湿法腐蚀夹具制造技术

本实用新型专利技术属于微纳加工技术领域，具体涉及一种湿法腐蚀夹具，包括底座、顶盖和密封机构，底座上设有承载部，用于承载待腐蚀的晶圆，顶盖设在底座上方，密封机构用于防止腐蚀液接触朝承载部的晶圆正面，密封机构、顶盖和晶圆背面共同形成用于容纳腐蚀液的腔室。本实用新型专利技术提供的湿法腐蚀夹具具有一用于容纳腐蚀液的腔室，使用时只需在装载好待腐蚀的晶圆后，向腔室内装入些许腐蚀液，即可完成对晶圆背面的全面腐蚀。该夹具无需保护胶即可实现对晶圆背面的保护，而且使用夹具时无需将夹具浸没在腐蚀液中，可以节约大量腐蚀液。可以节约大量腐蚀液。可以节约大量腐蚀液。

【技术实现步骤摘要】
湿法腐蚀夹具


[0001]本技术属于微纳加工
，具体涉及一种湿法腐蚀夹具。

技术介绍

[0002]微纳加工即是微米级纳米级单位的加工，常常应用在材料科学和芯片设计等领域，一般是通过光刻技术、LIGA技术、键合技术、封装技术等，把图形转移到衬底上面，衬底一般是硅晶圆。
[0003]为了将芯片功能化，一般要在晶圆正面镀金属膜、半导体膜等，在晶圆背面则选择性腐蚀部分晶圆。在湿法腐蚀工艺中，腐蚀液往往能和晶圆正面的膜材料发生反应，从而破坏晶圆正面的膜结构。通常的保护晶圆正面膜结构的方法是将保护胶旋涂在晶圆正面，但这种方法成本高，效果差，且保护胶不易去除。
[0004]专利技术专利CN105405802A公开了一种湿法腐蚀保护夹具，可以在不涂保护胶的情况下保护晶圆正面不受腐蚀，但为了完成腐蚀，需要将夹具浸没在腐蚀液中，这就需要用到一个比夹具更大的容器，用来装腐蚀液和夹具，采用这种腐蚀方式，不仅取放夹具不方便，而且需要用到大量的腐蚀液。

技术实现思路

[0005]为解决上述问题，本技术提供一种湿法腐蚀夹具，使用时无需将夹具浸没在腐蚀液中，更节约腐蚀液。
[0006]具体地，本技术的技术方案是：
[0007]一种湿法腐蚀夹具，包括底座、顶盖和密封机构，底座上设有承载部，用于承载待腐蚀的晶圆，顶盖设在底座上方，密封机构用于防止腐蚀液接触朝承载部的晶圆正面，密封机构、顶盖和晶圆背面共同形成用于容纳腐蚀液的腔室。
[0008]优选地，还包括搅拌器，搅拌器的搅拌头位于承载部上方。<br/>[0009]优选地，所述搅拌器的搅拌轴设在顶盖中央，搅拌头设在搅拌轴的一端，搅拌轴的另一端穿过顶盖与搅拌器的驱动装置连接。
[0010]优选地，所述密封机构包括锁紧机构和设在承载部上方的密封圈，待腐蚀的晶圆放置在承载部与密封圈之间，密封圈的内径小于待腐蚀的晶圆的尺寸，在锁紧机构的锁紧下，顶盖紧压密封圈。
[0011]优选地，所述底座顶面设有第一凹槽，第一凹槽为圆柱形结构，密封圈为圆环形结构，外径小于第一凹槽的直径，承载部为设在第一凹槽内的承载片，承载片为圆形结构。
[0012]优选地，所述承载片下方设有缓冲垫圈，缓冲垫圈与密封圈尺寸相同。
[0013]优选地，所述顶盖包括圆柱体，圆柱体的顶部设有沿径向向外延伸的延伸部，圆柱体的底面设有向上凹陷的第二凹槽，第二凹槽的直径与密封圈的内径一致，搅拌头设在第二凹槽内，锁紧机构包括多个连接延伸部与底座的螺钉。
[0014]优选地，所述顶盖包括上盖和下盖，上盖为圆盘结构，设在下盖上方，搅拌轴设在
上盖中央。
[0015]优选地，所述延伸部的外周面与底座的外周面平齐，底座上环绕第一凹槽设有多个第一螺孔，延伸部上设有第二螺孔，螺钉螺接第一螺孔和第二螺孔并锁紧，而将顶盖固定在底座上。
[0016]优选地，所述承载片采用耐碱腐蚀的玻璃或钢材制成，底座和顶盖采用聚四氟材料制成。
[0017]本技术提供的湿法腐蚀夹具具有一用于容纳腐蚀液的腔室，使用时只需在装载好待腐蚀的晶圆后，向腔室内装入些许腐蚀液，即可完成对晶圆背面的全面腐蚀。该夹具无需保护胶即可实现对晶圆背面的保护，而且使用夹具时无需将夹具浸没在腐蚀液中，可以节约大量腐蚀液。
附图说明
[0018]图1为本技术实施例一的结构图；
[0019]图2为本技术实施例一的分解结构图；
[0020]图3为本技术实施例一另一视角的分解结构图；
[0021]图4为本技术实施例一的剖视图一；
[0022]图5为图4中A部分的放大图；
[0023]图6为本技术实施例一的剖视图二；
[0024]图7为本技术实施例一顶盖和搅拌头的剖视图。
具体实施方式
[0025]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步详细说明。
[0026]实施例一：
[0027]如图1至7所示，一种湿法腐蚀夹具，包括底座1、顶盖和密封机构，底座1上设有承载部，用于承载待腐蚀的晶圆3，装载晶圆3时，晶圆正面朝承载部，晶圆背面朝顶盖。顶盖设在底座1上方，密封机构用于防止腐蚀液接触朝承载部的晶圆正面，密封机构、顶盖和晶圆背面共同形成用于容纳腐蚀液的腔室9。
[0028]本技术提供的湿法腐蚀夹具具有用于容纳腐蚀液的腔室9，使用时只需在装载好待腐蚀的晶圆3后，向腔室9内装入些许腐蚀液，即可完成对晶圆背面的全面腐蚀，而无需将夹具浸没在腐蚀液中，可以节约大量腐蚀液。
[0029]进一步地，上述湿法腐蚀夹具还包括搅拌器5，搅拌器5的搅拌头位于承载部上方。在对晶圆背面进行腐蚀时，搅拌器5可以对腔室9内的腐蚀液进行充分搅拌，使晶圆背面被均匀地腐蚀。
[0030]进一步地，搅拌器5的搅拌轴设在顶盖中央，搅拌头设在搅拌轴的一端，搅拌轴的另一端穿过顶盖与搅拌器的驱动装置连接。搅拌头的作用是将夹具内的腐蚀液搅拌均匀，最好设置在夹具中央。本技术采用的搅拌器为现有的搅拌器，在市场上可以购买得到，搅拌器本身的结构并非本技术的改进点，因而在附图中并未完整示出(搅拌轴和驱动装置均未示出)，而是仅对搅拌头的安装位置进行了示意。
[0031]进一步地，密封机构包括锁紧机构和设在承载部上方的密封圈61，待腐蚀的晶圆3
放置在承载部与密封圈61之间，密封圈61的内径略小于待腐蚀的晶圆3的尺寸，以确保顶盖不直接接触晶圆3。在锁紧机构的锁紧下，顶盖紧压密封圈61。具体地，密封圈61可以采用耐碱液腐蚀的氟橡胶或氯橡胶制成。在本实施例中，密封圈61的外径略大于待腐蚀的晶圆3的尺寸，以确保密封圈61可以完全保护到晶圆3的边缘，防止晶圆3的边缘直接与顶盖接触。
[0032]采用密封圈61和锁紧机构实现密封，防止腐蚀液接触晶圆3朝承载部的一面，结构简单，操作方便。在其它实施例中，还可以采用现有的其它结构的密封机构实现密封。
[0033]进一步地，底座1顶面向下凹陷形成第一凹槽11，第一凹槽11为圆柱形结构，密封圈61为圆环形结构，外径略小于第一凹槽11的直径，以便于密封圈61的装载和取出，承载部为设在第一凹槽11内的承载片12，承载片12为圆形结构，外径与待腐蚀的晶圆3一致；承载片12的尺寸如果过小，装载晶圆3时容易压坏晶圆3，承载片12的尺寸如果过大，不便于将承载片12从第一凹槽11中取出。在本实施例中，底座1为圆柱形结构，使夹具结构紧凑。
[0034]进一步地，承载片12采用耐碱腐蚀的玻璃或钢材制成，底座1和顶盖采用聚四氟材料制成，成本低，易于制造。
[0035]进一步地，承载片12下方设有缓冲垫圈62，缓冲垫圈62可以缓冲顶盖对晶圆3的压力，承载片12可以保护晶圆3，防止晶圆3破裂，缓冲垫圈62与密封圈61尺寸相同，以使缓冲垫圈62与密封圈61位置尽可能一致，更好地缓冲顶盖对晶圆3的压力。
[0036]进一步地，如图7所示，顶盖包括一圆柱体，圆柱体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿法腐蚀夹具，其特征在于，包括底座、顶盖和密封机构，底座上设有承载部，用于承载待腐蚀的晶圆，顶盖设在底座上方，密封机构用于防止腐蚀液接触朝承载部的晶圆正面，密封机构、顶盖和晶圆背面共同形成用于容纳腐蚀液的腔室。2.如权利要求1所述的湿法腐蚀夹具，其特征在于，还包括搅拌器，搅拌器的搅拌头位于承载部上方。3.如权利要求2所述的湿法腐蚀夹具，其特征在于，所述搅拌器的搅拌轴设在顶盖中央，搅拌头设在搅拌轴的一端，搅拌轴的另一端穿过顶盖与搅拌器的驱动装置连接。4.如权利要求3所述的湿法腐蚀夹具，其特征在于，所述密封机构包括锁紧机构和设在承载部上方的密封圈，待腐蚀的晶圆放置在承载部与密封圈之间，密封圈的内径小于待腐蚀的晶圆的尺寸，在锁紧机构的锁紧下，顶盖紧压密封圈。5.如权利要求4所述的湿法腐蚀夹具，其特征在于，所述底座顶面设有第一凹槽，第一凹槽为圆柱形结构，密封圈为圆环形结构，外径小于第一凹槽的直径，承载部为设在第一凹槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖洪钢，
申请(专利权)人：厦门超新芯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：