冷却装置及湿法刻蚀设备制造方法及图纸

本申请实施例公开了冷却装置及湿法刻蚀设备，所述冷却装置包括槽体，所述槽体包括第一底板和绕设于所述第一底板外周的侧板，所述第一底板与所述侧板连接并形成用于放置液体的第一容纳腔，所述第一底板包括第一部分和连接所述第一部分的第二部分，所述第一部分与水平面的夹角大于0

【技术实现步骤摘要】
冷却装置及湿法刻蚀设备


[0001]本申请涉及半导体
，尤其涉及一种冷却装置及湿法刻蚀设备。

技术介绍

[0002]湿法刻蚀工艺指的是采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术。湿法刻蚀是用适当的刻蚀液，与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的部分脱离基片表面，而把有光刻胶覆盖的区域保存下来，这样便在刻蚀物表面得到了所需要的图案。刻蚀液在使用完成后需要排放到厂务端，然而刻蚀液的温度较高不便于直接排放到厂务端，需要待其冷却至管路所能承受的安全温度后再排放。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供了一种冷却装置及湿法刻蚀设备，使液体能够放入到冷却装置的槽体内进行冷却，并使冷却后的液体经排液管路排放。所述技术方案如下；
[0004]第一方面，本申请实施例提供了一种冷却装置，所述冷却装置包括：
[0005]槽体，所述槽体包括第一底板和绕设于所述第一底板外周的侧板，所述第一底板与所述侧板连接并形成用于放置液体的第一容纳腔，所述第一底板包括第一部分和连接所述第一部分的第二部分，所述第一部分与水平面的夹角本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冷却装置，其特征在于，所述冷却装置包括：槽体，所述槽体包括第一底板和绕设于所述第一底板外周的侧板，所述第一底板与所述侧板连接并形成用于放置液体的第一容纳腔，所述第一底板包括第一部分和连接所述第一部分的第二部分，所述第一部分与水平面的夹角大于0
°
且小于90
°
，所述第一部分与水平面的夹角大于或等于所述第二部分与水平面的夹角，所述第二部分上设置有与所述第一容纳腔连通的第一通孔；以及排液管路，所述排液管路设置于所述第一通孔处，且所述排液管路内的空腔经所述第一通孔与所述第一容纳腔连通，所述排液管路用于排出所述第一容纳腔内冷却后的液体。2.如权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，所述第一部分与水平面的夹角大于或等于15
°
以及小于或等于30
°
，所述第二部分与水平面的夹角为0
°
。3.如权利要求1所述的冷却装置，其特征在于，还包括：清洗液管路，所述清洗液管路与所述第一容纳腔连通，所述清洗液管路用于向所述第一容纳腔内注入清洗液。4.如权利要求3所述的冷却装置，其特征在于，所述第一底板具有顶面，所述侧板包括：第三部分，所述第三部分位于所述第一底板的所述顶面所在的一侧，且所述第三部分绕设于所述顶面的外周，所述第三部分与所述顶面形成所述第一容纳腔；所述第三部分或所述第一底板上设置有与所述第一容纳腔连通的第二通孔，所述清洗液管路经所述第二通孔与所述第一容纳腔连通。5.如权利要求4所述的冷却装置，其特征在于，所述第一底板的所述第一部分上设置有与所述第一容纳腔连通的所述第二通孔。6.如权利要求5所述的冷却装置，其特征在于，所述第一底板还具有与所述顶面相对的底面，所述侧板还包括第四部分，所述第四部分位于所述第一底板的所述底面所在的一侧，所述第四部分绕设于所述第一部分的外周，所述冷却装置还包括：第二底板，所述第二底板连接所述第四部分背离所述底面的一侧，且所述第二底板、所述第四部分和所述底面共同形成第二容纳腔；其中，所述第四部分上设置有与所述第二容纳腔连通的第三通孔，所述清洗液管路依次经所述第三通孔、所述第二容纳腔和所述第二通孔与所述第一容纳腔连通。7.如权利要求6所述的冷却装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：何源，张锐，庄武斌，李绪，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：