抛光液输送装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及精密抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光液输送装置。所述抛光液输送装置，包括：供液组件、输送管道、匀液器、抛光台以及设置在所述抛光台上的抛光垫；所述匀液器包括自转驱动件、与所述自转驱动件传动连接的基体以及与所述基体连接的多个分流管道组；所述输送管道的一端与所述供液组件连通；所述自转驱动件驱动所述基体自转，沿远离所述基体的自转中心轴的径向，多个所述分流管道组间隔设置，所述分流管道组包括多个沿同一圆周方向间隔设置的分流管道；所述基体上设有与所述输送管道的另一端连通的接液腔，所述分流管道的一端与所述接液腔连通，所述分流管道的另一端用于向所述抛光垫输送抛光液。

【技术实现步骤摘要】
抛光液输送装置
本专利技术涉及精密抛光
，尤其是涉及一种抛光液输送装置。
技术介绍
在目前碲镉汞、碲锌镉等特种半导体衬底片材料加工工序中，最常用的表面平坦化加工和抛光一般使用(CMP)化学机械抛光设备，化学抛光设备等，这些设备的共同特点是有一套抛光液输送装置对其抛光过程进行化学液的输送。目前的抛光液输送装置大多数都是简单管道连接，或者人工控制开闭，或者是直接安装在抛光盘上。现有一种抛光液输送装置实现多点定位的抛光液供应，这种抛光液输送装置的末端的滴注管直接滴落抛光液，从滴注管流出的抛光液直接累积在抛光垫上，造成抛光液高低不均匀，导致抛光垫上的抛光液的均匀性差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抛光液输送装置，以在一定程度上解决现有技术中存在的抛光垫上的抛光液的均匀性差技术问题。本专利技术提供了一种抛光液输送装置，包括：供液组件、输送管道、匀液器、抛光台以及设置在所述抛光台上的抛光垫；所述匀液器包括自转驱动件、与所述自转驱动件传动连接的基体以及与所述基体连接的多个分流管道组；所述输送管道的一端与所述供液组件连通；所述自转驱动件驱动所述基体自转，沿远离所述基体的自转中心轴的径向，多个所述分流管道组间隔设置，所述分流管道组包括多个沿同一圆周方向间隔设置的分流管道；所述基体上设有与所述输送管道的另一端连通的接液腔，所述分流管道的一端与所述接液腔连通，所述分流管道的另一端用于向所述抛光垫输送抛光液。本专利技术提供的抛光液输送装置工作时，可以将抛光件(例如芯片)放置在匀液器和抛光垫之间，供液组件先给输送管道内供入输送管道，输送管道将抛光液供入匀液器的接液腔内，抛光液又分别进入多个分流管道，抛光液又通过分流管道流向抛光垫；同时，匀液器的自转驱动件带动基体自转，多个分流管道与基体连接固定，与基体一同旋转，从而将抛光液甩落在抛光垫上，多个分流管道组沿基体的自转中心轴的径向间隔设置，且每个分流管道组包括多个沿统一圆周间隔设置的分流管道，也即，沿基体的自转中心轴的径向设有多圈分流管道，从而实现多点向抛光垫上输送抛光液，避免单点直接滴落抛光液导致抛光液高低不一，提高了抛光垫上的抛光液的均匀性；分流管道跟随基体运动，则能够避免在定点向抛光垫上输送抛光液，实现将抛光液平铺在抛光垫上，也进一步避免抛光液在同一点上持续堆积；抛光液由分流管道甩落时自身带有速度，当抛光液到达抛光垫上时，由于惯性继续运动，从而能够在抛光垫上快速摊开，避免堆积，进一步提高抛光垫上的抛光液的均匀性；另外，通过设置匀液器相对抛光垫的高度，能够实现匀液器和抛光垫对抛光液进行挤压，从而能够将抛光液中的空洞或者气泡挤压、除去，进一步提高抛光液的均匀性，还能够气泡或者空洞贴服在抛光件的表面导致抛光件表面缺陷。经过匀液器输送的抛光液能够在抛光垫上形成均匀性较佳的抛光液层，抛光液层填充在抛光件和抛光垫之间。进一步地，所述匀液器还包括升降驱动件，所述升降驱动件与所述基体传动连接，以驱动所述基体沿远离或者靠近所述抛光垫的方向运动。进一步地，所述抛光液输送装置还包括机架，所述匀液器与所述机架可拆卸连接。进一步地，所述基体内设有多个流道，所述基体的靠近所述抛光垫的壁上设有多个分液孔，多个所述分液孔与多个所述流道一一对应设置，所述流道的远离所述分液孔的一端与所述接液腔连通；所述流道形成所述分流管道。进一步地，所述基体呈圆柱体设置。进一步地，抛光液输送装置还包括控制模块和抛光件识别模块，所述抛光件识别模块至少用于识别抛光件的外形和尺寸；所述供液组件包括储液罐、计量泵和流量检测元件，所述输送管道的一端与所述储液罐连通，所述计量泵和所述流量检测元件设置在所述输送管道上；所述匀液器、所述抛光件识别模块、所述计量泵和所述流量检测均与所述控制模块通讯连接。进一步地，所述抛光液输送装置还包括识别驱动件，所述识别驱动件与所述抛光件识别模块传动连接，以驱动所述抛光件识别模块运动。进一步地，所述储液罐的上部设有进液控制阀，所述储液罐的下部设有排液控制阀。进一步地，抛光液输送装置还包括机架，所述机架包括识别层、抛光层和供液层；所述抛光件识别模块位于所述识别层，所述匀液器、所述抛光台和所述抛光垫位于所述抛光层，所述控制模块和所述供液组件位于所述供液层；所述识别层、所述抛光层和所诉供液层均设有密封隔离罩。进一步地，所述抛光液输送装置还包括抛光台转动驱动件，所述抛光台转动驱动件位于所述供液层；所述抛光台转动驱动件与所述抛光台驱动连接以驱动所述抛光台自转，所述抛光台的自转方向与所述匀液器的自转方向相反。应当理解，前述的一般描述和接下来的具体实施方式两者均是为了举例和说明的目的并且未必限制本公开。并入并构成说明书的一部分的附图示出本公开的主题。同时，说明书和附图用来解释本公开的原理。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例的抛光液输送装置的结构示意图；图2为如图1所示的抛光液输送装置的原理图；图3为如图1所示的抛光液输送装置中匀液器的结构示意图；图4为如图1所示的抛光液输送装置中供液组件的原理图。图标：10-供液组件；20-输送管道；30-匀液器；40-抛光台；50-抛光垫；60-抛光件；70-控制模块；80-抛光件识别模块；90-机架；100-密封隔离罩；110-抛光台转动驱动件；120-支撑架；130-玻璃隔板；31-基体；32-接液腔；33-分流管道；34-分液孔；35-自转驱动件；36-升降驱动件；11-储液罐；12-计量泵；13-流量检测元件；14-进液控制阀；15-排液控制阀；91-识别层；92-抛光层；93-供液层。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和显示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光液输送装置，其特征在于，包括：供液组件、输送管道、匀液器、抛光台以及设置在所述抛光台上的抛光垫；所述匀液器包括自转驱动件、与所述自转驱动件传动连接的基体以及与所述基体连接的多个分流管道组；所述输送管道的一端与所述供液组件连通；/n所述自转驱动件驱动所述基体自转，沿远离所述基体的自转中心轴的径向，多个所述分流管道组间隔设置，所述分流管道组包括多个沿同一圆周方向间隔设置的分流管道；所述基体上设有与所述输送管道的另一端连通的接液腔，所述分流管道的一端与所述接液腔连通，所述分流管道的另一端用于向所述抛光垫输送抛光液。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光液输送装置，其特征在于，包括：供液组件、输送管道、匀液器、抛光台以及设置在所述抛光台上的抛光垫；所述匀液器包括自转驱动件、与所述自转驱动件传动连接的基体以及与所述基体连接的多个分流管道组；所述输送管道的一端与所述供液组件连通；
所述自转驱动件驱动所述基体自转，沿远离所述基体的自转中心轴的径向，多个所述分流管道组间隔设置，所述分流管道组包括多个沿同一圆周方向间隔设置的分流管道；所述基体上设有与所述输送管道的另一端连通的接液腔，所述分流管道的一端与所述接液腔连通，所述分流管道的另一端用于向所述抛光垫输送抛光液。


2.根据权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述匀液器还包括升降驱动件，所述升降驱动件与所述基体传动连接，以驱动所述基体沿远离或者靠近所述抛光垫的方向运动。


3.根据权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述抛光液输送装置还包括机架，所述匀液器与所述机架可拆卸连接。


4.根据权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述基体内设有多个流道，所述基体的靠近所述抛光垫的壁上设有多个分液孔，多个所述分液孔与多个所述流道一一对应设置，所述流道的远离所述分液孔的一端与所述接液腔连通；所述流道形成所述分流管道。


5.根据权利要求4所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述基体呈圆柱体设置。


6.根据权利要求1-...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘峰，赵永进，王文丽，陈威，薛书亮，张博，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11