离子束照射装置和离子束照射方法制造方法及图纸

一种离子束照射装置，具有真空室（１０）、离子源（２）、衬底驱动机构（３０）、旋转轴（１４）、臂（１２）以及电机。离子源（２）被布置在真空室（１０）的内部，并且发射宽度比衬底（６）大的离子束（４）到衬底（６）。衬底驱动机构（３０）往复驱动真空室（１０）中的衬底（６）。旋转轴（１４）的中心轴（１４ａ）位于朝向衬底的与离子源（２）分离的位置，并且基本上与衬底的表面平行。臂（１２）被布置在真空室（１０）的内部，并且通过旋转轴（１４）来支撑离子源（２）。电机被布置在真空室（１０）的外部，并且往复地旋转旋转轴（１４）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用离子束照射要处理的衬底从而处理该衬底的，在液晶显示器等类产品中，该装置和方法用于在液晶显示器的衬底表面上形成的配向膜上进行配向处理，或在液晶显示器的衬底表面上形成配向膜并且在配向膜上进行配向处理。
技术介绍
JP-A-9-218408(0011和0012栏，以及图1)(下文中称之为专利文献1)中公开了一种技术，该技术能够使离子束以预定入射角度进入在液晶显示器的衬底表面上形成的配向膜，从而对配向膜进行配向处理(即在预定方向上配向液晶分子的处理)。此外，JP-A-2002-62532(0018和0019栏，以及图2和图4)(下文中称之为专利文献2)中公开了一种技术，其能够在相对于衬底以预定角度放置的离子源在平行于衬底表面的方向上往复运动衬底的情况下，使用离子束来照射衬底表面，从而在衬底表面上形成液晶显示器的配向膜，并且对配向膜进行配向处理。专利文献1JP-A-9-218408专利文献2JP-A-2002-62532
技术实现思路
本专利技术要解决的问题 在诸如配向处理等通过离子束等进行的离子束照射中，离子束的照射条件经常发生改变，以便能够处理许多种情况。另外，离子束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离子束照射装置，包括：真空室，其被抽成真空；离子源，其被布置在所述真空室内部，并且使用宽度比衬底大的离子束来照射要处理的衬底；衬底驱动机构，其在基本上与从所述离子源发射的离子束的宽度方向相垂直的方向上驱动所述真空 室中的衬底；旋转轴，其穿过所述真空室，并且其中心轴位于朝向衬底的与所述离子源相分离的位置，并且基本上与衬底的表面平行；臂，其被布置在所述真空室内部，并且通过所述旋转轴来支撑所述离子源；以及电机，其被布置在所述真空室外 部，并且往复地旋转所述旋转轴，被支撑的所述离子源围绕所述旋转轴的所述中心...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-9-2 255648/20041.一种离子束照射装置，包括真空室，其被抽成真空；离子源，其被布置在所述真空室内部，并且使用宽度比衬底大的离子束来照射要处理的衬底；衬底驱动机构，其在基本上与从所述离子源发射的离子束的宽度方向相垂直的方向上驱动所述真空室中的衬底；旋转轴，其穿过所述真空室，并且其中心轴位于朝向衬底的与所述离子源相分离的位置，并且基本上与衬底的表面平行；臂，其被布置在所述真空室内部，并且通过所述旋转轴来支撑所述离子源；以及电机，其被布置在所述真空室外部，并且往复地旋转所述旋转轴，被支撑的所述离子源围绕所述旋转轴的所述中心轴是可旋转的。2.如权利要求1所述的离子束照射装置，其中所述旋转轴的所述中心轴和衬底的表面之间的距离等于或小于旋转方向一侧的所述离子源的宽度或所述离子源的出口一侧的宽度的大约一半。3.如权利要求1或2所述的离子束照射装置，其中通过中空的磁性部件来构造所述旋转轴和所述臂以便具有磁屏蔽功能，并且将其设置为地电位，并且下述导体穿过所述旋转轴和...

【专利技术属性】
技术研发人员：安东靖典，
申请(专利权)人：日新意旺机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]