【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及白色纳米无机抗静电剂粉末的合成方法,尤其是SnO2、Sb2O3、In2O3或TiO2载于SiO2表面的粉体抗静电剂的合成方法。
技术介绍
纳米无机抗静电剂粉末主要以ZnO、Fe2O3、SnO2、TiO2、SiO2等为主,尤其以SnO2或Sb2O3载于TiO2表面的粉体抗静电效果最好,一般这类抗静电剂的电阻率可达0~104Ω·cm,特别适合用于浅色纤维、特种涂料等。但是,以上抗静电剂粉体在达到纳米级(100nm以下)后,颜色的稳定性下降,一般随在空气中暴露时间延长,粉末会由浅色变成黑色,限制了材料的应用。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种导电纳米二氧化硅(SiO2)的合成方法,所得产物为白色或浅白色粉末,分散均匀,颜色稳定性好,电阻率低,抗静电效果好。为达上述目的,本专利技术采用如下的技术方案导电纳米SiO2的合成方法,依次包括如下步骤A、配制重量百分比浓度为5%~30%的硅酸酯溶液、硅酸钠或硅酸钾溶液;B、加入复合表面活性剂,搅拌;C、加酸溶液,调节pH值到6~9;D、加入含Sn、Sb、In或Ti中的至少一种离子的盐酸盐或硫酸盐溶液,Sn、Sb、In、Ti的总摩尔浓度为0.1%~10%,搅拌;E、将D步骤所得产物过滤、洗涤、烘干,得粒径为20~80nm的白色或浅白色粉末。作为一种优选方案,所述D步骤中的盐酸盐或硫酸盐溶液中,含有Sn4+、Sb3+、In3+和Ti4+,各种离子的摩尔比为Sn4+∶Sb3+∶In3+∶Ti4+=0~5∶0~8∶0~10∶1。作为一种优选方案,所述D步骤中,搅拌速度为80~200转/分钟。作为又一种优选方案 ...
【技术保护点】
一种导电纳米二氧化硅的合成方法,其特征在于依次包括如下步骤:A、配制重量百分比浓度为5%~30%的硅酸酯溶液、硅酸钠或硅酸钾溶液;B、加入复合表面活性剂,搅拌;C、加入酸溶液,调节pH值到6~9;D、加入含S n、Sb、In或Ti中的至少一种离子的盐酸盐或硫酸盐溶液,Sn、Sb、In、Ti的总摩尔浓度为0.1%~10%,搅拌;E、将D步骤所得产物过滤、洗涤、烘干,得粒径为20~80nm的白色或浅白色粉末。
【技术特征摘要】
1.一种导电纳米二氧化硅的合成方法,其特征在于依次包括如下步骤A、配制重量百分比浓度为5%~30%的硅酸酯溶液、硅酸钠或硅酸钾溶液;B、加入复合表面活性剂,搅拌;C、加入酸溶液,调节pH值到6~9;D、加入含Sn、Sb、In或Ti中的至少一种离子的盐酸盐或硫酸盐溶液,Sn、Sb、In、Ti的总摩尔浓度为0.1%~10%,搅拌;E、将D步骤所得产物过滤、洗涤、烘干,得粒径为20~80nm的白色或浅白色粉末。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述D步骤中的盐酸盐或硫酸盐溶液中,含有Sn4+、Sb3+、In3+和Ti4+,各种离子的摩尔比为Sn4+∶Sb3+∶In3+∶Ti4+=0~5∶0~8∶0...
【专利技术属性】
技术研发人员:李玲,
申请(专利权)人:广州市精埔新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:81[中国|广州]
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