用于集成气体系统气体面板的灵活的歧管技术方案

灵活的气体传输设备具有气体面板，该气体面板具有第一扩展体，该第一扩展体具有第一区域和第二区域，该第一区域设在混合阀和该基底之间，该基底具有与出口泵／清除歧管流体连通的出口，以及第二扩展体，该第二扩展体具有第一区域和第二区域，该第一区域设在排除阀和该基底之间，该基底具有与混合歧管流体连通的排出口，其中该第一和第二扩展体的第二部分从该气体面板向外延伸。

【技术实现步骤摘要】
用于集成气体系统气体面板的灵活的歧管:
[OOOl]本专利技术涉及气体传输系统。更具体地，本专利技术涉及用于气体传输系统的灵活的歧管。进一步更具体地，本专利技术涉及用于集成气体系统(IGS)气体传输系统的灵活的歧管。技术背景图li兌明了传统的半导体蚀刻处理系统100。该传统的半 导体蚀刻处理系统100包4舌气体源102、通过气体供应管线106连4妄到该气体源i02的气体传Hr面4反i04以及连4妻到该气体传车ir系统i04的处理室108。该气体传lt面^反104进一步包4舌气体才奉(gas stick) 110,其连接到该气体供应管线106。该气体才奉110是一连串的气体分配和控制组件，如质量流量控制器、 一个或多个压力传感器和/或调 节器、加热器、 一个或多个过滤器或净化器和节流阀。在气体^^奉所 4吏用的这些组件以及它们的详细布置可依据它们的^殳计和应用而 不同，其中许多组件布置是本领域已知的。在通常半导体处理i殳备 中，气体供应管线106、气体分配组件和基底以及混合歧管将超过 17种气体通到处理室。这些附在基板上以形成完整的系统，称为气 体面一反或者气体箱。[OOO3]该传统的半导体蚀刻处理系统IOO依靠4吏用多个危险的 由气体供应管线106从该气体源102到处理等离子室108的传输。这样的系统通常需要气体传输面^反104，用于为半导体蚀刻处理系统 或者其他薄膜涂层工艺匹配高纯度气体。在半导体制造中，因为半导体器件的尺寸减小以及存在 更小空间来容纳更多的元件，所以对于微粒污染的容忍度逐渐降 低。 一个微粒污染源是该气体棒本身，其将气体从高纯度气体源传 车叙到半导体处理室，在那里这样的孩i粒污染物通常会沉积到正在处 理的该半导体器件上。另 一个微粒污染源是在维护和修理单个气体 传输组件过程中气体传输系统中的组件暴露于室内空气。—种为了消除连4妄部件(如管^各和联 接器)、有助于维护(down mount )，，在多个歧管体(manifold block )上，进而安装到 基板上。这些也称为IGS或者表面安装气体传输系统。然而，气体 棒的每个部件通常包括高度加工的部件，使得每个组件的制造和替 换相对昂贵。当一个组件失效时，整个组件都被替换，尽管在大多 数情况中，该失效是机械的(并且在质量流量传感器的例子中，通 常是传感器失效)。每个组件通常构建有安装台，其利用多个机加 工操作依次制造，这使得该组件成本高。因此，尽管将这些组件部件向下安装在多个固定块上解决了 一个问题，但是对于替换缺陷部 件其仍然相对贵。此外，气体面4反通常制造有三个或多个气体才奉(因为制 造更少的气体棒成本高、难以安装在该气体拒)并且使用不需要使 用的额外的部件。因此，用户除了4吏用一定凄t量的气体一奉之外没有 其它选择。气体棒的最小数目是6以及气体棒的标准数目是9。具有 12或者16个棒的气体面板是可能的。然而，如果用户已经安装了9 个气体净奉的气体面^反并且想增加一个或两个额外的气体才奉，这个用户就需要购买最小量为至少三个气体棒的气体面板。还没有一种有 效的方法，将单一气体棒连接到已有的气体面板，而不移动整个气体面才反、不冒污染的风险和/或不使用额外的人力和时间以移动及重 新安装该气体传输组件。或者，万一用户已经安装了9个气体棒的气体面板而之后 仅需要使用7个气体棒，在该气体面板上的2个气体棒将不会使用。 这^)夺导至丈该气体面斧反有多余的不用部4牛并JU人该气体面 一反去除该 多余的气体棒将不可能。这个情况造成盲管段，是导管或歧管 上气体没有流经的区域。盲管段被认为是一个污染源。
技术实现思路
灵活的气体传输设备，其具有气体面板，该气体面板具 有第一扩展体，该第一扩展体具有第一区域和第二区域，该第一区 域i殳在该混合阀和基底之间，该基底具有出口 5该出口与泵/清除歧 管流体连通，以及第二扩展体，该第二扩展体具有第一区域和第二 区域，该第一区域设在排除阀和基底之间,该基底具有排出口，该 排出口与混合歧管流体连通，其中该第一和第二扩展体的第二部分乂人该气体面纟反向外延伸。在另一个实施方式，该灵活的气体传输i殳备可具有带有 多个输入端口的歧管扩展体，多个输入端口的每个与该基底、水平7>共^支管^各径、多个l叙出端口流体连通，多个llr出端口的每个与该7>共歧管^各径流体连通；以及配置为容纳管^各的多个垂直管^各端 口 ，，该多个垂直管^各端口的每个基本上设置在多个输入端口的每 个之间，该垂直管路端口的每个与该公共歧管^各径流体连通。这些和其它特4i将在本专利技术和该相关附图下面的详细描 述中更具体的表述。附图说明[OOll]这些并入并且构成这个说明书一部分的附图说明了一个或多个实施方式，并且与该具体描述一起，用来解释本专利技术的原理 和实现。在这些图中图H兌明传统的半导体蚀刻处理系统。 图2i兌明示例性的气体棒。 图3A、 3B、 3C和3D说明示例性的歧管体。 图4A-4D说明了A支管扩展体一个实施方式。 图5A和5B说明扩展体的又一个实施方式。 图6说明与IGS气体传输系统一起使用的扩展体。 图7A和7B说明扩展体的又一个实施方式。 图8说明 一个示例性气体面才反一端的侧浮见图。 图9是用于半导体处理的示例性气体输入装置的示意图。具体实施方式现在将根据在附图中说明的几个优选实施方式详细描述 本专利技术。在下面的描述中，阐述了许多具体细节以提供对本专利技术的 彻底理解。然而，对于本领域的技术人员来说，显然本专利技术可不采 用这些具体细节的某些或全部而实现。在有的情况中，7>知的工艺 步骤和/或结构没有详细地描述，以避免不必要的混淆本专利技术。本专利技术提供灵活的气体传输歧管。图2说明示例性的气体 棒。尽管用某些组件说明，但是这些具体组件不是作为限制，因为 可4吏用不同的组件和/或更多或者更少的组件来形成气体才奉。另外， 尽管描述单一气体棒，该气体棒的数目并不是为了限制。如上面所 讨论的，多个气体棒，形成气体箱或面板。在一个实施方式中，该 组件上的阀门是整体表面安装阀门。通常，整体表面安装组件是气 体控制组件(例如，阀门、过滤器等)，其通过在基底总成上的通 道连接到其他气体控制组件，其上安装该气体控制组件。这与通常 通过庞大的管路与VCR连接件(真空耦合环)连接的气体控制组件 形成y于比。该气体才奉200可具有气体才奉丰叙入端口 202以llr入供气。手 动阀门204可用于扭^亍供应或隔绝该供气的供应。该手动阀门204还 可具有在其之上的闭锁/挂牌装置206。工人安全法规4主往要求等离 子处理制造设备包括预防激活功能，如闭锁/挂牌机构。通常，闭锁 是使用主动的手段如锁、钥匙或者组合类型以将能量隔绝装置保持 在安全位置。挂牌装置通常是任何显眼的警示装置，如标签和依照 制定的程序牢固地固定在能量隔绝装置的附件的方式。调节器208可用来调节该气体压力或该供气以及压力计 210可用来监测该供气的压力。在一个实施方式中，可以预i殳该压 力并且不需要调节。在另一个实施方式中，可使用带有显示器以显 示该压力的压力传感器(未示)。该压力传感器可挨着该调节器208 i殳置。过滤器212可用来去除该供气中的杂质。主节流阀214可用来 防止^壬^T腐蚀性供气j呆本文档来自技高网...

【技术保护点】
灵活的气体传输设备，包括：气体面板，其具有第一个气体棒和最后一个气体棒，该气体棒的每个上面具有多个气体传输组件；多个互相连接以形成基底的歧管体，该多个歧管体的每个连接到该多个气体传输组件之一；基板，其具有上表面和下表面，该基板的上表面连接到该基底的底部表面；混合歧管，其设在该基板的上表面，以平行连接该基底上的多个混合阀；以及　泵／清除歧管，其设在该基板的上表面上，以平行连接该基底上的多个泵／清除歧管；其中该第一个气体棒进一步包括：第一扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域设在排除阀和该基底之间，该基底具有与该泵／清除歧管流体连通的排出口，第二扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域设在混合阀和该基底之间，该基底具有与混合歧管流体连通的出口；以及　其中该第一和第二扩展体的第二部分从该气体面板向外延伸。

【技术特征摘要】
US 2007-6-11 11/761,3261.灵活的气体传输设备，包括气体面板，其具有第一个气体棒和最后一个气体棒，该气体棒的每个上面具有多个气体传输组件；多个互相连接以形成基底的歧管体，该多个歧管体的每个连接到该多个气体传输组件之一；基板，其具有上表面和下表面，该基板的上表面连接到该基底的底部表面；混合歧管，其设在该基板的上表面，以平行连接该基底上的多个混合阀；以及泵/清除歧管，其设在该基板的上表面上，以平行连接该基底上的多个泵/清除歧管；其中该第一个气体棒进一步包括第一扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域设在排除阀和该基底之间，该基底具有与该泵/清除歧管流体连通的排出口，第二扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域设在混合阀和该基底之间，该基底具有与混合歧管流体连通的出口；以及其中该第一和第二扩展体的第二部分从该气体面板向外延伸。2. 根据权利要求1所述的设备，其中该混合歧管是混合歧管以及 该泵/清除歧管是排除歧管。3. 才艮据^又利要求1所述的i殳备，其中该最后一个气体一奉进一步包 括第三扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域 i殳在混合阀和该基底之间，并且该基底具有与该混合it支管流体 连通的出口； 以及第四扩展体，其具有第一区域和第二区域，该第一区域 i殳在排除阀和该基底之间，并且该基底具有与该泵/清除A支管 流体连通的4非出口 ，其中该第三和第四扩展体的第二部分/人该气体面^反向外 延伸，该气体面斧反配置为流体连4妄到第二单个气体才奉。4. 根据权利要求1所述的设备，其中该第一扩展和第二扩展体进 一步包括连接到该第二区域的多个区域。5. 才艮据权利要求3所述的设备，其中该第三扩展和第四扩展体进 一步包括连接到该第二区域的多个区域。6. 才艮据权利要求3所述的设备，其中该第一扩展体和该第三扩展 体的每个区域进一步包括与该基底流体连通的入口 ，其中该出口进入该扩展体中的7K平次级^支管。7. 根据权利要求3所述的设备，其中该第二扩展体和该第四扩展 体的每个区域进一步包括与该基底流体连通的入口和出口 ，其中该排出口进入该扩展体的水平次级A支管通道。8. 4艮据权利要求1所述的设备，其中该基板进一步包括第一多个输入/输出端口 ，其与该多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：马克塔斯卡尔，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]