等离子体处理检测用墨液组合物及等离子体处理检测指示器制造技术

本发明专利技术的课题在于提供不需要大型的装置、可以对被处理物各自个别检测等离子体处理的完成的墨液组合物及使用其的指示器。一种墨液组合物，其特征在于，其是含有色素及非离子系表面活性剂的等离子体处理检测用墨液组合物，其中，(1)上述色素为选自由蒽醌系色素、次甲基系色素、偶氮系色素及酞菁系色素组成的组中的至少1种，(2)上述非离子系表面活性剂为通式(I)～(V)所示的非离子系表面活性剂中的至少1种。〔其中，上述通式中，R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢、碳原子数为1～30的直链或支链的脂肪族烃基。X表示氧或酯键。AO表示来自环氧烷烃的重复单元。n表示1～200的整数。a+b+c表示3～200的整数。p+q表示0～20的整数〕。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及等离子体处理检测用墨液组合物及使用其的等离子体处理检测指示 器。另外，本说明书中的等离子体处理是指利用了通过使用等离子体产生用气体并施加交 流电压、脉冲电压、高频、微波等而产生的等离子体的等离子体处理，减压等离子体及大气 压等离子体这两者符合。
技术介绍
医院、研究所等中使用的各种器材、器具等为了消毒及杀菌而实施灭菌处理。作为 该灭菌处理之一，已知有等离子体灭菌处理（例如，非专利文献1的"3. 3. 1使用了低压力 放电等离子体的灭菌实验"栏）。 详细而言，等离子体灭菌处理是在等离子体产生用气体气氛下产生等离子体并利 用低温气体等离子体对器材、器具等进行灭菌的处理，从可以进行低温灭菌处理的方面考 虑是有利的。 此外，等离子体处理不仅用于灭菌处理，还用于半导体元件的制造工序中的等离 子体干式蚀刻及电子部件等被处理物的表面的等离子体洗涤。 等离子体干式蚀刻通常对配置于作为真空容器的反应腔室内的电极施加高频电 力，将导入至反应腔室内的等离子体产生用气体等离子体化而对半导体晶圆以高精度进行 蚀刻。此外，等离子体洗涤通过将在电子部件等被处理物的表面析出或附着的金属氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种墨液组合物，其是含有色素及非离子系表面活性剂的等离子体处理检测用墨液组合物，(1)所述色素为选自由蒽醌系色素、次甲基系色素、偶氮系色素、酞菁系色素、三苯基甲烷系色素及呫吨系色素组成的组中的至少1种，(2)所述非离子系表面活性剂为通式(I)～(V)所示的非离子系表面活性剂中的至少1种，[化学式1](I)   R1‑X‑(AO)n‑R2(V)   R1‑X(AO)p‑R2‑O≡C‑R3＝X‑(AO)q‑R4其中，所述通式中，R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢、碳原子数为1～30的直链或支链的脂肪族烃基；X表示氧或酯键；AO表示来自环氧烷烃的重复单元；n表示1～200的整数；a+b+c表示3...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大城盛作，森麻里萌，中村庆子，
申请(专利权)人：株式会社樱花彩色笔，
类型：发明
国别省市：日本;JP