等离子显示面板用含无机粒子组合物、转印薄膜和等离子显示面板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种等离子显示面板用含无机粒子组合物、使用该组合物的转印薄膜和等离子显示面板的制造方法。该组合物含有［Ａ］无机粒子和［Ｂ］具有用式（Ⅰ）表示的重复单元的聚合物。该组合物也可以进一步含有增塑剂和／或硅烷耦联剂。该组合物提供具有出色的各种特性的转印薄膜。本发明专利技术的等离子显示面板的制造方法能够在低温、短时间内的烧成工序中，有效地形成各种特性出色的等离子显示面板的构成要素。该制造方法例如具有通过将从由该组合物得到的膜形成材料层转印到基板上，烧成已转印的膜形成材料层，在上述基板上形成电介质层的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
近年来，作为平板状的荧光显示体，等离子显示器正受到人们的注目。图1是表示交流型的等离子显示面板(下面也称为“PDP”)的截面形状。在该图中，1和2是对抗配置的玻璃基板，3是隔壁，通过玻璃基板1、玻璃基板2和隔壁3分区形成单元。4是被固定于玻璃基板1的透明电极，5是以降低透明电极4的电阻为目的、在该透明电极4上形成的总线电极，6是被固定于玻璃基板2的地址电极，7是被保持在单元内的荧光物质，8是在用于覆盖透明电极4和总线电极5的玻璃基板1的表面上形成的电介质层，9是在用于覆盖地址电极6的玻璃基板2的表面上形成的电介质层，10是例如由氧化镁构成的保护膜。另外，对于彩色PDP，为了得到对比度高的图像，在玻璃基板与电介质层之间设有滤色器(color filter)(红色、绿色或蓝色)或黑矩阵等。作为这样的PDP电介质、隔壁、电极、荧光体、滤色器和黑条纹(矩阵)的制造方法，优选使用，在基板上形成含感光性无机粒子树脂层，在该膜上借助光掩模照射紫外线的基础上通过显影，在基板上残存图案，将其烧成的光刻法等。上述光刻法在原理上图案精度出色，特别是在使用转印薄膜的方法中，能够形成膜厚的均一性和表面的均一性出色的图案。但是，在烧成膜形成材料层的工序中，如果设定在高温下长时间的烧成条件，充分进行膜形成材料层的熔融，在膜形成材料层中容易产生裂缝，另外，设定在高温下长时间的烧成条件对带给烧成炉很大的负担，而且生产率低。所以需要膜形成材料层的在低温、短时间内的烧成工序。
技术实现思路
本专利技术是基于如上所述的情况而进行的。本专利技术的第1目的在于提供在低温、短时间内的烧成工序中能够适宜地形成表面平滑性出色的PDP的构成要素(例如隔壁、电极、电阻体、电介质层、荧光体、滤色器或者黑矩阵)的含无机粒子组合物。本专利技术的第2目的在于提供能够制造膜形成材料层的可挠性出色的转印薄膜的含无机粒子组合物。本专利技术的第3目的在于提供能够制造膜形成材料层的转印性(相对基板的加热粘附性)出色的转印薄膜的含无机粒子组合物。本专利技术的第4目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中能够有效地形成表面平滑性出色的PDP的构成要素的转印薄膜。本专利技术的第5目的在于提供膜形成材料层的可挠性出色的转印薄膜。本专利技术的第6目的在于提供膜形成材料层的可挠性(相对基板的加热粘附性)出色的转印薄膜。本专利技术的第7目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中能够有效地形成表面平滑性出色的PDP的构成要素的PDP制造方法。本专利技术的第8目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中能够有效地形成膜厚大的电介质层的PDP制造方法。本专利技术的第9目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中能够有效地形成大型面板需要的电介质层的PDP制造方法。本专利技术的第10目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中具有膜厚的均一性出色的电介质层的PDP制造方法。本专利技术的第11目的在于提供在低温和短时间内的烧成工序中具有表面平滑性出色的电介质层的PDP制造方法。本专利技术的含无机粒子组合物含有[A]无机粒子和含具有[B]用下述式(1)表示的重复单元的聚合物(下面也称为“聚合物[B-1]”)的粘结树脂。这样，无机粒子向粘接树脂的吸附强，通过在烧成时使无机粒子间的距离变短，而使低温、短时间内的烧成成为可能。 (式中，X表示氢原子或甲基，R1表示单键、亚甲基或碳原子数2～5的亚烃基、n表示1～6的整数。)本专利技术的含无机粒子组合物也可以是进一步含有[C]感放射线性成分的组合物(下面也称为“感放射线性含无机粒子组合物”)。本专利技术的转印薄膜具有由上述含无机粒子组合物得到的膜形成材料层。本专利技术的第1PDP的制造方法(下面也称为“PDP的制造方法(1)”)具有如下工序将由本专利技术的含无机粒子组合物得到的膜形成材料层转印到基板上，通过烧成已转印的膜形成材料层，在上述基板上形成电介质层。本专利技术的第2PDP的制造方法(下面也称为“PDP的制造方法(2)”)具有如下工序将由本专利技术的含无机粒子组合物得到的膜形成材料层转印到基板上，在已转印的膜形成材料层上形成抗蚀膜，曝光处理该抗蚀膜，形成抗蚀剂图案的潜像，显影处理该抗蚀膜，使抗蚀剂图案表面化，蚀刻处理该膜形成材料层，形成与抗蚀剂图案对应的图案层，通过烧成处理该图案层，形成从隔壁、电极、电阻体、电介质层、荧光体、滤色器和黑矩阵中选择的构成要素。另外，本专利技术的第3PDP的制造方法(下面也称为“PDP的制造方法(3)”)具有如下工序在支撑薄膜上形成抗蚀膜与由本专利技术的含无机粒子组合物得到的膜形成材料层的层叠膜，将在支撑薄膜上形成的层叠膜转印到基板上，曝光处理构成该层叠膜的抗蚀膜，形成抗蚀剂图案的潜像，显影处理该抗蚀膜，使抗蚀剂图案表面化，蚀刻处理该膜形成材料层，形成与抗蚀剂图案对应的图案层，通过烧成处理该图案层，形成从隔壁、电极、电阻体、电介质层、荧光体、滤色器和黑矩阵中选择的构成要素。本专利技术的第4PDP的制造方法(下面也称为“PDP的制造方法(4)”)具有如下工序将由本专利技术的含感放射线无机粒子组合物得到的膜形成材料层转印到基板上，曝光处理该膜形成材料层，形成图案的潜像，显影处理该膜形成材料层，形成图案层，通过烧成处理该图案层，形成从隔壁、电极、电阻体、电介质层、荧光体、滤色器和黑矩阵中选择的构成要素。附图说明图1是表示交流型等离子显示面板的截面形状的示意图。图2A是表示本专利技术的转印薄膜的简要截面图，图2B是表示该转印薄膜的层构成的截面图。图3A-3E是表示本专利技术的制造方法中的隔壁的形成工序(转印工序、抗蚀膜的形成工序和曝光工序)的一个例子的简要截面图。图4A-4D是表示本专利技术的制造方法中的隔壁的形成工序(显影工序、蚀刻工序和烧成工序)的一个例子的简要截面图。图中，1-玻璃基板，2-玻璃基板，3-隔壁，4-透明电极，5-总线电极，6-地址电极，7-荧光物质，8-电介质层，9-电介质层，10-保护层，F1-支撑薄膜，F2-膜形成材料层，F3-覆盖薄膜，11-玻璃基板，12-电极，13-电介质层，20-转印薄膜，21-膜形成材料层，22-支撑薄膜，25-隔壁图案层，25A-材料层残留部，25B-材料层去除部，31-抗蚀膜，35-抗蚀剂图案，35A-抗蚀剂残留部，35B-抗蚀剂去除部，40-隔壁，50-面板材料，M-曝光用掩模，MA-透光部，MB-遮光部。具体实施例方式下面对本专利技术的含无机粒子组合物(下面也可以称为“组合物”进行详细说明)。本专利技术的组合物通常含有无机粒子、粘结树脂和溶剂。在粘结树脂中含有聚合物[B-1]。<无机粒子> 对构成本专利技术的组合物的无机粒子的无机物质没有特别限定，可以根据通过该组合物形成的烧结体的用途(PDP的构成要素的种类)适宜选择。在这里，对于在用于形成构成PDP的“电介质层”或“隔壁”的组合物中含有的无机粒子，可以举出软化点在350～700℃(优选为400～600℃)的范围内的玻璃粉末。在玻璃粉末的软化点不到350℃时，在利用该组合物的膜形成材料层的烧成工序中，在粘结树脂等的有机物质没有被完全分解去除的阶段，玻璃粉末就会熔融，所以在形成的电介质层中残留有机物质的一部分，结果电介质层着色，其透光率降低。另一方面，玻璃粉末分软化点超过700本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子显示面板用含无机粒子组合物，其特征在于，含有［Ａ］无机粒子和［Ｂ］粘结树脂，该粘结树脂含有具有用下述式（Ⅰ）表示的重复单元的聚合物［Ｂ－１］，＊＊＊（Ⅰ）式中，Ｘ表示氢原子或甲基，Ｒ↑［１］表示单键、亚 甲基或碳原子数２～５的亚烃基、ｎ表示１～６的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-4-24 119490/20031.一种等离子显示面板用含无机粒子组合物，其特征在于，含有[A]无机粒子和[B]粘结树脂，该粘结树脂含具有用下述式(I)表示的重复单元的聚合物[B-1]， 式中，X表示氢原子或甲基，R1表示单键、亚甲基或碳原子数2～5的亚烃基、n表示1～6的整数。2.根据权利要求1所述的含无机粒子组合物，其特征在于，进一步含有[C]感放射线性成分。3.根据权利要求1所述的含无机粒子组合物，其特征在于，进一步含有增塑剂。4.根据权利要求1所述的含无机粒子组合物，其特征在于，进一步含有硅烷耦合剂。5.根据权利要求1所述的含无机粒子组合物，其特征在于，[B-1]聚合物为用下述式(i)表示的单体、与选自(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸羟烷基酯、以及(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯中的至少1种进行共聚合而得到的共聚物， 式中，X、R1和n的定义与上述式(I)相同。6.根据权利要求1所述的含无机粒子组合物，其特征在于，作为[A]无机粒子，含有软化点为350～700℃的玻璃粉末。7.一种转印薄膜，其特征在于，具有由权利要求1所述的含无机粒子组合物得到的膜形成材料层。8.一种转印薄膜，其特征在于，具有抗蚀膜和由权利要求1所述的含无机粒子组合物得到的膜形成材料层。9.一种等离子显示面板的制造方法，其特征在于，具有如下工序将由权利要求1所述的含无...

【专利技术属性】
技术研发人员：川岸诚治，山下隆德，伊藤克美，井上靖健，
申请(专利权)人：捷时雅股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]