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本发明涉及用于在产生电子束的电子柱中改善聚焦的方法。根据本发明的用于控制电子束的聚焦的方法减小了当电子束到达试件时该电子束的光斑大小，从而能够提高分辨率并能够减小半导体光刻处理中的图案的线宽，由此能够改善电子的性能。...
该专利属于电子线技术院株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过电子线技术院株式会社授权不得商用。

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