【技术实现步骤摘要】
一种HTCC金属化平整度控制装置
[0001]本技术涉及一种HTCC金属化平整度控制装置。
技术介绍
[0002]在高温共烧(High Temperature co
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fired Ceramic,HTCC)陶瓷外壳生产和应用中,随着自动键合设备的广泛运用,金属化平整度控制要求逐步提升。根据相关标准要求金属化平整度需≤0.05mm乃至更高的要求,尤其是高密度产品以及高分辨率、高像素的大规模CCD器件中,键合区和大面积金属化焊接区的平整度直接影响着键合的可靠性和芯片安装的平坦度。提升金属化平整度的途径之一即提高生瓷膜片表面的平整度。
技术实现思路
[0003]专利技术目的:针对上述现有技术,提出一种HTCC金属化平整度控制装置,通过控制金属浆料印刷的生瓷膜片表面的平整度来提高HTCC金属化的平整度。
[0004]技术方案:一种HTCC金属化平整度控制装置,包括压板、基座、底板;所述基座上开设若干凹槽,所述凹槽的底部平整,所述基座上表面平整;所述压板铰接在所述基座边缘,并能够平整的盖合在所述基座的上表面;所述底板为凸台型,所述底板对应置入所述基座上的凹槽内,并与所述凹槽间隙配合,所述底板的厚度小于所述凹槽的深度,两者的差值为生瓷膜片的厚度。
[0005]进一步的,所述压板和底板为不锈钢材料,表面进行抛光处理。
[0006]进一步的,所述基座上凹槽呈田字形排列。
[0007]进一步的,所述基座底部设有加热装置。
[0008]有益效果:本技术的一种HTC ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种HTCC金属化平整度控制装置,其特征在于,包括压板(1)、基座(2)、底板(3);所述基座(2)上开设若干凹槽,所述凹槽的底部平整,所述基座(2)上表面平整;所述压板(1)铰接在所述基座(2)边缘,并能够平整的盖合在所述基座(2)的上表面;所述底板(3)为凸台型,所述底板(3)对应置入所述基座(2)上的凹槽内,并与所述凹槽间隙配合,所述底板(3)的厚度小于所述凹槽的深度,两者的差...
【专利技术属性】
技术研发人员:邵康,蒋群伟,邵训达,
申请(专利权)人:江苏省宜兴电子器件总厂有限公司,
类型:新型
国别省市:
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