显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备技术

技术编号:29601744 阅读:15 留言:0更新日期:2021-08-06 20:06
一种显示组件(99),包括显示主体(100),显示组件(99)还包括:光调变结构层(300),设置于显示主体(100),用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及光相位差结构层(200),设置于平化层(30)和光调变结构层(300)之间,用于将入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,光相位差结构层(200)的相位差不等于λ/2,其中:入射圆偏振光经过金属驱动电路(11)反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过光相位差结构层(200)形成反射线性偏振光,反射线性偏振光在光调变结构层(300)作用下无法通过。此外,还提供一种显示组件(99)的制作方法以及应用显示组件(99)的电子设备(999)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备。
技术介绍
微型发光二极管(MicroLight-EmittingDiode,简称Mic-LED))作为一种电流型发光器件,以其主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富、高亮度、低功耗等众多优点而被广泛应用于显示设备中。应用微型发光二极管的显示设备一般包括基板以及阵列状排布于基板上的LED像素单元。基板上排布有像素电路,用于驱动LED像素单元发光。像素电路采用有金属材料制成的器件。然而,当外界环境光入射到显示设备中,金属材料会形成光反射,该反射光不是LED主动发的光,光强和频谱不一致,容易导致暗态效果不佳后者显色发生变化的情况,从而影响了显示设备的显示效果。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种显示组件、显示组件的制作方法、以及电子设备,可以降低决环境光对显示设备的显示效果的影响。第一方面,本专利技术实施例提供一种显示组件。该显示组件包括显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,所述显示组件还包括:光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及光相位差结构层,设置于所述平化层和所述光调变结构之间,用于将所述入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2,其中:所述入射圆偏振光经过所述金属驱动电路反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,所述反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过所述光相位差结构层形成反射线性偏振光,所述反射线性偏振光在所述光调变结构层作用下无法完全通过。第二方面,本专利技术实施例提供一种显示组件的制作方法,该制作方法包括:提供显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素单元、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光;在所述平化层远离所述金属驱动电路的一侧形成光相位差结构层,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2;在所述光相位差结构层远离所述平化层的一侧形成光调变结构层,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光。第三方面,本专利技术实施例提供一种电子设备。该电子设备包括:壳体以及设置于所述壳体的所述显示组件。上述显示组件和电子设备通过设置光调变结构层和光相位差结构层,可以将环境光入射到显示组件时,光调变结构层和光相位差结构层可以使环境光经金属驱动电路反射后形成的反射光透射出显示组件,从而提升了显示组件的显示效果。附图说明图1为第一实施例的显示组件的示意图。图2为环境光的入射显示组件的光路示意图。图3为第一实施例光调变结构层示意图。图4为第一实施例光相位结构层示意图。图5为第二实施例的显示组件的部分结构示意图。图6为第一实施例的显示组件的制作方法流程示意图。图7为第一实施例的显示组件的制作方法子示意图。图8为第一实施例应用该显示组件的电子设备示意图。具体实施方式为使得对本专利技术的内容有更清楚及更准确的理解,现将结合幅图详细说明。说明书附图示出本专利技术的实施例的示例,其中,相同的标号表示相同的元件。可以理解的是,说明书附图示出的比例并非本专利技术实际实施的比例,其仅为示意说明为目的,并非依照原尺寸作图。请参看图1,其为第一实施方式的显示组件99示意图。显示组件99包括显示主体100、以及依次设置于显示主体100的光相位差结构层200、以及光调变结构层300。在本实施例中,显示组件99可以位于电子设备,例如,手机,平板电脑以及其它包含LED显示屏的电子设备中。显示主体100包括基板10、设置于基板10且阵列排布的若干像素单元20(图中仅以一个像素为例示意)、以及设置于像素单元20远离基板10一侧的平化层30。每一像素单元20设置有发光二极管21,发光二极管21具有外露所述平化层的发光面,其中,发光二极管21优选为微型发光二极管。微型发光二极管的尺寸为微米等级,进一步地,微型发光二极管的尺寸小于100微米。在本实施例中,基板10可以是透明的也可以是不透明的。若基板10设置为透明时,可以采用玻璃材料制成。玻璃材料可以为但不限于以SiO2为主要成分的玻璃材料。在一些可行的实施例中,还可以采用塑胶透明材料制成,塑胶玻璃材料可以为但不限于聚醚砜(pes)、聚丙烯酸酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘甲酸乙二醇酯(pet)、聚苯硫醚(pps)、聚α-丙烯酸酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(pc)、三醋酸纤维素(TAC)、乙酸丙酸纤维素(CAP)等。若基板10设置为非透明时,可以采用金属材料制成。具体地,金属材料可以为但不限于铁、铬、锰、镍、钛、钼、不锈钢等。基板10设置有若干金属驱动电路11(图中仅以一个像素电路为例)、透明电极12、像素隔离层13、平坦层14、绝缘层15、缓冲层16。其中,缓冲层16、绝缘层15、平坦层14、像素隔离层13依次设置基板10上。金属驱动电路11嵌设于绝缘层15、平坦层14中。平坦层14覆盖金属驱动电路11远离绝缘层15的一侧,且背离绝缘层15的一侧形成平整的表面。缓冲层16铺设于基板10的上表面用于使基板10平坦化,且有效地防止杂质或者水分从基板10渗透。缓冲层16可以采用无机材料制成。无机材料可以为但不限于氧化硅、氮化硅、氧化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钛等。缓冲层16也可以采用有机材料制成。有机材料可以为但不限于聚酰亚胺、聚酰或丙烯等。像素隔离层13有绝缘材料制成,其开设有若干第一开槽130,发光二极管21一一对应设置于第一开槽130,将各发光二极管21进行隔离。平坦层14设置有若干第二开槽160,第一开槽130和第二开槽160连通。透明电极12位于于开槽130和第二开槽160中,用于电性连接金属驱动电路11和发光二极管21。其中,平坦层14由绝缘材料制成,该绝缘材料包括但不限于SiO2、Si3N4、HfO2、SiON、TiO2、TaO3、SnO2等。像素单元电路11包括晶体管TFT、数据线、扫描线等,用于对应驱动每一像素单元20的发光二极管发光21。晶体管TFT的栅极、源极、漏极由主要金属材料制成,以及掺杂有导电半导体材料。金属材料可以为但不限于铜、铝、钨、金、银等。导电半导体材料可以为但不限于多晶硅。绝缘层15包括栅极绝缘层150和非栅极绝缘层151。绝缘层150采用无机材料制成,无机材料可以为但不限于氧化材料(如SiO2)、氮化材料(SiN)等。在本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示组件,包括:显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,其特征在于,所述显示组件还包括:/n光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及/n光相位差结构层,设置于所述平化层和所述光调变结构之间,用于将所述入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2,其中:/n所述入射圆偏振光经过所述金属驱动电路反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,所述反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过所述光相位差结构层形成反射线性偏振光,所述反射线性偏振光在所述光调变结构层作用下无法完全通过。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种显示组件,包括:显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光二极管,所述发光二极管的发光面外露所述平化层;所述金属驱动电路用于驱动所述发光二极管发光,其特征在于,所述显示组件还包括:
光调变结构层,设置于所述显示主体,用于透过入射环境光中某一线性偏振光,所透过的线性偏振光作为入射线性偏振光;以及
光相位差结构层,设置于所述平化层和所述光调变结构之间,用于将所述入射线性偏振光调整为入射圆偏振光或者入射椭圆偏振光,所述光相位差结构层的相位差不等于λ/2,其中:
所述入射圆偏振光经过所述金属驱动电路反射后形成反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光,所述反射圆偏振光或者反射椭圆偏振光经过所述光相位差结构层形成反射线性偏振光,所述反射线性偏振光在所述光调变结构层作用下无法完全通过。


如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述相位差等于λ/4±λ/8。


如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述相位差等于λ/4。


如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光调变结构层形成第一图案,用于使所述每一发光二极管相应地外露于所述光调变结构层。


如权利要求1或者4任意一项所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层形成第二图案,用于使所述每一发光二极管相应地外露于所述光相差结构层。


如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层的一侧形配向层,所述配向层设置于所述平化层。


如权利要求6所述的显示组件,其特征在于,所述光相位差结构层由高分子聚合型双折射材料组成,所述配向层用于对所述高分子聚合型双折射材料进行取向。


如权利要求6所述的显示组件,其特征在于,所述平化层与所述配向层结合的表面为平面。


如权利要求1所述的显示组件,其特征在于,所述光调变结构层为线栅偏振片(wiregridpolarizer,WGP)。


一种显示组件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
提供显示主体,所述显示主体包括基板、设置于所述基板阵列排布的多个金属驱动电路、阵列排布的多个像素单元、以及覆盖所述金属驱动电路且远离所述基板一侧的平化层;每一像素单元设置有发光...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘政明
申请(专利权)人:重庆康佳光电技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:重庆;50

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