【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、等离子体处理系统是用于在半导体晶片上制造例如芯片/晶粒的半导体设备。在等离子体处理系统中，半导体晶片暴露于多种类型的等离子体以引起半导体晶片状态的指定变化，例如通过材料沉积和/或材料移除和/或材料注入和/或材料改性等。等离子体处理系统传统上包含射频(rf)源、rf传输电缆、rf阻抗匹配网络、电极和等离子体产生室。rf源通过rf传输电缆连接到rf阻抗匹配网络。rf阻抗匹配网络通过电导体连接到电极。rf源所产生的rf功率通过rf传输电缆及rf阻抗匹配网络传输至电极。从电极传输的rf功率会使处理气体在等离子体产生室内转化为等离子体。正是在这个背景下出现了本公开内容中描述的实施方案。
技术实现思路
1、在一示例性实施方案中，公开了一种等离子体处理系统。等离子体处理系统包含具有上部窗的等离子体处理室。等离子体处理系统还包含布置在上部窗上方的线圈。等离子体处理系统还包含布置在线圈上方的线圈连接外壳。等离子体处理系统还包含设置在线圈连接外壳上方的计量外壳。等离子体处理系统还包含布置在计量外壳内的光谱反射系统。光谱反射系统包含光学准直器，其定位成引导光束通过计量外壳中的开口、线圈连接外壳中的开口以及上部窗而进入等离子体处理室。光学准直器也配置用以接收来自等离子体处理室内部的反射光，其中反射光穿过上部窗并穿过线圈连接外壳中的开口及穿过计量外壳中的开口。
2、在一示例性实施方案中，公开了一种用于等离子体处理系统的光谱反射系统的光学准直器的定向的调节方法。该方法包含通过第一组
3、在一示例性实施方案中，公开了一种用于等离子体处理系统的光谱反射系统的光学准直器的定向的调节方法。该方法包含在光学准直器的尖端角及倾斜角的多个不同组合下执行第一光谱强度测量。光学准直器的尖端角是在第一竖直参考平面内测量。光学准直器的倾斜角是在垂直于第一竖直参考平面的第二竖直参考平面内测量。该方法也包含基于光谱强度测量值来确定对应于预定最大光谱强度的光学准直器的预定尖端角及预定倾斜角。该方法也包含将光学准直器定向于起始尖端角以及起始倾斜角，该起始尖端角是比预定尖端角小的指定量，该起始倾斜角是比预定倾斜角小的指定量。该方法也包含执行斜率上升搜寻处理，以识别出提供最大光谱强度测量值的光学准直器的经调节的尖端角及经调节的倾斜角。斜率上升搜寻处理开始于起始尖端角以及起始倾斜角。斜率上升搜寻处理以将光学准直器定向于经调节的尖端角以及经调节的倾斜角而结束。
4、通过下面的详细描述和附图，实施方案的其他方面和优点将变得更加明显。
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1.一种等离子体处理系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含灯、功率供应源、光谱仪、以及用于所述光学准直器的定向控制台。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其中直接驱动式射频功率供应源定位于计量外壳上方，所述直接驱动式RF功率供应源经连接而传输RF功率至所述线圈。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含用于所述光学准直器的定向控制台，所述定向控制台包含尖端调节设备，所述尖端调节设备用于控制第一竖直参考平面内的所述光学准直器的尖端角，所述定向控制台包含倾斜调节设备，所述倾斜调节设备用于控制第二竖直参考平面内的所述光学准直器的倾斜角，所述第二竖直参考平面垂直于所述第一竖直参考平面。
5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述定向控制台相对于所述计量外壳的位置能远程调节。
6.根据权利要求4所述的等离子体处理系统，其中所述光谱反射系统包含从所述计量外壳外部延伸至所述尖端调节设备的第一调节机构，所述第一调节机构被
7.根据权利要求6所述的等离子体处理系统，其中所述第一调节机构包含从所述第一位置延伸至第一旋转传送设备的第一杆，所述第一旋转传送设备被配置成将所述第一杆的旋转转换成所述尖端调节设备内的第一螺钉的旋转，以及
8.根据权利要求7所述的等离子体处理系统，其中所述第一旋转传送设备为第一齿轮箱，且其中所述第二旋转传送设备为第二齿轮箱。
9.根据权利要求4所述的等离子体处理系统，其中所述光谱反射系统包含被连接用于控制所述尖端调节设备的第一电动调节机构，所述第一电动调节机构被配置成响应于第一电控制信号而提供对所述光学准直器的所述尖端角的远程调节，以及
10.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含用于所述光学准直器的定向控制台，所述定向控制台包含下部构件和上部构件，所述下部构件具有上表面，所述上表面被配置作为球形帽盖的一部分，所述上部构件具有下表面，所述下表面的形状与所述下部构件的所述上表面共形，所述上部构件能相对于所述下部构件移动，以将所述光学准直器的尖端角控制在第一竖直参考平面内，所述上部构件也能相对于所述下部构件移动，以将所述光学准直器的倾斜角控制在第二竖直参考平面内，所述第二竖直参考平面垂直于所述第一竖直参考平面。
11.根据权利要求10所述的等离子体处理系统，其中所述光谱反射系统包含第一电动调节机构，所述第一电动调节机构被连接以提供所述上部构件相对于所述下部构件的定位，以将所述光学准直器的所述倾斜角控制在所述第二竖直参考平面内，所述第一电动调节机构能响应于第一电控制信号操作，以及
12.一种用于等离子体处理系统的光谱反射系统的光学准直器的定向的调节方法，其包含：
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一角度步进量约为0.25度，且所述第二角度步进量约为0.1度。
14.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一光栅扫描从所述第一组尖端角中的最低尖端角以及所述第一组倾斜角中的最低倾斜角开始，且其中所述第一光栅扫描在所述第一组尖端角中的每一尖端角处执行光谱强度测量之后就将所述倾斜角增加所述第一角度步进量，以及
15.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一组尖端角包含五个以零度为中心的角，且其彼此分隔所述第一角度步进量，且其中所述第一组倾斜角包含五个以零度为中心的角，且其彼此分隔所述第一角度步进量，以及
16.一种用于等离子体处理系统的光谱反射系统的光学准直器的定向的调节方法，其包含：
17.根据权利要求16所述的方法，其中所述指定量为约0.3度。
18.根据权利要求16所述的方法，其中所述斜率上升搜寻处理包含执行多个尖端角上升步骤以及多个倾斜角上升步骤，直到针对尖端角及倾斜角所测量到的光谱强度的变化小于指定阈值。
19.根据权利要求18所述的方法，其中所述指定阈值为约0.1。
20.根据权利要求18所述的方法，其中所述每一尖端角上升步骤包含：
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述尖端调节量开始于约0.075度，且其中所述倾斜调节量开始于约0.075度。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种等离子体处理系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含灯、功率供应源、光谱仪、以及用于所述光学准直器的定向控制台。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其中直接驱动式射频功率供应源定位于计量外壳上方，所述直接驱动式rf功率供应源经连接而传输rf功率至所述线圈。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含用于所述光学准直器的定向控制台，所述定向控制台包含尖端调节设备，所述尖端调节设备用于控制第一竖直参考平面内的所述光学准直器的尖端角，所述定向控制台包含倾斜调节设备，所述倾斜调节设备用于控制第二竖直参考平面内的所述光学准直器的倾斜角，所述第二竖直参考平面垂直于所述第一竖直参考平面。
5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述定向控制台相对于所述计量外壳的位置能远程调节。
6.根据权利要求4所述的等离子体处理系统，其中所述光谱反射系统包含从所述计量外壳外部延伸至所述尖端调节设备的第一调节机构，所述第一调节机构被配置成从所述计量外壳外部的第一位置处提供对所述光学准直器的所述尖端角的手动调节，以及
7.根据权利要求6所述的等离子体处理系统，其中所述第一调节机构包含从所述第一位置延伸至第一旋转传送设备的第一杆，所述第一旋转传送设备被配置成将所述第一杆的旋转转换成所述尖端调节设备内的第一螺钉的旋转，以及
8.根据权利要求7所述的等离子体处理系统，其中所述第一旋转传送设备为第一齿轮箱，且其中所述第二旋转传送设备为第二齿轮箱。
9.根据权利要求4所述的等离子体处理系统，其中所述光谱反射系统包含被连接用于控制所述尖端调节设备的第一电动调节机构，所述第一电动调节机构被配置成响应于第一电控制信号而提供对所述光学准直器的所述尖端角的远程调节，以及
10.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中所述计量外壳内的所述光谱反射系统包含用于所述光学准直器的定向控制台，所述定向控制台包含下部构件和上部构件，所述下部构件具有上表面，所述上表面被配置作为球形帽盖的一部分，所述上部构件...
【专利技术属性】
技术研发人员：亚历山大·米勒·帕特森，丹尼尔·古斯曼，威廉·T·哈特，克里斯蒂安·赛拉迪，迈克尔·约翰·马丁，王雨后，迈克尔·德里蒙，约翰·德鲁厄里，爱德华多·卡斯塔尼奥斯马丁内斯，乔治·卢克，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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