用于在电子柱中聚焦电子束的方法技术

本发明专利技术涉及用于在产生电子束的电子柱中改善聚焦的方法。根据本发明专利技术的用于控制电子束的聚焦的方法减小了当电子束到达试件时该电子束的光斑大小，从而能够提高分辨率并能够减小半导体光刻处理中的图案的线宽，由此能够改善电子的性能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体上涉及用于使电子束在生成该电子束的电子柱(electron column)中聚焦的方法，并且更具体地涉及以下方法该方法用于增大 电子束的能量同时在电子柱中聚焦电子束，从而进一步减小了聚焦的电 子束的光斑大小，由此能够实现精确的聚焦并且能够调整电子束的能量。
技术介绍
图1示出常规微柱(mocrocolumn)、小型电子柱的结构。电子柱包 括用于发射电子的电子发射器1、由三个电极层(即提取器电极层3a、 加速器电极层3b以及限制孔电极层3c)形成并且被配置为使电子从电子 发射器发射并有效地将发射的电子形成为一个束的源透镜3、用于使电子 束转向的转向器4、以及用于使电子束聚焦在试件(specimen)上的聚焦 透镜6。尽管可以按照需要用各种方式修改透镜和转向器的结构，但是一 般使用具有上述结构的电子柱。在具有上述结构的电子柱中，将负电压施加到电子发射器1。源透 镜3的所有电极层可以接地，或者可以将正电压施加到提取器电极层3a， 从而可以从电子发射器1平稳地发射电子。此外，可以将大的负电压施 加到电子发射器以增大电子束能量。此外，可以将负电压施加到提取器 电极层，以适当地维本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在电子柱中聚焦电子束的方法，该电子柱具有聚焦透镜，该方法包括以下步骤：将与从所述电子柱发射的所述电子束的能量相对应的预定电压施加到所述聚焦透镜的多个电极层中的每一个；以及　另外提供对于减速模式或加速模式所必需的电压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2005-12-5 10-2005-01173351.一种用于在电子柱中聚焦电子束的方法，该电子柱具有聚焦透镜，该方法包括以下步骤将与从所述电子柱发射的所述电子束的能量相对应的预定电压施加到所述聚焦透镜的多个电极层中的每一个；以及另外提供对于减速模式或加速模式所必...

【专利技术属性】
技术研发人员：金浩燮，安承濬，金大旭，金荣喆，
申请(专利权)人：电子线技术院株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]