蒸镀设备制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种蒸镀设备，具有一蒸镀腔体，所述蒸镀设备包括：蒸镀源和蒸镀锅；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部；其中，所述蒸镀源的数量设置至少两个，每个所述蒸镀源间隔排布，且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等；蒸镀锅，设置在所述蒸镀腔体的顶部，所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转；其中，单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域；所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。本实用新型专利技术实施例以此提高了蒸镀的效率。本实用新型专利技术实施例以此提高了蒸镀的效率。本实用新型专利技术实施例以此提高了蒸镀的效率。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀设备


[0001]本技术涉及蒸镀
，尤其涉及一种蒸镀设备。

技术介绍

[0002]蒸镀，属于一种物理沉积，是通过某种方式将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，气体分子蒸镀材料在真空环境中运动附着在待蒸镀物表面，从而在待蒸镀物表面形成薄膜的过程。
[0003]在现有的蒸镀锅公转蒸镀系统中，用于蒸镀晶圆的设备内只设置单个蒸镀源。然而。单个蒸镀源在蒸镀晶圆工作中，存在效率较低的问题，从而导致蒸镀工艺的时间长。另外，蒸镀工艺时间过长会使得设备内部温度过高，导致产品的良品率降低。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术实施例的目的是提供一种蒸镀设备，用于提高蒸镀的效率。
[0005]为了实现上述目的，本技术实施例提供了一种蒸镀设备，具有一蒸镀腔体，所述蒸镀设备包括：蒸镀源和蒸镀锅；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部；其中，所述蒸镀源的数量设置至少两个，每个所述蒸镀源间隔排布，且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等；蒸镀锅，设置在所述蒸镀腔体的顶部，所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转；其中，单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域；所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。
[0006]可选地，所有所述蒸镀源的朝向都朝正上；所述总蒸镀区域包括第一叠加蒸镀区域和第一非叠加蒸镀区域，所述第一非叠加蒸镀区域在所述第一叠加蒸镀区域的周围，所述第一非叠加蒸镀区域大于所述第一叠加蒸镀区域；所述蒸镀锅对应所述第一非叠加蒸镀区域设置。
[0007]可选地，所有所述蒸镀源的中轴线穿过所述蒸镀锅的中心点公转所经过的路径。
[0008]可选地，所有所述蒸镀源的朝向都倾斜朝所述中心线；所述总蒸镀区域包括第二叠加蒸镀区域和第二非叠加蒸镀区域，所述第二非叠加蒸镀区域在所述第二叠加蒸镀区域的周围，所述第二非叠加蒸镀区域小于所述第二叠加蒸镀区域；所述蒸镀锅对应所述第二叠加蒸镀区域设置。
[0009]可选地，所述蒸镀设备还包括：导轨，所述导轨固定连接所述蒸镀腔体的内壁上；所述蒸镀锅的数量设置至少两个，至少两个所述蒸镀锅围绕所述中心线均匀分布，所有所述蒸镀锅设置在所述导轨上。
[0010]可选地，所述蒸镀设备还包括：支撑架，所述支撑架连接所有所述蒸镀锅；转轴，所述转轴连接所述支撑架；以及发动机，用于提供机械能给所述转轴。
[0011]可选地，所述蒸镀材料包括主体材料和掺杂材料；至少一个所述蒸镀源用于容纳所述主体材料，至少一个所述蒸镀源用于容纳所述掺杂材料。
[0012]可选地，所述蒸镀锅的蒸镀面为平面或凹面；其中，所述蒸镀面为所述蒸镀锅被蒸镀的一面。
[0013]可选地，所述蒸镀锅倾斜设置，所述蒸镀锅的所述蒸镀面朝向所述中心线。
[0014]可选地，以所述中心线为对称线，所述蒸镀源的数量设置两个，两个所述蒸镀源对称分布；或者以所述中心线为参考线，所述蒸镀源的数量设置三个，三个所述蒸镀源呈等边三角形分布。
[0015]上述技术方案，针对现有技术中的设备存在效率较低的问题，提供一种蒸镀设备，通过设置至少两个蒸镀源，单个蒸镀源会产生单个蒸镀区域，所有单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，将公转的蒸镀锅设置在总蒸镀区域内，以此能够提高蒸镀的效率。
附图说明
[0016]所包括的附图用来提供对本技术实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本技术的实施方式，并与文字描述一起来阐释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
[0017]图1A是本技术实施例的蒸镀设备的一种实施方式的示意图；
[0018]图1B是本技术实施例的蒸镀设备的另一种实施方式的示意图；
[0019]图2是本技术实施例的蒸镀设备的又一种实施方式的示意图。
[0020]其中：10
‑
蒸镀设备；101
‑
蒸镀腔体；100
‑
蒸镀源；110
‑
电子枪；120
‑
偏转磁场；130
‑
加热灯；200
‑
蒸镀锅；210
‑
导轨；220
‑
支撑架；230
‑
转轴；240
‑
发动机；250
‑
接线座；L
‑
中心线；Z
‑
总蒸镀区域；A
‑
第一叠加蒸镀区域；B
‑
第一非叠加蒸镀区域；C
‑
第二叠加蒸镀区域；D
‑
第二非叠加蒸镀区域。
具体实施方式
[0021]需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本技术可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
[0022]在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
[0023]另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本技术的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0024]此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领
域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0025]下面参考附图和可选的实施例对本技术作详细说明。
[0026]如图1A或1B所示，本技术实施例公开了一种蒸镀设备10，具有一蒸镀腔体101，该蒸镀设备10包括：蒸镀源100和蒸镀锅200。具体而言，如下：
[0027]本实施例蒸镀设备10的蒸镀腔体101，其容置空间例如为圆柱体，蒸镀源100和蒸镀锅200都收容在圆柱体的蒸镀腔体101内。在工作过程中，蒸镀腔体101为高温和真空状态。
[0028]具体地，蒸镀源100设置在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，具有一蒸镀腔体，其特征在于，所述蒸镀设备包括：蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部；其中，所述蒸镀源的数量设置至少两个，每个所述蒸镀源间隔排布，且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等；以及蒸镀锅，设置在所述蒸镀腔体的顶部，所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转；其中，单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域；所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所有所述蒸镀源的朝向都朝正上；所述总蒸镀区域包括第一叠加蒸镀区域和第一非叠加蒸镀区域，所述第一非叠加蒸镀区域在所述第一叠加蒸镀区域的周围，所述第一非叠加蒸镀区域大于所述第一叠加蒸镀区域；所述蒸镀锅对应所述第一非叠加蒸镀区域设置。3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所有所述蒸镀源的中轴线穿过所述蒸镀锅的中心点公转所经过的路径。4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所有所述蒸镀源的朝向都倾斜朝所述中心线；所述总蒸镀区域包括第二叠加蒸镀区域和第二非叠加蒸镀区域，所述第二非叠加蒸镀区域在所述第二叠加蒸镀区域的周围，所述第二非叠加蒸镀区域小于所述第二叠加...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵利，孙军旗，刘芳军，孙玉群，鲁艳春，
申请(专利权)人：北海惠科半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：