【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于制造光盘的母盘的制作方法,其中该光盘是一种光记录/再现介质。通常,高密度光盘如数字通用盘(DVD)-随机存取存储器(RAM)包括槽(groove)1和槽脊(land)2,其中信息沿螺旋式轨道记录,如附图说明图1所示。因此凹坑3分别形成在槽1和槽脊2上,从而在其上面记录期望的信息。由于同时使用槽1和槽脊2,所以与只在槽或在槽脊上记录的普通光盘相比,可以以高密度记录更大量的信息。光盘通过图2A至2D所示的过程制作。如图2A所示,光敏电阻20镀在衬底10上,然后在旋转衬底10时,按照槽,槽脊和凹坑的图形,用生成槽的激光器30和生成凹坑的激光器30′同时照射光敏电阻20表面,使光敏电阻20曝光。参考数字31和31′表示用于接通/断开激光器的调制器。接着,如图2B所示,蚀刻剂喷涂在曝光的衬底10上,从而制作出其上形成有槽、槽脊和凹坑的母盘15。母盘15经压模处理生成如图2C所示的父模25,然后通过注模法拷贝光盘,其中树脂35被注入到装有父模25的模件40中,如图2D所示。在上述方法中,由于槽脊,槽和凹坑的图形通过曝光然后同时蚀刻形成在光敏电阻层上,所以槽脊,槽和凹坑间的边界不尖锐。于是,在再现光盘信息期间,信息信号的起点和终点不能精确检测,从而增大输出信号不能及时产生的抖动误差。本专利技术的目的是提供生产用于形成光盘的母盘的方法,根据这种方法可以高密度记录大量信息并减少抖动误差。要实现上述目的,本专利技术的母盘制作方法包含下列步骤在衬底上镀第一光敏电阻层;根据分别对应于槽和槽脊的槽形凹口和槽脊形凸起,使第一光敏电阻层曝光;蚀刻衬底和第一光敏电 ...
【技术保护点】
一种制作母盘的方法,包括下列步骤: 在一衬底上镀第一光敏电阻层; 根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光; 对衬底和第一光敏电阻层进行蚀刻,从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起; 在衬底上镀第二光敏电阻层,从而形成槽和槽脊; 根据其中记录有预定信息的凹坑的图形,使第二光敏电阻层曝光;和 对第二光敏电阻层进行蚀刻,从而在槽和槽脊上形成凹坑。
【技术特征摘要】
KR 1997-9-12 47210/971.一种制作母盘的方法,包括下列步骤在一衬底上镀第一光敏电阻层;根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光;对衬底和第一光敏电阻层进行蚀刻,从而在衬底上形成槽形凹口...
【专利技术属性】
技术研发人员:卢明道,尹斗燮,郑承台,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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