【技术实现步骤摘要】
一种自动调整沉积速度匹配目标重量的OVD沉积设备
[0001]本专利技术创造属于OVD沉积设备
,尤其是涉及一种自动调整沉积速度匹配目标重量的OVD沉积设备。
技术介绍
[0002]OVD工艺是当前制备低水峰或零水峰单模光纤预制棒的最优秀的工艺方法之一,即外部气相沉积法。该工艺被国内外主流光纤预制棒生产厂商所广泛采用。OVD工艺制备的芯棒由芯层和光学包层两部分组成。OVD沉积设备主要包括化学气相反应及沉积腔体、气体喷灯平台、疏松体预制棒旋转机构、抽风系统、四氯化硅蒸发柜等五部分组成。四氯化硅蒸发柜主要包括料罐、加热棒、液位传感器、压力传感器、气动阀、加热单元、高温质量流量控制器等。液态四氯化硅在料罐内由加热棒加热后气化经由各阀门和管路进入喷灯。喷灯内喷吹的气体反应后产生的SiO2粉尘粒子在气体初始速度和热泳作用下向疏松体预制棒运动,并粘附在疏松体预制棒的表面。喷灯平台通过丝杆的连动沿喷灯导轨来回运动,而预制棒本身被一个旋转轴承结构以一定的速度旋转。在以上工艺条件下将SiO2微粒一层一层均匀的沉积在匀速旋转的母棒表面,最 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动调整沉积速度匹配目标重量的OVD沉积设备,包括沉积箱体的工作台上对应布置的固定架和支撑架,在固定架上设置有用于固定芯棒的夹头杆;其特征在于:所述支撑架上设有用于实时监测芯棒重量的重力传感器;在工作台上安装有与重力传感器联系的沉积装置;所述沉积装置中的控制器根据重力传感器实时反馈的重量来匹配各轴次喷料量,该沉积装置包括通过出料管向喷灯提供原料的供料单元,所述出料管上安装有压差传感器;所述供料单元包括外料罐及外料罐内的内料罐;在内料罐中设有第一压力传感器、用于检测原料液体温度的第一温度传感器、用于检测原料蒸汽温度的第二温度传感器、以及用于对原料进行加热的加热棒;所述出料管上安装有第二压力传感器;在外料罐底部设有出料口,内料罐底部设有能伸入出料口的顶针,在出料口上安装有进料管,该进料管上安装有第一控制阀。2.根据权利要求1所述的一种自动调整沉积速度匹配目标重量的OVD沉积设备,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈小平,崔德运,马逸聪,朱志远,梁伟,何炳,
申请(专利权)人:通鼎互联信息股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。