【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于印制基板或液晶基板等的基板的制造的曝光装 置,特别是涉及将形成于掩模的图案,以等倍的方式投影到基板上的 投影曝光装置。
技术介绍
在涂布有光效抗蚀剂等的感光材料的基板表面、利用曝光装置来 曝光规定的图案、之后利用蚀刻工序将图案形成于基板上的光刻法在 各种领域受到广泛的应用,印制配线基板或液晶基板等也使用曝光装 置进行制造。以往,作为曝光形成印制配线基板、液晶面板、液晶用滤色片等 的电子电路等的图案的装置的一种,使用有下述投影曝光装置隔着 形成有图案的掩模,照射规定波长的紫外线(曝光光线),经由投影光 学系统将与掩模的图案成大约等倍的图案像投影到工件上并进行曝 光处理。投影光学系统包括仅由投影透镜构成的投影光学系统、反射镜 与透镜组合而成的反射折射光学系统、和仅由反射镜构成的反射光学 系统。对透镜使用反射镜则具有可以减少色差的优点。但是,在仅有反 射镜的反射光学系统的情况下,光照射区域限定成狭缝状, 一起进行 广大面积的曝光是困难的。在组合反射镜与透镜的反射折射光学系的 情况下,具有与投影光学系统相比减少色差,比反射光学系统曝光面 积大的优点。在 ...
【技术保护点】
一种投影曝光装置,利用从光源放射的曝光光线,将形成于掩模的图案通过投影光学机构投影到工件上并进行曝光,其特征为: 上述投影光学机构具备: 反射光学单元,具有:将改变上述曝光光线的方向的第1反射面及第2反射面设成规定角度的反射体、将由上述第1反射面所反射的曝光光线反射到上述第2反射面上的反射镜、和设置于该反射镜与上述反射体之间的多个透镜; 第1透镜,配置于上述反射体的第1反射面的光射入侧,并与上述反射体相分离; 第2透镜,配置于上述反射体的第2反射面的光射出侧,并与上述反射体相分离;以及 反射光学单元移动机构,将上述反射光学单元支承在上述第1透镜 ...
【技术特征摘要】
JP 2006-7-24 200571/20061.一种投影曝光装置,利用从光源放射的曝光光线,将形成于掩模的图案通过投影光学机构投影到工件上并进行曝光,其特征为上述投影光学机构具备反射光学单元,具有将改变上述曝光光线的方向的第1反射面及第2反射面设成规定角度的反射体、将由上述第1反射面所反射的曝光光线反射到上述第2反射面上的反射镜、和设置于该反射镜与上述反射体之间的多个透镜;第1透镜,配置于上述反射体的第1反射面的光射入侧,并与上述反射体相分离;第2透镜,配置于上述反射体的第2反射面的光射出侧,并与上述反射体相分离;以及反射光学单元移动机构,将上述反射光学单元支承在上述第1透镜与上述第2透镜之间,并使其相对于上述第1透镜...
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