【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光刻设备，包括：投影系统，其被构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分；液体供给系统，其被构造用于将液体提供到投影系统和衬底之间的空间中；以及循环系统，其被构造用于收集离开液体供给系统的液体，并再次将液体提供给液体供给系统，所述循环系统包括两个被构造用于处理液体的并行液体处理单元，所述并行液体处理单元被构造用于处理不同的液体，使得具有使来自液体供给系统的液体通过所述循环系统回到液体供给系统的两条循环路径。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：约翰尼斯卡萨瑞纳斯休伯特斯穆尔肯斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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