放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜的形成制造技术

本发明专利技术涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与（甲基）丙烯酰氧基氧杂环丁烷的共聚物、１，２－醌二叠氮化合物和热敏性酸生成化合物。该组合物没有安全性上的问题，灵敏度、分辨率、作为溶液的保存稳定性等优良，在显影工序中即使超过最适显影时间，也可以形成良好的图案形成，具有良好的显影余量，可用于形成层间绝缘膜和微透镜。

【技术实现步骤摘要】
^t线敏感性树，^a，、层间，膜和m^的形成5 ,页域本专利技术涉皿射线敏感性树脂组合物、由该放射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜和^t镜、以及该层间绝缘膜和微it^(microlens)的形成方法。 背景狱io 在薄膜晶体管(下面记为TFT)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件中，为了^M状配置的布线之间绝缘，通常 要设置层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，1M获得需要的图，^b^f 需的工序数少且具有充分的平坦性的材料，因此广泛i^,线敏感性树B離 合物(参见特开2001-354822号公报和特开2001-343743号公报)。15 ，电子元件中，例如TFT型液晶显示元件JiM31在层间绝缘膜上形成透明电极膜，再在其上形成液晶取向膜的工序制造的，因此层间绝缘,透明 电丰，的形成工序中会暴ltt高温制牛下，或者暴H^形成电极图^0H^的 抗蚀剂的剥离、液中，因此必须对这些割牛有充分的耐受性。另外近年来，TFT型液晶显示元件正在向大画面化、髙亮度化、高精细20化、高速响应化、薄型化等发展，从工艺上产品成品率的要求考虑，要求形成 层间绝缘^^鄉的辐射1^性组本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于含有：　　　　［Ａ］（ａ１）和（ａ２）的共聚物，其中（ａ１）为选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种　　　　（ａ２）为选自下式（１）表示的化合物和下式（２）表示的化合物中的至少一种，　　　　ＣＨ↓［２］＝＊－＊－Ｏ－（ＣＨ↓［２］）↓［ｎ］－＊－＊－Ｒ↑［３］　　（１）　　　　式（１）中，Ｒ表示氢原子或碳原子数为１～４的烷基，Ｒ↑［１］表示氢原子或碳原子数为１～４的烷基，Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］、Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］相互独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数为１～４的烷基、碳原子数为６～２０的芳基或碳原子数为１～４的全氟烷基，ｎ相互独立地为１～６的整数；　　...

【技术特征摘要】
JP 2005-10-3 2005-2894721.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于含有[A](a1)和(a2)的共聚物，其中(a1)为选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐中的至少一种(a2)为选自下式(1)表示的化合物和下式(2)表示的化合物中的至少一种，式(1)中，R表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基，R1表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基，R2、R3、R4和R5相互独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数为1～4的烷基、碳原子数为6～20的芳基或碳原子数为1～4的全氟烷基，n相互独立地为1～6的整数；式(2)中，R、R1、R2、R3、R4和R5以及n与上式(1)中的定义相同；[B]1，2-醌二叠氮化合物，和[C]热敏性酸生成化合物。2.权利要求1所述的鹏线敏感性树B離合物，其中[A]共聚物是上述 (al)成分、(a2)成分以及(a3)的共聚物，所述(a3)为与战(al)成分 20和(a2)成分不同的其ftyt...

【专利技术属性】
技术研发人员：米田英司，滨田谦一，志保浩司，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]