一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液及抛光方法技术

本发明专利技术提供了一种可见光辅助金刚石化学机械抛光方法，属于超硬材料超精密加工领域。抛光液由磨料、氧化剂、可见光光催化剂、去离子水构成。在可见光光源照射下，使用抛光液对金刚石进行化学机械抛光，可见光光源置于抛光盘正上方10

【技术实现步骤摘要】
一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液及抛光方法


[0001]本专利技术属于超硬材料超精密加工
，涉及到一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液及抛光方法。

技术介绍

[0002]金刚石出色的力学、热学、光学、声学、电学和化学特性使它被应用于超精密加工以及光学、声学和微电子等领域。这些领域的应用都对金刚石的加工精度和表面质量有很高的要求，由于金刚石的高硬度、高脆性、高化学稳定性等特性，使其成为极难加工的材料。因此实现金刚石高效超精密加工制造显得至关重要。
[0003]目前提高金刚石表面质量的加工方法有机械抛光、热化学抛光、离子束抛光、化学机械抛光等。机械抛光的抛光效率低，表面损伤层厚度高，质量差。热化学抛光加工设备复杂，抛光盘磨损和热变形问题严重。等离子体蚀刻后，单晶金刚石表面表现出明显的凹坑。相比之下，化学机械抛光处理后的表面粗糙度低。化学机械抛光是目前抛光金刚石的最好方法。但目前化学机械抛光存在抛光质量差、抛光效率低、污染环境等问题。此外目前有金刚石晶片紫外光辅助化学机械抛光的加工装置及工艺，但此装置和工艺复杂，用于工业生产较为困难。因本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液，其特征在于，所述的机械抛光液的成分包含磨料、氧化剂、可见光催化剂和去离子水，包括A组分、B组分，AB组分同时滴加能够用于抛光金刚石；所述的A组分由氧化剂、磨料和去离子水混合后搅拌均匀而成，A组分中：氧化剂的浓度为15wt％～25wt％，磨料浓度为0.04～0.08g/ml，粒径为0～0.25μm、0.5～1μm、1～3μm，去离子水的重量百分比为67％～81％；所述的B组分由可见光催化剂和去离子水混合后搅拌均匀而成，B组分中：可见光催化剂的浓度为0.02667～0.2667g/l。2.根据权利要求1所述的一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液，其特征在于，所述的氧化剂为过氧化氢。3.根据权利要求1所述的一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液，其特征在于，所述的磨料为二氧化硅、金刚石、氧化铈、氧化铝、氮化硼中的一种或几种。4.根据权利要求1所述的一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液，其特征在于，所述的的可见光催化剂为ZnO
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Fe2O3、氧化铈、铁酸镧、二氧化钛掺杂钴、二氧化钛掺杂纳米金刚石、铜铁水滑石掺杂纳米金刚石中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：金洙吉，杨辉鹏，王洪超，牛林，张笑宇，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：