静电吸盘及静电吸盘的温控系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种静电吸盘及静电吸盘的温控系统，包括：主体，所述主体具有相背设置的的吸附面和开孔面，所述吸附面用于吸附晶圆；多个入流孔，多个所述入流孔开设于所述开孔面上，用于将冷却剂注入所述主体内；多个出流孔，多个所述出流孔开设于所述开孔面上，每一所述入流孔与至少一所述出流孔连通，所述出流孔用于将所述主体内的冷却剂排出。本申请通过在静电吸盘上设置多个入流孔和出流孔，实现对静电吸盘各个方向、各个位置的温度进行降温，变革相关技术中在静电吸盘内设置环状多带管路的形式，可快速、精准地到达所需降温的区域，实现精细化控制吸附面的温度，实现静电吸盘吸附面温度的均匀性，提高晶圆温度控制的一致性。致性。致性。

【技术实现步骤摘要】
静电吸盘及静电吸盘的温控系统


[0001]本申请涉及静电吸盘
，尤其涉及一种静电吸盘及静电吸盘的温控系统。

技术介绍

[0002]静电吸盘(Electrostatic Chuck，E
‑
chuck)所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术，在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。静电吸盘是用于晶圆固定和温度控制的重要部件，因为晶圆温度是影响刻蚀速率和均匀性的重要因素，刻蚀中的化学反应对温度非常敏感，微小的温度差可能造成极大的刻蚀偏差，所以一致性控制(Uniformity Control)是晶圆相关工艺中的一个重要问题，良好的刻蚀效果要求晶圆具有稳定的、均匀的温度分布。随着晶圆尺寸变大，一致性控制变得更加关键，并且将成为工艺发展的主要挑战。相关技术中静电吸盘的冷却系统(Coolant System)存在温度控制均匀性和精度不够等问题，无法实现晶圆温度控制的一致性。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供了一种静电吸盘及静电吸盘的温控系统，能提高静电吸盘吸附面温度的均匀性，实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种静电吸盘，其特征在于，包括：主体，所述主体具有相背设置的吸附面和开孔面，所述吸附面用于吸附晶圆；多个入流孔，多个所述入流孔开设于所述开孔面上，用于将冷却剂注入所述主体内；多个出流孔，多个所述出流孔开设于所述开孔面上，每一所述入流孔与至少一所述出流孔连通，所述出流孔用于将所述主体内的冷却剂排出。2.根据权利要求1所述静电吸盘，其特征在于，在所述主体内开设有空腔或者流道，所述空腔或者流道连通所述入流孔与所述出流孔。3.根据权利要求2所述静电吸盘，其特征在于，所述静电吸盘包括多个吸附区域，每一所述吸附区域对应的开孔面上均开设有多个所述入流孔以及多个所述出流孔，位于不同所述吸附区域上的入流孔与出流孔之间相互隔断。4.根据权利要求3所述静电吸盘，其特征在于，多个所述吸附区域从内到外依次套设。5.根据权利要求3所述静电吸盘，其特征在于，在各所述吸附区域之间设有隔离件，以使不同所述吸附区域对应的空腔或者流道相互隔断。6.根据权利要求5所述静电吸盘，其特征在于，所述隔离件由陶瓷和/或石英材料制成。7.根据权利要求1所述静电吸盘，其特征在于，所述入流孔和所述出流孔均匀分布于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈恋，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：