【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备。
技术介绍
微型发光二极管(MicroLight-EmittingDiode,简称Mic-LED))作为一种电流型发光器件,以其主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富、高亮度、低功耗等众多优点而被广泛应用于显示设备中。应用微型发光二极管的显示设备一般包括基板以及阵列状排布于基板上的LED像素单元。基板上排布有像素电路,用于驱动LED像素单元发光。像素电路采用有金属材料制成的器件。然而,当外界环境光入射到显示设备中,金属材料会形成光反射,该反射光不是LED主动发的光,光强和频谱不一致,容易导致暗态效果不佳后者显色发生变化的情况,从而影响了显示设备的显示效果。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备,可以降低决环境光对显示设备的显示效果的影响。第一方面,本专利技术实施例提供一种显示组件。该显示组件包括显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,所述显示组件还包括:光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及光相位差结构层,设置于所述平化层和所 ...
【技术保护点】
一种显示组件,包括:显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,其特征在于,所述显示组件还包括:/n光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及/n光相位差结构层,设置于所述平化层和所述光调变结构之间,用于将所述入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2,其中:/n所述入射圆偏振光经过所述金属驱动电路反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,所述反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过所述光相位差结构层形成反射线性偏振光,所述反射线性偏振光在所述光调变结构层作用下无法完全通过。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种显示组件,包括:显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,其特征在于,所述显示组件还包括:
光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及
光相位差结构层,设置于所述平化层和所述光调变结构之间,用于将所述入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2,其中:
所述入射圆偏振光经过所述金属驱动电路反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,所述反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过所述光相位差结构层形成反射线性偏振光,所述反射线性偏振光在所述光调变结构层作用下无法完全通过。
如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述相位差等于λ/4±λ/8。
如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述相位差等于λ/4。
如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光调变结构层形成第一图案,用于使所述每一发光二极管相应地外露于所述光调变结构层。
如权利要求1或者4任意一项所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层形成第二图案,用于使所述每一发光二极管相应地外露于所述光相差结构层。
如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层的一侧形配向层,所述配向层设置于所述平化层。
如权利要求6所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层由高分子聚合型双折射材料组成,所述配向层用于对所述高分子聚合型双折射材料进行取向。
如权利要求6所述的显示组件,其特征在于,所述平化层与所述配向层结合的表面为平面。
如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光调变结构层为线栅偏振片(wiregridpolarizer,WGP)。
一种显示组件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
提供显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素单元、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘政明,
申请(专利权)人:重庆康佳光电技术研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:重庆;50
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