一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法技术

本发明专利技术属于废水资源综合利用技术领域，具体涉及一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法。该方法首先是将四甲基氯化铵废水过滤后加入减压蒸馏装置中进行蒸发结晶；然后，将清洗剂乙酸乙酯加入蒸发结晶后的蒸发釜内进行第一次清洗、抽滤；再对第一次清洗所得到的晶体用乙酸乙酯进行第二次清洗、抽滤；最后将第二次清洗得到的晶体置于真空干燥箱内干燥，干燥后得到白色四甲基氯化铵晶体；本发明专利技术针对四甲基氯化铵废水蒸发结晶出的晶体呈淡黄色的问题，选用合适的清洗剂，得到白色的四甲基氯化铵晶体，实现了废水资源的综合利用。

【技术实现步骤摘要】
一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法
本专利技术属于废水资源综合利用
，具体涉及一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法。
技术介绍
电子级四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液被广泛用于集成电路、液晶面板、印刷电路板光刻工艺中的显影，被称为显影液。通常，显影液使用过后经盐酸中和等处理，形成含四甲基氯化铵10%左右的废水。四甲基氯化铵废水直接排放势必对环境造成破坏，也带来四甲基氯化铵资源的浪费。蒸发结晶是从含盐溶液中提取晶体的常用方法，其通过加热溶液，不断蒸发出溶剂，使溶液由不饱和变为饱和，其后过剩溶质以晶体的形式析出。然而，四甲基氯化铵含有活泼的氮原子，受热可分解、氧化后变黄，这就会导致采用高温蒸发结晶从四甲基氯化铵废水中回收的晶体易呈黄色；另一方面，四甲基氯化铵废水中杂质也会进入蒸发结晶的晶体，使得四甲基氯化铵晶体纯度不高。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本专利技术提供一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法。以期通过简便的操作实现四甲基氯化铵的高效回收，并保证回收得到的四甲基氯化铵为白色本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法，其特征在于，由以下步骤构成：/n步骤（1）：将四甲基氯化铵废水过滤后加入减压蒸馏装置中进行蒸发结晶；/n步骤（2）：向步骤（1）蒸发结晶后的蒸发釜内加入清洗剂进行第一次清洗，清洗后进行抽滤；/n步骤（3）：对步骤（2）得到的晶体用清洗剂进行第二次清洗，清洗后进行抽滤；/n步骤（4）：将步骤（3）得到的晶体置于真空干燥箱内干燥，干燥后得到白色四甲基氯化铵晶体。/n

【技术特征摘要】
1.一种从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法，其特征在于，由以下步骤构成：
步骤（1）：将四甲基氯化铵废水过滤后加入减压蒸馏装置中进行蒸发结晶；
步骤（2）：向步骤（1）蒸发结晶后的蒸发釜内加入清洗剂进行第一次清洗，清洗后进行抽滤；
步骤（3）：对步骤（2）得到的晶体用清洗剂进行第二次清洗，清洗后进行抽滤；
步骤（4）：将步骤（3）得到的晶体置于真空干燥箱内干燥，干燥后得到白色四甲基氯化铵晶体。


2.根据权利要求1所述的从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法，其特征在于，步骤（1）中减压蒸发结晶的绝对压力为1~5kPa。


3.根据权利要求1所述的从半导体显影废水中回收四甲基氯化铵的方法，其特征在于，步骤（2）和步骤（3）中清洗所用清洗剂均为乙酸乙酯。

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【专利技术属性】
技术研发人员：仲超，樊振寿，孔磊，王枝松，倪东原，
申请(专利权)人：南京长江江宇环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32