一种保障电镀电流稳定的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种保障电镀电流稳定的装置及方法，装置包括：储水槽，储水槽为上方开口的腔体；至少一块导电座，间隔安装在储水槽内部；导电组件，端部装配于导电座上；多个进水通道，间隔开设于导电座内部，进水通道的一端与导电组件的端部外壁相对应，另一端延伸至导电座的外壁上；多个出水通道，间隔连通于储水槽底部。方法包括采用上述装置进行电镀的方法。本发明专利技术解决了现有技术中电镀装置连接处易氧化，影响电流稳定性和电流效率的技术问题。电流稳定性和电流效率的技术问题。电流稳定性和电流效率的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种保障电镀电流稳定的装置及方法


[0001]本专利技术涉及电化学表面处理
，尤其涉及一种保障电镀电流稳定的装置及方法。

技术介绍

[0002]在电化学表面处理时，电镀行业用的导电装置主要是导电铜座连接阴极，被镀材料置于阳极，阳极铜棒与阴极铜座连接导电。
[0003]但是由于电镀环境以及电解液极易腐蚀铜座及阳极铜棒，导致两者表面极易形成氧化层进而导致连接处电阻增大，最终影响电镀电流效率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种保障电镀电流稳定的装置及方法，解决了现有技术中电镀装置连接处易氧化，影响电流稳定性和电流效率的技术问题。
[0005]本申请实施例公开了一种保障电镀电流稳定的装置，包括：
[0006]储水槽，所述储水槽为上方开口的腔体；
[0007]至少一块导电座，间隔安装在所述储水槽内部；
[0008]导电组件，端部装配于所述导电座上；
[0009]多个进水通道，间隔开设于所述导电座内部，所述进水通道的一端与所述导电组件的端部外壁相对应，另一端延伸至所述导电座的外壁上；
[0010]多个出水通道，间隔连通于所述储水槽底部。
[0011]本申请实施例对导电座进行设计，增加多个进水通道，能够实现间歇性的淋水，从而增加导电区域的润湿性，提高导电效率，有效提高电流利用率，保证电镀的质量。
[0012]在上述技术方案的基础上，本申请实施例还可以做如下改进：
[0013]进一步地，所述导电座上开设有V型的装配槽；
[0014]所述导电组件包括导电杆，所述导电杆的端部为V型，且所述导电杆的端部设置于所述装配槽内部，采用本步的有益效果是导电杆和装配槽相互配合，保证装配后的稳定性。
[0015]进一步地，所述进水通道与所述装配槽的内壁垂直，采用本步的有益效果是通过进水通道垂直避免水流在装配槽的底部堆积，影响后续的电流效率。
[0016]进一步地，每块所述导电座的进水通道为十四条，所述进水通道均匀分布于所述装配槽的两侧，采用本步的有益效果是通过多条进水通道能够提高淋水的均匀性。
[0017]进一步地，位于所述装配槽一侧的进水通道至少分为竖向间隔分布的两列，采用本步的有益效果是通过分布成两列的进水通道，能够提高淋水的均匀性。
[0018]进一步地，所述导电组件还包括：
[0019]至少两块导电块，分别与所述导电杆的两端连接；
[0020]滚筒，两端分别与所述导电块的内侧连接，采用本步的有益效果是通过导电组件便于后续的电镀。
[0021]进一步地，所述导电组件还包括防水硅胶，所述防水硅胶设置于所述导电块的内侧，采用本步的有益效果是避免电镀液对后续的导电产生影响。
[0022]进一步地，所述导电座为紫铜导电座，所述导电杆为外层包裹防酸碱涂层的紫铜杆，采用本步的有益效果是通过紫铜材质能够提高电流的稳定性。
[0023]本申请还一种保障电镀电流稳定的方法，采用上述的装置进行电镀，当电镀的电流大于100A时，每隔10
‑
20min，往所述进水通道内部注水，流速不大于1L/min；当电镀的电流小于等于100A时，停止往所述进水通道内部注水。
[0024]本申请实施例中提供的一个或者多个技术方案，至少具有如下技术效果或者优点：
[0025]1.本申请实施例增加多个进水通道，能够实现间歇性的淋水，从而增加导电区域的润湿性，提高导电效率，有效提高电流利用率，保证电镀的质量。
[0026]2.本申请实施例改变先导电座和导电组件用的材质，同时进行间隙性淋水，增强导电区域润湿性，有效提高电流利用率，改善电镀品外观品质。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本专利技术具体实施例所述的一种保障电镀电流稳定的装置的结构示意图；
[0029]图2为本专利技术具体实施例所述的一种保障电镀电流稳定的装置的滚筒部分的示意图；
[0030]图3为本专利技术具体实施例所述的一种保障电镀电流稳定的装置的导电块的左视图；
[0031]图4为本专利技术具体实施例所述的一种保障电镀电流稳定的装置的导电座的部分左视图；
[0032]附图标记：
[0033]1‑
储水槽；2
‑
导电座；3
‑
导电组件；4
‑
进水通道；5
‑
出水通道；6
‑
装配槽；
[0034]301
‑
导电杆；302
‑
导电块；303
‑
滚筒；304
‑
防水硅胶。
具体实施方式
[0035]下面将结合附图对本专利技术技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本专利技术的保护范围。
[0036]需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域技术人员所理解的通常意义。
[0037]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本
专利技术的限制。
[0038]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0039]为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体实施方式对上述技术方案进行详细说明。
[0040]实施例：
[0041]如图1、4所示，本申请实施例公开了一种保障电镀电流稳定的装置，包括：
[0042]储水槽1，所述储水槽1为上方开口的腔体，该储水槽1用于储水，当水流从后续的导电座落下时，能够盛水，避免水流四处流淌，其具体形状，没有限制，可以是长方体，或者其他形状；
[0043]至少一块导电座2，间隔安装在所述储水槽1内部，该导电座2用于支撑后续的导电组件，为了保证后续导电组件3的稳定装配，该导电座2为两块，间隔设置，用于放置后续导电组件的导电杆；
[0044]导电组件3，端部装配于所述导电座2上；
[0045]多个进水通道4，间隔开设于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种保障电镀电流稳定的装置，其特征在于，包括：储水槽，所述储水槽为上方开口的腔体；至少一块导电座，间隔安装在所述储水槽内部；导电组件，端部装配于所述导电座上；多个进水通道，间隔开设于所述导电座内部，所述进水通道的一端与所述导电组件的端部外壁相对应，另一端延伸至所述导电座的外壁上；多个出水通道，间隔连通于所述储水槽底部。2.根据权利要求1所述的一种保障电镀电流稳定的装置，其特征在于，所述导电座上开设有V型的装配槽；所述导电组件包括导电杆，所述导电杆的端部为V型，且所述导电杆的端部设置于所述装配槽内部。3.根据权利要求2所述的一种保障电镀电流稳定的装置，其特征在于，所述进水通道与所述装配槽的内壁垂直。4.根据权利要求3所述的一种保障电镀电流稳定的装置，其特征在于，每块所述导电座的进水通道为十四条，所述进水通道均匀分布于所述装配槽的两侧。5.根据权利要求4所述的一种保障电镀电流稳定的装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛明峰，
申请(专利权)人：扬州虹扬科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：