一种制备纳米薄膜透射电镜试样的方法技术

一种新型的纳米磁性薄膜透射电镜试样的制备工艺，它可以利用一些现成的超声波切割机和砂轮切割机以及小机床，花费较少的人力和物力，制备出薄区良好的纳米磁性薄膜透射电镜试样，可以方便的进行纳米磁性薄膜的纳米尺度组织形貌观察和研究，深入了解磁性薄膜的组织和性能的关系，对更深入的科学研究十分有利。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金属材料领域。特别涉及多层纳米磁性薄膜透射电镜试样的--种新型制备工艺。
技术介绍
在急速发展的全球信息化中，为满足节能、环保和电子信息设备数字化、 多功能、智能化以及小型、轻便、灵巧等多种需要，磁性材料工业的发展越来 越成为衡量一个国家信息化程度的重要标志。其中，稀土铁基磁性材料是一种 适用性极广泛的信息工程材料，其中非晶和纳米晶软磁合金具有良好的软磁性 能，通过甩带加退火可以得到纳米晶态的软磁合金，该合金具有高饱和磁感应强度，高磁导率和低矫顽力的特点；稀土硬磁合金具有良好的硬磁性能，但饱 和磁感应强度相对较低。通过溅射技术，交替溅射沉积非晶软磁合金和硬磁合 金，制备复合多层膜，再通过适当的退火处理，得到纳米晶多层膜，就能够得 到综合性能优良的材料。事实上，纳米磁性薄膜最终的磁性能对薄膜材料的成 分、组织和厚度均匀性都比较敏感，而且由于薄膜材料的尺寸处于纳米尺度， 要进行深入的观察研究非常困难，最后都要求助于透射电镜或者高分辨电镜。 同时，由于磁性薄膜的厚度太小，透射电镜的试样尺寸要求为直径3mm的圆片， 制样过程极为困难。如果采用粒子束切片，其设备和场地的投资动辄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备纳米薄膜透射电镜试样的方法，包括如下步骤：　　　　（１）带有纳米薄膜的基片与不带有薄膜的基片胶接成块；　　　　（２）用超声波冲头沿纳米薄膜平行方向切下圆柱体；　　　　（３）将圆柱体放入软质薄管内径，并胶结固化；　　　　（４）砂轮在软质薄管端面切片；　　　　（５）磨平后离子减薄。

【技术特征摘要】
1. 一种制备纳米薄膜透射电镜试样的方法，包括如下步骤(1)带有纳米薄膜的基片与不带有薄膜的基片胶接成块；(2)用超声波冲头沿纳米薄膜平行方向切下圆柱体；(3)将圆柱体放入软质薄管内径，并胶结固化；(4)砂轮在软质薄管端面切片；(5)磨平后离子减薄。2、 如权利要求1所述的方法，其特征在于所述基片的直径在5mm-10mm 范围之间；得到胶结块的厚度在3mm-5mm范围之间。3、 如权利要求l所述的方法，其特征在于所述基片为硅片或玻璃片。4、 如权利要求1所述的方法，其特征在于所述步骤(1)中， 一块带有 纳米薄膜的基片与三块不带有薄膜的基片胶接成块，且纳米薄膜位于 胶结块的中间位置。5、...

【专利技术属性】
技术研发人员：严彪，王军，殷俊林，尤富强，唐人剑，司富明，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]