包括校正滤镜的投影对准器制造技术

一种投影对准器包括照明光学系统、曝光系统和校正光学系统，该照明光学系统利用曝露光照射掩模图形，该曝光系统利用穿过该照明光学系统的曝露光照射台上的基板，该校正光学系统包括用于校正该曝露光的照度不规则性的两个校正滤镜。该校正滤镜具有与投影对准器的照度不规则性相反的光透射不规则性。两个校正滤镜互相移动，以便两个校正滤镜的透射率分布互相移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于通过使用曝露光(exposure light)将掩模图形 投射在曝光台上布置的基板上的投影对准器。本专利技术还涉及一种用于 制造校正滤镜的方法，该校正滤镜用于校正投影对准器的照度不规则 性。
技术介绍
投影对准器被用于制造液晶(LC)面板或半导体器件的工序中。 投影对准器通常包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统 将光源发出的曝露光照射在光掩模上，该光掩模在其上有透光图形， 该投影光学系统将穿过光掩模的曝露光照射在曝光台上。在用于制造 LC面板的工序中，在曝光台上安装玻璃(透明)基板，其上包括具有 光敏性能的光刻胶膜，该光掩模上形成的透光图形被转移到光刻胶膜 上。通过使用投影对准器照射到基板上的曝露光通常具有由于光学系 统的性能而引起的照度不规则性。近年来随着LC面板上更精细图形的 发展，仅仅较低的照度不规则性就可能降低产品LCD器件的图像质量。 例如，考虑通过分步重复工艺制造的大尺寸LC面板，其中LC面板被分 为用于反复曝光的多个区，如果发生照度不规则性，那么在LC面板的 划分区的每个边界附近将产生环状缺陷。为了减小常规投影对准器的照度不规则性，在光源附近布置透镜(蝇眼透镜)，用于使垂直于该曝露光光轴的平面上的曝露光面内强度均衡。但是，即使使用积分器(integrator)透镜也不能很好的消除所 受的投影对准器的特定系统照度不规则性的影响。因此，考虑到特定 系统的照度不规则性，必需校正对应于每个投影对准器的照度不规则 性。专利公开JP-1986-150330A描述了一种照度不规则性校正滤镜，其 校正投影对准器的特定系统照度不规则性。在该专利公开所描述的技 术中，在该校正滤镜的制造过程中，其上具有透光图形阵列的光掩模 被用来将负型光刻胶膜暴露于该曝露光。由因此曝光并然后显影的光 刻胶膜所获得的光刻胶图形用于构图底下的光屏蔽膜。如上形成的光刻胶图形包括图形的阵列，例如，对应于光掩模的 透光图形。该图形的阵列反射该投影对准器的照度不规则性，因此包 括对应于照度不规则性中的较高照度的大尺寸图形和对应于其中的较 低照度的小尺寸图形。光刻胶图形转移到光屏蔽膜上提供了具有透射 率分布的校正滤镜，该透射率分布与投影对准器的照度分布相反。在上述专利公开的技术中，具有与投影对准器的固有照度分布相 反的透射率分布的校正滤镜使用相同的投影对准器来制造，并布置在 投影对准器的照明光学系统的光线路径中，用于照度不规则性的校正。本专利技术人注意到，在用于消除投影对准器的照度不规则性的校正 滤镜的透射率分布中，提供不规则性的最佳范围通常是困难的。如果 由上述工序获得的校正滤镜证明对于补偿投影对准器的照度不规则性 提供不足的功能，那么在改变投影对准器的曝光条件如曝光时间长度 之后，应该制造其他校正滤镜。这在对于制造校正滤镜的工序中可能 消耗较长的时间和较高成本，导致产品LCD器件的较长周转周期和较 高成本。因此，期望一种投影对准器，可以容易地调整校正滤镜的不 规则性范围，该校正滤镜校正相同投影对准器的照度不规则性。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种投影对准器和投影对准工艺，能够制造 校正滤镜，同时调整透射率不规则性的范围，以有效地校正投影对准 器的照度不规则性。本专利技术的另一目的是提供一种用于制造如上所述的校正滤镜的方法。本专利技术提供一种投影对准器，包括曝光系统，利用曝露光来照 射掩模图形，用于将掩模图形投射到在曝光台上安装的基板上；以及 在该曝光系统中彼此毗连的多个校正滤镜，该校正滤镜每个具有与曝 光系统的固有照度分布相反的透射率分布，至少两个校正滤镜被布置 为使得该至少两个校正滤镜的透射率分布在垂直于曝光系统的光轴方 向上互相移动(Shift)。本专利技术还提供一种方法，包括以下步骤在透明基板上连续地形 成光屏蔽膜和负型光刻胶膜；将该光刻胶膜暴露于投影对准器的曝露光，该投影对准器包括曝光系统和校正光学系统，同时在该校正光学系统中使用中密度滤镜；显影该曝光的光刻胶膜，以形成光刻胶图形； 通过使用该光刻胶图形作为刻蚀掩模，构图该光屏蔽膜，以形成具有 与该曝光系统的固有照度分布相反的透射率分布；以及重复以上步骤， 以形成多个校正滤镜。本专利技术还提供一种方法，包括利用曝露光来照射掩模图形，用 于将掩模图形投射到曝光台上安装的基板上，该曝露光穿过多个校正 滤镜，每个校正滤镜具有与该曝光系统的固有照度分布相反的透射率 分布，以及移动至少一个校正滤镜，以便该至少一个校正滤镜的透射 率分布在垂直于曝光系统光轴的方向上从另一校正滤镜移动。参考附图，从下面的详细说明将使本专利技术的上述及其他目的、优 点和优点更明显。附图说明图l是根据本专利技术示例性实施例的投影对准器的侧视图。图2是图1所示的组合校正滤镜的侧视图。 图3是用于制造该组合校正滤镜的光掩模的顶面图。 图4A至4C示出了用于制造该组合校正滤镜中的校正滤镜的工序 的连续步骤的剖面图。图5是该校正滤镜的顶面图。图6示出了使用该组合校正滤镜的投影对准工序的流程图。 图7A是图2的组合校正滤镜的放大部分侧视图，以及图7B是从该组合校正滤镜的发光侧观察的光屏蔽图形的正视图。图8示出了图7所示的组合校正滤镜的透光率和样品移动量之间的关系曲线。图9示出了没有校正滤镜时的曝光台上的照度分布曲线。 图10A和10B分别示出了一个校正滤镜和两个校正滤镜的透射率 分布。图ll示出了布置该组合校正滤镜时获得的照度分布曲线。 图12是上述实施例的投影对准器的改进中的光屏蔽图形的正视图。具体实施例方式现在，将参考附图描述根据本专利技术的示例性实施例。图l示出了根据本专利技术示例性实施例的投影对准器的侧视图。该投 影对准器，通常以数字10表示，用于制造照度不规则性校正滤镜的光 刻工艺，以及用于通过使用由此制造的校正滤镜来制造LC面板或半导 体器件的光刻工艺。投影对准器10包括照明光学系统11和投影光学系统12，该照明光 学系统11将曝露光照射到光掩模14上，该投影光学系统12将穿过光掩 模14的曝露光投射到曝光台31上。照明光学系统ll在其中包括校正光 学系统13，其校正照明光学系统ll的曝露光。在图中未图示的掩模台 上安装光掩模14。在光刻工序中，在曝光台31上安装其上形成光刻胶 膜的基板32。基板32可以是，例如，玻璃基板或半导体晶片。从光源 21发出的光沿投影对准器10的光轴15前进，入射到基板32上。照明光学系统ll包括用于通过照明光学系统ll发出紫外线作为曝 露光的光源21、反射从该光源21发射的曝露光的椭圆镜22、朝着校正 光学系统13反射由椭圆镜22反射的曝露光的镜子23、以及将由镜子24 反射的曝露光会聚入射到光掩模14上的聚焦透镜25。光源21包括，例 如，汞灯。投影光学系统12由透镜组构成。校正光学系统13从其光入射侧连续地包括输入透镜26、光学积分 器27、组合校正滤镜40以及透镜28，该校正滤镜40用于校正投影对准 器10的照度不规则性。输入透镜26允许由镜子23反射的曝露光入射到 光学积分器27上。光学积分器27包括在垂直于光轴15的平面上布置的 多个微小透镜，以及构成具有均匀照度分布的二维光源，如在垂直于 光轴15的光学积分器27的发光表面上观察时。组合校正滤镜40被布置用于校正曝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影对准器，包括：曝光系统，利用曝露光照射掩模图形，用于将掩模图形投射到在曝光台上安装的基板上；以及在所述曝光系统中彼此毗连的多个校正滤镜，所述校正滤镜的每个具有与所述曝光系统的固有照度分布相反的透射率分布，至少两个所述校正滤镜被布置为使得所述至少两个所述校正滤镜的所述透射率分布在垂直于所述曝光系统的光轴方向上互相移动。

【技术特征摘要】
JP 2006-9-15 2006-2514781. 一种投影对准器，包括曝光系统，利用曝露光照射掩模图形，用于将掩模图形投射到在曝光台上安装的基板上；以及在所述曝光系统中彼此毗连的多个校正滤镜，所述校正滤镜的每 个具有与所述曝光系统的固有照度分布相反的透射率分布，至少两个所述校正滤镜被布置为使得所述至少两个所述校正滤镜的所述透射率 分布在垂直于所述曝光系统的光轴方向上互相移动。2. 根据权利要求l的投影对准器，其中所述每个校正滤镜具有以 栅格布置的多个单元区，以及所述每个单元区包括半透光图形，所述 半透光图形具有特定单元透射率或光屏蔽图形。3. 根据权利要求2的投影对准器， 屏蔽图形是圆形或矩形图形。4. 根据权利要求l的投影对准器， 镜具有共同的透光率分布。5. 根据权利要求l的投影对准器， 括半透光图形。其中所述半透光图形或所述光其中所述至少两个所述校正滤其中至少一个所述校正滤镜包6.根据权利要求l的投影对准器，其中所述校正滤镜包括第一校正滤镜、第二滤镜以及第三校正滤镜，所述第二滤镜具有在垂直于所 述光轴的方向上从所述第一校正滤镜的透射率分布移动的透射率分 布，以及所述第三校正滤镜具有在垂直于所述光轴方向和所述第二校 正滤镜的所述移动方向上从所述第一和第二校正滤镜的所述透射率分 布移动的透射率分布。...

【专利技术属性】
技术研发人员：作道典博，
申请(专利权)人：NEC液晶技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]