【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，且更具体地说，涉及在化学 机械抛光(CMP)制程中使用的。
技术介绍
抛光一般指的是在化学机械抛光制程中对于初步粗糙表面的磨损控制，其使得含有 微粒的浆液均匀地分散在抛光垫的上表面上，且同时抵靠所述抛光塾放置抛光工件，并 接着以规则运动反复摩擦所述抛光工件。抛光工件可为例如半导体、存储媒体衬底、集 成电路、LCD平板玻璃、光学玻璃和光电面板的物件。在抛光制程期间，必须使用承载 膜来承载并固定抛光工件，且承载膜的质量直接影响抛光工件的抛光效果。图l展示具有常规承载膜的抛光装置的示意图。所述抛光装置l包括下底板ll、承载膜12、抛光工件13、上底板14、抛光垫15和浆液16。所述承载膜12通过粘合层17而粘合 到所述下底板ll，且用于承载并固定抛光工件13。所述抛光垫15固定在所述上底板14上。 抛光装置l的操作模式如下。首先，将抛光工件13固定在承载膜12上，且接着转动 上底板14和下底板11两者，并同时向下移动上底板14，以使得抛光垫15接触抛光工件13 的表面，且可通过连续补充浆液16和使用抛光垫15的作用来执行对抛光工件13的抛光操 作。图2...
【技术保护点】
一种用于固定抛光工件的承载膜，其包含： 表面衬底，包含多个孔，所述表面衬底的材料包含弹性体； 缓冲衬底，包含多个孔，所述缓冲衬底的材料包含所述弹性体； 其中用包含所述弹性体的粘合剂来粘合所述表面衬底和所述缓冲衬底。
【技术特征摘要】
US 2007-2-15 11/706,2061. 一种用于固定抛光工件的承载膜，其包含表面衬底，包含多个孔，所述表面衬底的材料包含弹性体；缓冲衬底，包含多个孔，所述缓冲衬底的材料包含所述弹性体；其中用包含所述弹性体的粘合剂来粘合所述表面衬底和所述缓冲衬底。2. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述表面衬底包含用于固定所述抛光工件的类 似麂皮的表面。3. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述表面衬底包含第一平坦表面用于粘合到所 述缓冲衬底的。4. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述表面衬底的厚度在0.05mm与5.00mm之间。5. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述缓冲衬底具有第二平坦表面。6. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述孔为连续的。7. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述孔为不连续的。8. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述孔的直径为O.OOl Mm到1000 nm。9. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述弹性体从由以下各物组成的群组中选择 聚胺酯(PU)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)和聚氯乙烯(PVC)。10. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述用于粘合所述表面衬底和所述缓冲衬底的 包含所述弹性体的粘合剂从由以下各物组成的群组中选择单成份粘合剂、双成份 粘合剂和湿式凝固粘合剂。11. 根据权利要求10所述的承载膜，其中所述双成份粘合剂包含所述弹性体和聚异氰酸 酯。12. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述用于粘合所述表面衬底和所述缓冲衬底的 弹性体的厚度小于l pm。13. 根据权利要求l所述的承载膜，其中所述用于粘合所述表...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯崇智，姚伊蓬，王良光，洪永璋，
申请(专利权)人：三芳化学工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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