【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及场效应晶体管(FET),尤其涉及具有传感装置的FET。技术背景为保护器件或电路免出故障,场效应晶体管(FET)如金属氧化物半 导体FET (MOSFET)可包含温度传感元件以检测温度波动。可将这种温度传感元件集成在公共衬底以便更快速地检测 MOSFET的波动。实事上可集成元件构成MOSFET。例如,US 2003/0210507描述了一种MOS电路结构的温度传感器,实现成MOS晶 体管的栅极,其中晶体管的栅极配置成具有栅极输入和栅极输出的两端 网络,通过测量栅极两端的压降能够原位确定温度。此外,使用半导体二极管作为热耦合的温度传感元件是已知技术。 US-A-5,100,829描述一种包含衬底温度传感元件的MOSFET器件。通过 在(栅极)介电区上构成PN结,可在仍与衬底电隔离的同时提高对衬底温 度变化的热响应。然而,这种附加的温度传感端会使MOSFET难以集成在现有的电 路中。这种MOSFET需要附加电路。
技术实现思路
按照本专利技术的第一方面,提供一种晶体管电路,包括具有源极、栅极和漏极的场效应晶体管器件; 连接在FET的栅极和源极之间的温度传 ...
【技术保护点】
一种晶体管器件(1),包括:衬底(3)上的具有源极、栅极和漏极的场效应晶体管(FET)(2);衬底第一主表面(7)上的栅极键合焊盘(5);以及栅极键合焊盘(5)下面的至少一个温度传感二极管(4),所述温度传感二极管( 4)电连接在FET(2)的栅极和源极之间,该温度传感二极管(4)或每一个温度传感二极管(4)取向成二极管阴极与FET的栅极连接和二极管阳极与FET的源极连接。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2005-3-15 05102032.91.一种晶体管器件(1),包括衬底(3)上的具有源极、栅极和漏极的场效应晶体管(FET)(2);衬底第一主表面(7)上的栅极键合焊盘(5);以及栅极键合焊盘(5)下面的至少一个温度传感二极管(4),所述温度传感二极管(4)电连接在FET(2)的栅极和源极之间,该温度传感二极管(4)或每一个温度传感二极管(4)取向成二极管阴极与FET的栅极连接和二极管阳极与FET的源极连接。2. 根据权利要求1的晶体管器件,其中所述温度传感二极管(4)是齐 纳二极管。3. 根据权利要求1或2的晶体管器件,其中栅极键合焊盘(5)位于由 FET(2)围绕的第一主表面(7)的区域内。4. 一种晶体管电路,包括晶体管器件(l),包含具有源极、栅极和漏极的场效应晶体管(FET) (2) 和连接在FET的栅极和源极之间的温度传感二极管(4), 二极管(4)阴极 与FET的栅极连接,二极管阳极与FET的源极连接;偏置电路(14),被设置成当FET(2)断开时对FET栅极施加负偏置;以及连接在FET(2)的栅极和源极之间的传感器(21),测量表示FET(2) 的温度的参数。5. 根据权利要求4的晶体管电路,其中栅极驱动电路(12)包括恒 电流源,并且传感器是电压传感器。6. 根据权利要求4或5的晶体管电路,其中温度传感二极管(4)在 FET(2)的栅极键合焊盘(5)下面。7. 根据权利要求4至6中任一项的晶体管电路,包...
【专利技术属性】
技术研发人员:基思赫彭斯托尔,亚当布朗,艾德里安高,伊恩肯尼迪,
申请(专利权)人:NXP股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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