一种扩散炉的保温结构制造技术

一种扩散炉的保温结构，包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层和隔离层，所述保温层设置为内管外侧的第一层，隔离层设置于保温层的外侧；本实用新型专利技术中扩散炉的整个内壁设置环绕式分布的炉丝，并且炉丝之间保持设定距离，保证了扩散炉内部的温度分布均匀，炉丝全埋或半埋于保温层，有效保护了炉丝结构的稳定性，不会因为长时间的加热使用而产生脱落的现象，同时设置气流控制装置，有效控制气流输入的快慢，适应不同加工环节的加工需求，保证硅片加热的顺利进行。保证硅片加热的顺利进行。保证硅片加热的顺利进行。

【技术实现步骤摘要】
一种扩散炉的保温结构


[0001]本技术涉及一种扩散炉，特别是涉及一种扩散炉的保温结构。

技术介绍

[0002]半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是现有的一些处理方式。
[0003]低压扩散炉，用于在低压氛围下，实现化学反应和分子沉积成膜，成膜以后可以通过加热进行高温扩散，从而实现半导体或光伏原材料表面掺杂的功能，通过这种方式可以进行半导体或光伏材料的表面加工。但是目前的低压扩散炉由于是柜式结构，通风性差，散热不好，导致柜内的温度会随着扩散炉的温度的上升而快速上升，而且不易降温，这会导致柜内温度过高，影响电气设备的正常工作。同时由于生产中自然散热的速度很慢，变相增加了生产所花费的时间，影响生产效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是解决现有技术的不足，提供一种炉体的冷却结构，结构简单，使用方便。
[0005]一种扩散炉的保温结构，包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层和隔离层，所述保温层设置为内管外侧的第一层，隔离层设置于保温层的外侧。
[0006]进一步的，所述保温层内壁设置有炉丝，炉丝全埋于保温层或半埋于保温层。
[0007]进一步的，所述扩散炉整体设置为空心圆柱体；扩散炉的尾部设置炉尾门；所述炉尾门的中心设置通孔一。
[0008]进一步的，所述扩散炉的侧面设置长条形凸起；所述长条形凸起设置贯穿孔；所述贯穿孔内设置输送管。
[0009]进一步的，所述内管尾部呈半球形凸起，所述半球形凸起的直径与内管的直径一致，使内管形成尾部为半球形凸起的圆柱形，所述内管的内部中空形成空腔。
[0010]进一步的，所述半球形凸起中间设置通孔二，所述通孔二设置通风管，所述通风管贯穿通孔一。
[0011]进一步的，所述炉丝数量设置为一根或多根，炉丝可采用导电材料。
[0012]进一步的，所述炉丝呈环绕式分布，相邻的炉丝之间保持设定距离。
[0013]进一步的，所述炉尾门还设置有气流控制装置；所述气流控制装置的输入端连接输送管。
[0014]进一步的，所述扩散炉设置于主炉框架，扩散炉呈卧式放置；所述主炉框架采用多层结构。
[0015]采用本技术的有益效果在于：
[0016]扩散炉的整个内壁设置环绕式分布的炉丝，并且炉丝之间保持设定距离，而且仅
有一根炉丝，保证了扩散炉内部的温度分布均匀。
[0017]炉丝全埋或半埋于保温层，有效保护了炉丝结构的稳定性，不会因为长时间的加热使用而产生脱落的现象。
[0018]设置气流控制装置，有效控制气流输入的快慢，适应不同加工环节的加工需求，保证硅片加热的顺利进行
附图说明
[0019]图1为本技术扩散炉结构图；
[0020]图2为本技术炉丝结构图；
[0021]图3为本技术水盘管结构图；
[0022]图4为本技术硅片加热示意图；
[0023]图5为本技术炉尾门结构图；
[0024]图6为本技术扩散炉开口端结构图；
[0025]图7为本技术水盘管示意图；
[0026]图8为本技术主炉整体图；
[0027]图9为本技术主炉水冷系统位置图；
[0028]图10为本技术主炉侧视图；
[0029]图11为本技术水冷盘后视图；
[0030]图12为本技术水冷盘俯视图；
[0031]图13为本技术水冷盘结构图。
[0032]附图标记：主炉框架1、水冷盘2、箱体21、连接脚22、曲管一23、曲管二24、U型槽25、风冷系统3、排风扇31、通气口32、炉尾门41、气流控制装置411、保温层42、炉丝421、隔离层43、冷却层44、水盘管441、直管442、弯管443、固定件444、固定管446、通孔一447、长条形凸起45、贯穿孔451、输送管452、内管5、半球形凸起51、开口52、通风管53、进气口54、放置口55、通孔二56。
具体实施方式
[0033]下面将结合说明书附图以及具体实施例对本技术做进一步说明。
[0034]实施例一
[0035]如图1
‑
4所示，一种扩散炉，包括设置在扩散炉内部的内管5，在内管5外侧依次设置有保温层42、隔离层43以及冷却层44。具体的，所述保温层42设置为内管5外侧的第一层，隔离层43设置于保温层42的外侧，冷却层44设置于隔离层43的外侧。
[0036]如图1
‑
3所示，为了实现更好地控制扩散炉的温度，所述扩散炉整体采用硬质保温材料，在本实施例中可采用莫来石、氧化锆粉的粘接体、陶瓷粉的粘接体等。保温层42内壁设置有炉丝421，炉丝421可以全埋于保温层42或半埋于保温层42。炉丝421数量可设置为一根或多根，本实施例中，设置为多根，炉丝421在保温层42的整个内壁呈环绕式分布，环绕后相邻的炉丝421间隔设定距离。炉丝421采用导电材料，能够快速有效的将电能转换为热能，同时扩散炉内均匀分布的炉丝421能够使扩散炉内部的温度均匀。
[0037]所述隔离层43设置于保温层42以及冷却层44之间，隔离层43的厚度为设定值。隔
离层43能够增加扩散炉结构的安全性，防止意外情况的发生。
[0038]如图3、7所示，所述扩散炉还包括冷却层44，所述冷却层44包括水盘管441以及固定件444。所述水盘管441设置于隔离层43外侧，水盘管441包括直管442和弯管443。所述直管442之间相互平行设置，直管442平行于扩散炉的中轴线，相邻直管442间隔设定距离。所述弯管443设置于相邻直管442之间。在本实施例中，弯管443为180
°
，而且弯管443的直径与直管442的直径一致，目的是使弯管443与直管442的连接部位更为契合。弯管443与直管442的配合使水盘管441首尾相接，形成通路。直管442包括水管、进水管和出水管。所述水管的长度短于扩散炉的长度，目的是能够对水盘管441进行充分的包覆，有效防止水盘管441因为磕碰受到破损。所述进水管和出水管相邻设置，进水管和出水管的长度长于水管，进水管和出水管的一端与水管之间设置弯管443连接，另一端延伸出扩散炉。进水管和出水管使水盘管441的水流形成循环。所述直管442与扩散炉之间设置固定件444。所述固定件444包括固定管446。所述固定管446呈“T”型，包括固定部和连接部，固定部和连接部一体制成。所述连接部与固定部垂直设置，连接部用于连接直管442与扩散炉，在本实施例中采用螺纹连接。所述固定部为中空的管道，固定部的内径稍大于直管442的外径，能够使直管442穿过固定管446，起到固定作用。
[0039]如图1、5、6所示，所述扩散炉整体设置为空心圆柱形，在扩散炉的尾部设置炉尾门41。所述炉尾门41的中心本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扩散炉的保温结构，其特征在于，包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层和隔离层，所述保温层设置为内管外侧的第一层，隔离层设置于保温层的外侧；所述保温层内壁设置有炉丝，炉丝全埋于保温层或半埋于保温层；炉丝数量设置为一根或多根，炉丝采用导电材料；所述炉丝呈环绕式分布，相邻的炉丝之间保持设定距离。2.根据权利要求1所述的一种扩散炉的保温结构，其特征在于，所述扩散炉整体设置为空心圆柱体；扩散炉的尾部设置炉尾门；所述炉尾门的中心设置通孔一。3.根据权利要求1所述的一种扩散炉的保温结构，其特征在于，所述扩散炉的侧面设置长条形凸起；所述长条形凸起设置贯穿孔；所述贯穿孔内设置输送...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘群，庞爱锁，林佳继，郭永胜，林依婷，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：