多层信息记录介质制造技术

一种多层信息记录介质，其在记录或再现方面与单层信息记录介质兼容，该单层信息记录介质具有折射率为ｎ、沿光入射侧的厚度为ｔ的保护层，所述多层信息记录介质包括从该多层信息记录介质的光入射侧表面按顺序层放的第一记录层和第二记录层，其中所述第二记录层位于距所述光入射侧表面光程ｄ１处，且ｄ１满足等式：ｄ１＝ｎ×ｔ；所述第一记录层位于距所述光入射侧表面光程ｄ２处，且ｄ２满足不等式：ｄ２＜ｎ×ｔ；以及从所述第二记录层到所述第一记录层按顺序记录有物理地址信息。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及一种信息记录介质，如光盘、光卡等，更具体的说，涉及一种多层信息记录介质，其具有多个层叠在隔离层上的记录层。
技术介绍
近几年，光盘被广泛用作用于记录和再现如视频数据、音频数据、计算机数据等数据的装置。称为DVD(数字通用盘)的高密度记录盘已经应用于实际中。作为DVD中的一种，这种具有层压结构的多层盘具有多个记录层，该记录层可以从盘的一侧进行读取。一侧具有两个记录层的双层盘已作为用于复制的盘应用于实际中。如图1所示，用于复制的双层DVD包括浅记录层，其是由数据被读取的一侧的方向看过去的第一层，即最接近光线入射表面，和深或第二记录层。在双层盘中，任何记录在浅记录层内和深记录层内的信号都可以仅通过移动再现光束的焦点而从盘的一侧读取出来。浅记录层由半透明薄膜制成以使光线可以穿过浅记录层并读取深记录层的信号，对于浅记录层可以便利地选用薄膜的厚度和材料。反射薄膜被用于深记录层。对于光波长具有高投射比的光透射隔离层设置在浅记录层和深记录层之间，以用固定距离分离这些层。DVD标准规定，仅具有一个记录层的单层盘的记录层上的透射保护层，为600μm厚，如图2所示。另一方面，双层盘具有分别位于距光线入射表面570μm和630μm处的第一记录层和第二记录层，即单层DVD的记录层所位于的600μm的深度的上下。双层盘采用在厚度方向上位于单记录层上下的两层定位，因为用于记录和再现符合DVD标准的信号的光拾取系统包括具有相对小的0.6的数值孔径的物镜，该数值孔径是为600μm厚度的保护层而设计，并且即使使用这种小数值孔径的物镜，在第一层和第二层的深度方向上均距离单记录层大约30μm的偏差不会显著影响信号的读取。在这种情况下，尽管记录层的30μm的偏差引起读取光线的波象差，波象差的数量太小以致不会在数值孔径大约为0.6数量级时产生问题。超出了双层盘的第一记录层的长节目，如电影，被从两个记录层进行再现。DVD标准还规定了用于从两层连续再现的单侧信号再现方式，称之为反向轨迹(opposite track path)再现方式。反向轨迹再现方式包括从位于570μm深度的记录层由内周向外围进行再现，将焦点从记录层的外围跳转到位于630μm深度的记录层上，并从外围向内周地再现较深记录层上的信号。在这种情况下，通过读取代表记录在位于570μm深度的层上的盘内容的信息区域，装置可以依据反向轨迹再现方式读出DVD的标题、节目持续时间或双层盘。此时，信息数量的增加要求下一代的光盘具有更高密度。应当考虑到物镜的数值孔径针对更高密度将增加到0.8或更高。当使用具有这种大数值孔径的物镜时，由记录层上的保护层的厚度的误差所引起的波象差的数量增加太多以致于不能读取信号，从而不易于再现具有两个记录层结构的下一代光盘。因此，应当考虑到将能够调整波象差数量的光学系统引入到拾取器中，以进行补偿从而避免记录层深度产生的波象差。当用于补偿波象差的光学系统被用于读取单层盘和多层盘如下一代的双层盘并同时保持兼容性时，差别存在于与各记录层之间的深度相应的保护层厚度中，从而光线必须聚焦在每个记录层上并同时校正波象差，以搜索导入信息等。这引起了这样的问题，即如果在再现单层盘后立即再现双层盘，开始再现所用的时间将变长。另外，通过采用大数值孔径，更厚的保护层使得对倾斜盘的允许范围显著缩小，从而具有比单层盘更厚的保护层的多层盘必须制造为比单层盘更好的盘表面的平面性。
技术实现思路
本专利技术是考虑到上述情况而作出的，本专利技术的目的在于提供一种多层信息记录介质，其允许即使在使用具有0.8或更高的大数值孔径的物镜进行信息记录或再现时，也能快速数据再现，并且其可以制造成与单层盘具有相等的平面性，本专利技术还提供一种适合使用多层信息记录介质的信息记录和再现装置。根据本专利技术，提供了一种具有多个在一侧层叠在隔离层上的记录层的多层信息记录介质，其用于可以记录或再现一侧具有用作通过使光线穿过保护层照射到记录层而改变反射率的单记录层和保护层的单层信息记录介质上的信息的记录和再现装置。本专利技术的多层信息记录介质包括最深记录层，其位于从光入射侧表面到最深的光程d1满足等式d1＝nt的位置处，其中“n”表示至少在再现和记录方面而言与所述多层信息记录介质兼容的单层信息记录介质的保护层的预定折射率，“t”表示所述保护层的厚度；和至少一个浅记录层，其位于从光入射侧表面到光程d2满足不等式d2＜nt的位置处。根据本专利技术的一方面，所述多层信息记录介质仅包括由所述最深记录层和所述浅记录层构成的两层。根据本专利技术的多层信息记录介质的另一方面，物理地址信息由光入射侧表面从所述浅记录层向所述最深记录层以较浅次序顺序记录。根据本专利技术的多层信息记录介质的再一方面，物理地址信息从所述最深记录层的内周向外围按顺序顺序记录。根据本专利技术的多层信息记录介质的还一方面，物理地址信息从光入射侧表面在前进方向上从内周到外围和在相反的方向上从外围到内周交替的在从所述浅记录层到所述最深记录层的记录层的每个上以较浅次序顺序记录。根据本专利技术的多层信息记录介质的另一方面，与在所述浅记录层上的所有内容相关的预定内容信息记录在所述最深记录层内。根据本专利技术，还提供了一种信息记录和再现装置，其可以通过光束照射记录或再现具有单记录层的单层信息记录介质或一侧具有多个层叠在保护层上的记录层的多层信息记录介质上的信息。本专利技术的信息记录和再现装置包括光学拾取器，其具有将光线照射到多层信息记录介质上的物镜，该多层信息记录介质包括最深记录层，其位于从光入射侧表面到最深的光程d1满足等式d1＝nt的位置处，其中“n”表示至少在再现和记录方面而言与所述多层信息记录介质兼容的单层信息记录介质的保护层的预定折射率，“t”表示所述保护层的厚度，和至少一个浅记录层，其位于从光入射侧表面到光程d2满足不等式d2＜nt的位置处；和聚焦伺服电路，其控制物镜首先将光线聚焦到位于光程d1的所述最深记录层上，并执行初始聚焦伺服操作。根据本专利技术的信息记录和再现装置的另一方面，所述聚焦伺服电路执行在执行所述初始聚焦伺服操作之后将聚焦位置跳跃到位于光程d2的所述浅记录层上的聚焦伺服操作。根据本专利技术的信息记录和再现装置的再一方面，所述物镜具有等于和大于0.8的数值孔径，以用于产生光线的会聚光点。根据本专利技术的信息记录和再现装置的还一方面，该装置进一步包括波象差校正部分，其改变包括在所述聚焦光点内的波象差的数量。根据本专利技术的信息记录和再现装置的又一方面，所述物镜包括一组物镜，其在光点聚焦于距离光程d1的位置处时最小化光束内的波象差的数量。附图说明图1是双层盘的横截面示意图；图2是单层盘的横截面示意图；图3是根据本专利技术的双层盘的横截面示意图；图4是与本专利技术的双层盘兼容的单层盘横截面示意图；和图5是说明根据本专利技术的记录和再现装置的结构的示意性方框图。具体实施例方式下面将结合附图对本专利技术的实施例进行说明。<双层盘> 根据本专利技术的第一实施例的典型的多层盘是具有由例如图3所示的记录层L1、L2构成的两层结构的双层盘。这种双层盘在再现或记录方面而言与单层盘(图4)是兼容的，在单层盘上通过预定的再现和记录装置穿过具有预定折射率n和厚度t的光入射侧表面上的记录层上的保护层而执行记录或再现。最深本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有单记录层的单层信息记录介质，其在再现或记录方面与多层信息记录介质兼容，所述多层信息记录介质具有从光入射侧表面按顺序层放的第一记录层和第二记录层，所述第二记录层位于距所述光入射侧表面光程ｄ处，所述单层信息记录介 质的特征在于其包括：保护层，其折射率为ｎ、厚度为ｔ，且满足等式ｄ＝ｎ×ｔ，其位于所述单记录层上且在所述光入射侧。

【技术特征摘要】
JP 2001-5-25 156477/20011.一种具有单记录层的单层信息记录介质，其在再现或记录方面与多层信息记录介质兼容，所述多层信息记录介质具有从光入射侧表面按顺序层放的第一记录层和第二记录层，所述第二记录层位于距所述光入射侧表面光程d处，所述单层信息记录介质的特征在于其包括保护层，其折射率为n、厚度为t，且满足等式d＝n×t，其位于所述单记录层上且在所述光入射侧。2.根据权利要求1的单层信息记录介质，其中所述多层信息记录介质与所述单层信息记录介质的兼容性体现在盘直径、整个盘厚度以及道间距方面是共同的。3.根据权利要求2的单层信息记录介质，其中所述多层信息记录介质与所述单层信息记录介质的兼容性体现在最小间距长度、弯曲角度、双折射率、格式方面是共同的。4.一种具有单记录层的单层信息记录介质，其在再现或记录方面与多层信息记录介质兼容，所述多层信息记录介质具有从光入射侧表面按顺序层放的保护层、第一记录层、隔离层和第二记录层，所述保护层的折射率为nC，厚度为tC，所述第一记录层的折射率为nL1，厚度为tL1，所述隔离层的折射率为nS，厚度为tS，所述单层信息记录介质的特征在于其包括保护层，其折射率为n，厚度为t，且满足等式n×t＝nC×tC+nL1×tL1+nS×tS，其位于所述单记录...

【专利技术属性】
技术研发人员：大泽诚一，前田孝则，
申请(专利权)人：先锋株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]