透光率的基础上，还可使从整体外观结构件200透射出的光的Lab值中的a、b值接近0，即，使整体外观结构件200透射出的光颜色接近无本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种外观结构件，其特征在于，所述外观结构件包括透明硬质基板和设置在所述透明硬质基板一侧表面上的复合膜层，所述复合膜层为一层氮化硅层和一层二氧化硅层的叠层结构，且所述氮化硅层靠近所述透明硬质基板；其中，所述氮化硅层的厚度为600nm
‑
1500nm，所述二氧化硅层的厚度小于所述氮化硅层的厚度。2.如权利要求1所述的外观结构件，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为81nm
‑
87nm。3.如权利要求2所述的外观结构件，其特征在于，所述复合膜层的厚度为681nm
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1587nm。4.如权利要求1所述的外观结构件，其特征在于，所述透明硬质基板为玻璃基板。5.如权利要求1
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4任一项所述的外观结构件，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：李超，万福星，刘玉阳，王继厚，马兰，
申请(专利权)人：比亚迪股份有限公司，
类型：新型
国别省市：