投影曝光装置制造方法及图纸

公开一种适合给图案重复曝光的小型且低成本的投影曝光装置。投影曝光装置具有：把光照射到具有多列掩模图案的掩模，用于给曝光图案列重复曝光的照明系统、把所述掩模来的光投射到所述被曝光部件上的投影系统、移动所述被曝光部件的曝光工作台、以及移动所述掩模的掩模载台。交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距ｎ倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动。并且，随着在对所述曝光图案重复曝光的初期和末期的所述曝光工作台的步进驱动，以所述曝光图案排列间距的ｎ倍的移动量移动所述掩模。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种边沿规定方向移动被曝光部件边曝光复制光掩模、中间掩模等的掩模(原版)图案的投影曝光技术。
技术介绍
图22表示对使用于液晶显示板等的大型基板曝光电路图案的投影曝光装置(扫描曝光装置)。图中，81是掩模，82是掩模扫描工作台，83是投影光学系统，84是基板扫描工作台，以及85是被曝光基板。该扫描曝光装置中，在被曝光基板85上边复制电路图案时，从图中的箭头方向使曝光光束照射相当于照相中负片的掩模81。透过掩模81上所形成的掩模图案的光，由投影光学系统83在像面一侧成像掩模图案的像。因此，在配置到该掩模图案像的成像位置的被曝光基板85上边使掩模图案像曝光。可是，给液晶显示板等大型基板进行电路图案曝光的投影曝光装置中，为了在被曝光基板上边一并曝光要求的掩模图案而装备大口径投影光学系统，就成为装置的设置面积、装置的重量、稳定性、装置成本上的课题。因此，采用使掩模图案像条状成像的投影光学系统，通过相对于该投影光学系统扫描移动掩模和被曝光基板，不需要大口径投影光学系统，用小规模的装置也能进行大面积曝光。这时，一边控制曝光量一边以恒定速度沿图中箭头方向移动考虑了在被曝光基板85本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影曝光装置，使用具有多列掩模图案的掩模用于在被曝光部件上使曝光图案列重复曝光，其特征是具备：　　　　向所述掩模照射光的照明系统；　　　　将来自所述掩模的光投射到所述被曝光部件上的投影系统；　　　　移动所述被曝光部件的曝光工作台；　　　　移动所述掩模的掩模载台；以及　　　　控制从所述照明系统向所述掩模的光照射和所述曝光工作台与所述掩模载台的驱动的控制器，　　　　所述控制器交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距的ｎ倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动，其中，所述ｎ是小于所述掩模图案的列数的自然数，　　　　而且在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述曝光工作台的步进...

【技术特征摘要】
JP 2003-1-31 025086/20031.一种投影曝光装置，使用具有多列掩模图案的掩模用于在被曝光部件上使曝光图案列重复曝光，其特征是具备向所述掩模照射光的照明系统；将来自所述掩模的光投射到所述被曝光部件上的投影系统；移动所述被曝光部件的曝光工作台；移动所述掩模的掩模载台；以及控制从所述照明系统向所述掩模的光照射和所述曝光工作台与所述掩模载台的驱动的控制器，所述控制器交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距的n倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动，其中，所述n是小于所述掩模图案的列数的自然数，而且在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述曝光工作台的步进驱动，进行以所述掩模图案排列间距的n倍的移动量移动所述掩模的所述掩模载台的步进驱动。2.按照权利要求1所述的投影曝光装置，其特征是还具备遮断光的遮光部件，以便不向所述被曝光部件进行光投射；以及移动所述遮光部件的遮光部件载台，在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述掩模载台的步进驱动，所述控制器进行以相当于所述被曝光部件的光投射区中n列掩模图案间距的移动量移动所述遮光部件的所述遮光部件载台的步进驱动。3.按照权利要求1或2所述的投影曝光装置，其特征是所述掩模具有在所述被曝光部件上重复曝光不连续图案列的多列第1掩模图案和曝光连续图案的第2掩模图案。4.按照权利要求3所述的投影曝光装置，其特征是所述掩模还具有曝光单独图案的第3掩模图案。5.按照权利要求4所述的投影曝光装置，其特征是所述第3掩模图案的宽度相对于所述第1掩模图案排列间距的倍数是自然数。6.一种投影曝光装置，使用具有多列掩模图案的掩模用于在被曝光部件上使曝光图案列重复曝光，其特征是具备向所述掩模照射光的照明系统；将来自所述照明系统的光投射到所述被曝光部件上的投影系统；移动所述被曝光部件的曝光工作台；遮断光的遮光部件，使得不进行从所述多列掩模图案中的一部分掩模图案列向所述被曝光部件的光投射；移动所述遮光部件的遮光部件载台；以及控制从所述照明系统向所述掩模的光照射和所述曝光工作台与所述遮光部件载台的驱动的控制器，所述控制器交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距的n倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动，其中，所述n是小于所述掩模图案的列数的自然数，而且在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述曝光工作台的步进驱动，进行以相当于所述被曝光部件的光投射区中n列掩模图案间距的移动量移动所述遮光部件的所述遮光部件载台的步进驱动。7.按照权利要求6所述的投影曝光装置，其特征是所述掩模具有在所述被曝光部件上重复曝光不连续图案列的多列第1掩模图案和曝光连续图案的第2掩模图案。8.按照权利要求7所述的投影曝光装置，其特征是所述掩模还具有曝光单独图案的第3掩模图案。9.按照权利要求8所述的投影曝光装置，其特征是所述第3掩模图案的宽度相对于所述第1掩模图案排列间距的倍数是自然数。10.一种投影曝光方法，其特征是具备制备具有多列掩模图案的掩模的第1步骤，所述多列掩模图案用于在被曝光部件上将曝光图案列重复曝光；以及使通过向所述掩模照射光而从所述掩模向所述被曝光部件进行的光投射和以所述曝光图案排列间距的n倍的移动量移动所述被曝光部件的所述被曝光部件的步进移动二者交替进行的第2步骤，其中，所述n是小于所述掩模图案列数的自然数，在所述第2步骤中，在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述被曝光部件的步进移动，以所述掩模图案排列间距的n倍的移动量步进移动所述掩模。11.按照权利要求10所述的投影曝光方法，其特征是在所述第2步骤中形成遮光区，使得不进行从所述多列掩模图案中的一部分掩模图案列向所述被曝光部件的光投射，在所述曝光图案的重复曝光的初期和末期，随着所述掩模的步进移动，以相当于所述被曝光部件的光投射区中n列掩模图案间距的移动量步进移动该遮光区。12.按照权利要求10或11所述的投影曝光方法，其特征是所述掩模具有在所述被曝光部件上重复曝光不连续图案列的多列第1掩模图案和曝光连续图案的第2掩模图案。13.按照权利要求12所述的投影曝...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭塚和央，磯端純二，田中信义，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]