光干涉式彩色显示面板的制造方法技术

本发明专利技术是有关于一种光干涉式彩色显示面板的制造方法，首先是在一基板上形成一第一电极结构。之后在第一电极结构上定义出至少一第一区域、第二区域与第三区域。接着，在第一区域、第二区域与第三区域内的第一电极结构上形成一第一牺牲层，在第二区域与第三区域内的第一牺牲层上形成一第二牺牲层，并在第三区域内的第二牺牲层上形成一第三牺牲层，而对于相同或不同的蚀刻液而言，各牺牲层的被蚀刻速率皆不相同。接着，形成一图案化支撑层在第一电极结构上，随后形成一第二电极层并移除所有的牺牲层，以形成多个空气间隙。因此，由于各牺牲层的被蚀刻速率不相同，故可有效控制所形成的空气间隙。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种能够有效控制空气间隙的。
技术介绍
目前具有重量轻、厚度薄的平面显示器，例如液晶显示器(LCD)、有机电激发光显示元件(OLED)与电浆显示器(PDP)等已被广泛的应用于日常生活中。其中，液晶显示器已经渐渐成为显示器的主流，但液晶显示器仍然存在有许多的问题，例如是视角不够广、应答时间不够快以及需要使用偏光片(polarizer)而使光源利用效率不佳等问题。现今已有一种光干涉式显示面板被发展出来，请参阅图1所示，其绘示为现有习知光干涉式彩色显示面板的结构示意图。现有习知光干涉式彩色显示面板100主要是由一透明基板110、一第一电极结构120、一图案化支撑层130以及第二电极层140所构成。其中，第一电极结构120由下至上依序是由多个第一电极122、吸收膜层(absorption layer)124与光学膜层126所构成。值得留意的是，在第一电极结构120与光学膜层126之间会间隔出多个空气间隙(Air Gap)G1、G2与G3。当光线由透明基板110进入至第一电极结构120后，会经过空气间隙G1、G2与G3并入射至第二电极层140上。接着，再藉由第二电极层140从第一电极结构120反射出来。由于光线在不同的空气间隙G1、G2与G3中会受到不同程度的干涉(interference)，进而呈现不同色光，如红光、绿光以及蓝光，以达到显示效果。然而，不同的空气间隙G1、G2、与G3乃是藉由形成不同厚度的牺牲层(将详述在后)所控制。换言之，牺牲层品质的好坏，将会严重影响光干涉式彩色显示面板100的光学显示特性。图2A-2D绘示现有习知形成牺牲层的流程剖面图。请首先参阅图2A所示，首先，提供一透明基板110，在透明基板110上形成第一电极结构120，而第一电极结构120由下至上依序是由多个第一电极122、吸收膜层(absorption layer)124与光学膜层126所构成。此外，在第一电极结构120上可定义出第一区域10、第二区域20与第三区域30。请参阅图2B所示，接着，全面性沉积第一牺牲层132(非晶硅)。然后，进行微影/蚀刻制程，以移除第一区域10、第二区域20与第三区域30以外的第一牺牲层132，以形成图案化的第一牺牲层132。请参阅图2C所示，全面性沉积第二牺牲层134，而第二牺牲层134的材质与第一牺牲层132相同。然后，进行微影/蚀刻制程，以移除第二区域20与第三区域30以外的第二牺牲层134，以形成图案化的第二牺牲层134。值得注意的是，在藉由蚀刻制程移除第一显示区域10内的第二牺牲层132时，由于第一牺牲层132与第二牺牲层134为相同的材质(具有相同的被蚀刻速率)，因此，该蚀刻制程所使用的蚀刻液很容易对已形成的第一牺牲层132造成损害，而改变了第一牺牲层132的初始厚度，进而对后续制程造成影响。请参阅图2D所示，接着，全面性沉积第三牺牲层136，而第三牺牲层136的材质与第一牺牲层132、第二牺牲层134皆相同。然后，接着进行微影/蚀刻制程，以移除第三区域30以外的第三牺牲层136，并形成图案化的第三牺牲层136，至此，各牺牲层便制作完成。值得注意的是，在藉由蚀刻制程移除第一显示区域10内的第三牺牲层136时，由于第三牺牲层136位于第一牺牲层132上，因此，很容易再对第一牺牲层132造成损害。同样地，在藉由蚀刻制程移除第二显示区域20内的第三牺牲层136时，由于第三牺牲层136位于第一牺牲层132上，且第三牺牲层136与第一牺牲层132的被蚀刻速率相同，因此，在移除第三牺牲层136时，很容易对第二牺牲层134造成损害。最后，全面性涂布一层例如是光阻材料，并将光阻材料图案化以形成图案化支撑层130。接着，形成第二电极层140在第一区域10、第二区域与第三区域30内不同厚度的牺牲层上与图案化支撑层130的部份区域上，再利用六氟化氙(XeF6)将所有牺牲层132、134、136移除，以形成不同的空气间隙G1、G2、G3(请参阅图1)。换言之，不同的空气间隙G1、G2与G3是由沉积牺牲层的厚度所控制。若是牺牲层因被损害而改变原先设计的厚度，便无法有效地控制所形成的空气间隙G1、G2与G3的大小，进而严重影响光干涉式彩色显示面板100的光学显示特性。在前述制程稳定度不佳的情况下，现有习知技术十分容易有良率下降与制造成本上升的问题。由此可见，上述现有的，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决的道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般制造方法又没有适切的制造方法能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。有鉴于上述现有的存在的缺陷，本专利技术人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新的，能够改进一般现有的，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作及改进后，终于创设出确具实用价值的本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，克服现有的存在的缺陷，而提供一种新的，所要解决的技术问题是使其可准确掌握形成牺牲层的厚度，进而形成品质较佳的空气间隙。本专利技术另一目的在于，提供一种，所要解决的技术问题是使其可形成品质较佳的空气间隙，因此，更可提升光干涉式彩色显示面板的光学显示特性，从而更加适于实用。为达上述的专利技术目的，一种，此方法首先提供一基板，在基板上形成一第一电极结构。的后在第一电极结构上定义出一第一区域、一第二区域与一第三区域。接着，在第一区域、第二区域与第三区域内的第一电极结构上形成一第一牺牲层。此外，在第二区域与第三区域内的第一牺牲层上形成一第二牺牲层。另外，在第三区域内的第二牺牲层上形成一第三牺牲层，而第一牺牲层、第二牺牲层与第三牺牲层的被蚀刻速率(etching rate)皆不相同。接着，形成一图案化支撑层于第一电极结构上，随后形成一第二电极层在第一区域的第一牺牲层上、第二区域的第二牺牲层上、第三区域的第三牺牲层上与图案化支撑层的部分区域上。最后，移除第一牺牲层、第二牺牲层与第三牺牲层，以于第一电极结构与第二电极层的间形成多个空气间隙(air gap)。本专利技术的一实施例所述的，其中透明基板例如包括玻璃基板或塑胶基板。本专利技术的一实施例所述的，其中第一电极结构的形成方法，首先，在基板上形成多个第一电极。接着，在多个第一电极上形成一吸收膜层(absorption layer)。最后，在吸收膜层上形成一光学膜层。本专利技术的一实施例所述的，其中多个第一电极例如是透明电极且其材质例如包括铟锡氧化物。本专利技术的一实施例所述的，其中吸收膜层的材质例如包括铬(Cr)与铬化钼(MoCr)其中之一。本专利技术的一实施例所述的，其中光学膜层的材质例如包括氮硅化物与氧硅化物其中之一。本专利技术的一实施例所述的，其中图案化支撑层的材质例如包括光阻材料。本专利技术的一实施例所述的，其中第二牺牲层的被蚀刻速率大于第一牺牲层1.5倍，且第三牺牲层的被蚀刻速率大于第二牺牲层1.5倍。本专利技术的一实施例所述的，其中第一牺牲层的材质例如是选自铬化钼、钼、多晶硅、非晶硅与N型非晶硅。本专利技术的一实施例所述的，其中第二牺牲层的材质例如是选自铬化钼、钼、多晶硅、非晶硅与N型非晶硅。本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光干涉式彩色显示面板的制造方法，其特征在于其包括以下步骤：提供一基板，在该基板上形成一第一电极结构；在该第一电极结构上定义出一第一区域、一第二区域与一第三区域；在该第一区域、该第二区域与该第三区域内的该第一电极结 构上形成一第一牺牲层；在该第二区域与该第三区域内的该第一牺牲层上形成一第二牺牲层；在该第三区域内的该第二牺牲层上形成一第三牺牲层，而该第一牺牲层、第二牺牲层与第三牺牲层的被蚀刻速率皆不相同；在该第一电极结构上形成一图 案化支撑层；形成一第二电极层在该第一区域的该第一牺牲层、该第二区域的该第二牺牲层、该第三区域的该第三牺牲层，以及该图案化支撑层的部分区域上；以及移除该第一牺牲层、该第二牺牲层与该第三牺牲层，以在该第一电极结构与该第二电极层之 间形成多数个空气间隙。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林文坚，
申请(专利权)人：高通MEMS科技公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]