【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于一种交流等离子体显示技术,尤其涉及金属栅网板障壁型交流等离子体显示板的制作方法。首先,前基板1的制作过程包括以下三个步骤1、在前玻璃基板3上用薄膜光刻的方法或厚膜贴膜或丝印感光材料光刻的方法制作透明扫描电极4x和公共电极4y,为了提高电极导电性,在透明电极上用丝印或光刻的方法制作导电性能优越的汇流电极5;2、在上述扫描电极4x、公共电极4y、汇流电极5和前玻璃基板3表面用丝网印刷或其他厚膜工艺制作形成介质材料膜,通常为低熔点玻璃材料,经过高温烧结后形成介质层6;3、在介质层6表面用电子束蒸法、离子溅射法、溶胶-凝胶法或化学气相沉积等方法制作保护层7,通常为MgO或包含MgO的复合材料;后基板的制作过程包括以下四个步骤4、在后玻璃基板8上用薄膜光刻的方法或厚膜感光材料光刻贴膜或丝印的方法制作寻址电极9;5、在上述寻址电极9和后玻璃基板8表面用丝网印刷或其他厚膜工艺制作形成介质材料膜,通常为低熔点玻璃材料,经过高温烧结后形成介质层10;6、在介质层10上面通过厚膜印刷、喷沙、光刻、模压等工艺用低熔点玻璃或添加其他类似于陶瓷材料的混合材料制作与寻址电极相应的特定形状的障壁11,形成基本放电空间单元;7、将红、绿和蓝三色荧光粉调成的浆料用丝印或光刻的方法分别在上述基本放电单元的障壁11内壁和介质层10表面形成厚膜,高温烧除浆料中的溶剂和粘结剂,形成红12r、绿12g、蓝12b三色荧光粉层;将上述前、后基板按下述8至11步进行装配封接8、在前1、后基板2中至少其中一片的外沿用低熔点玻璃粉或低熔点玻璃浆料制作封接框14用于将前、后基板粘合,在后基板 ...
【技术保护点】
一种金属栅网板型交流等离子体显示板的制作方法,包括前基板(17)、后基板(18)和栅网板(28)的制作,其特征在于按下述步骤: 首先,前基板(17)的制作过程包括以下三个步骤: (1)在前玻璃基板(19)上制作透明第二电极(20),为了提高电极导电性,在透明电极(20)上制作导电性能较好的汇流电极(21); (2)在上述第二电极(20)、汇流电极(21)和前玻璃基板(19)表面制作介质层(22); (3)在介质层(22)表面制作保护层(23),通常为MgO或包含MgO的复合材料; 后基板(18)的制作过程包括以下三个步骤: (4)在后玻璃基板(24)上制作第一电极(25); (5)在上述第一电极(25)和后玻璃基板(24)表面制作介质层(26); (6)在介质层(26)表面制作保护层(27),通常为MgO或包含MgO的复合材料; 金属栅网板(28)的制作过程包括以下五个步骤: (7)在金属板材单面或双面涂覆抗蚀性感光胶; (8)用曝光法制作所需形状的抗蚀层; (9)用腐蚀法在上述金属板材上制作所需图案的网孔; ...
【技术特征摘要】
1.一种金属栅网板型交流等离子体显示板的制作方法,包括前基板(17)、后基板(18)和栅网板(28)的制作,其特征在于按下述步骤首先,前基板(17)的制作过程包括以下三个步骤(1)在前玻璃基板(19)上制作透明第二电极(20),为了提高电极导电性,在透明电极(20)上制作导电性能较好的汇流电极(21);(2)在上述第二电极(20)、汇流电极(21)和前玻璃基板(19)表面制作介质层(22);(3)在介质层(22)表面制作保护层(23),通常为MgO或包含MgO的复合材料;后基板(18)的制作过程包括以下三个步骤(4)在后玻璃基板(24)上制作第一电极(25);(5)在上述第一电极(25)和后玻璃基板(24)表面制作介质层(26);(6)在介质层(26)表面制作保护层(27),通常为MgO或包含MgO的复合材料;金属栅网板(28)的制作过程包括以下五个步骤(7)在金属板材单面或双面涂覆抗蚀性感光胶;(8)用曝光法制作所需形状的抗蚀层;(9)用腐蚀法在上述金属板材上制作所需图案的网孔;(10)除去抗蚀层;(11)在网孔内部局部或全部分别依次制作红29r、绿29g、蓝29b三色荧光粉;将上述前基板(17)、栅网板(28)和后基板(18)按下述步骤进行装配封接(12)在前基板(17)、后基板(18)中至少其中一片的外沿用低熔点玻璃粉或低熔点玻璃浆料制作封接框(33),(13)在前、后基板中至少其中一片非显示区域开通孔(31)用于充、排气;(14)将上述前基板(17)、栅网板(28)和后基板(18)以三明治方式对准装配并固定;(15)利用高温将上述对准装配好的前、后基板上的封接框(33)熔化,同时将排气管(30)通过低熔点玻璃材料(32)于后基板通孔(31)处封接,退火降温后将前后基板封接成屏;(16)将排气管(30)于外部真空系统相连,排气管与真空系统封离。2.根据权利要求1所述的金属栅网板型交流等离子体显示板的制作方法,包括下述步骤首先,前基板17的制作过程包括以下三个步骤(1)在前玻璃基板(19)上用薄膜光刻的方法或厚膜贴膜或丝印感光材料光刻的方法制作透明第二电极(20),为了提高电极导电性,在透明电极(20)上用丝印或光刻的方法制作导电性能优越的汇流电极(21);(2)在上述第二电极(20)、汇流电极(21)和前玻璃基板(19)表面用丝网印刷或其他厚膜工艺制作形成介质材料膜,通常为低熔点玻璃材料,经过高温烧结后形成介质层(22);(3)在介质层(22)表面用电子束蒸法、离子溅射法、溶胶-凝胶法或化...
【专利技术属性】
技术研发人员:张雄,李青,王保平,
申请(专利权)人:东南大学,
类型:发明
国别省市:84[中国|南京]
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