【技术实现步骤摘要】
自动上釉线
本专利技术涉及陶瓷制造设备
，尤其涉及一种自动上釉生产线。
技术介绍
在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在坯体上釉前，需在坯体底部上蜡，使上釉过程中坯体底部有蜡的地方不沾上釉料。另外，在陶瓷烧制过程中，高温时釉料融化会与匣钵底部粘结在一起，因此，在上釉工序后必须将坯体与匣钵底部接触的釉去除干净，防止陶瓷产品烧制过程中与匣钵底部粘结。然而，在传统工艺中，上述工序大多为采用人工操作，不仅工人劳动强度大、效率低，且由于人工操作用力均匀性差，难以做到产品质量稳定一致，还可能会导致坯体破裂，造成坯体损坏。此外，也有部分自动上釉装置，然后该种自动上釉装置为分离式的，沾蜡、上釉、去除坯体底部的釉等操作均在不同的设备中进行，期间需要多次的转移，影响生产效率。
技术实现思路
为此，本专利技术的目的在于提供一种自动上釉线，以解决传统坯体上釉工作效率低、质量不稳定、人工劳动强度大的问题。一种自动上釉线，其包括机架及设置于机架上的上料输送装置、对位装置...
【技术保护点】
1.一种自动上釉线，其特征在于：包括机架及依次设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，且其延伸于壳体外部分的顶端设有底吸盘，自转组件内设有贯穿底吸盘的导釉管；所述自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体整体旋转使的述底吸盘浸入所述储釉箱内，自转装置带动自转组件自转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，...
【技术特征摘要】
1.一种自动上釉线，其特征在于：包括机架及依次设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，且其延伸于壳体外部分的顶端设有底吸盘，自转组件内设有贯穿底吸盘的导釉管；所述自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体整体旋转使的述底吸盘浸入所述储釉箱内，自转装置带动自转组件自转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，旋转方向相反，两输送装置上均设置有传送带，所述传送带外表面设置有擦拭层；
所述上料输送装置将若干坯体输送至对位插口装置前侧，对位插口装置将坯体矫正，所述前转移装置将坯体吸至沾水槽内沾水，将沾水后的坯体转移至所述导热盘内沾蜡，再将沾蜡后的坯体送至浸釉装置的底吸盘上，底吸盘将坯体吸紧然后吸盘装置整体旋转至坯体浸泡于储釉箱内，所述导釉管将釉水导至坯体的底部凹槽对其进行上釉；所述自转组件带动坯体在储釉箱内旋转充分浸釉后回位；所述后转移装置吸于坯体的内侧底面上，底吸盘松开坯体，后转移装置将坯体转移至釉水擦拭装置上，且同一坯体在正转输送装置反转输送装置上各占一半，釉水擦拭装置对坯体底部进行旋转擦拭，擦拭完后，后转移装置再将坯体转移至下料输送装置以转移至下一工序。
2.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述上料输送装置上还设置有定位装置及除潮装置，所述定位装置设置于除潮装置前侧。
3.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述对位插口装置上设置有插口板，所述插口板的一侧端面上设置有插口，所述插口呈外宽内窄的三角形设置，该插口的两侧各设置有一导斜面。
4.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡装置上还设置有储蜡槽，该储蜡槽内设置有若干导热盘，储蜡槽外侧设有加热片，所述导热盘通过导热杆连接于发热片上。
5.如权利要求4所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡...
【专利技术属性】
技术研发人员：古泽恩，
申请(专利权)人：广东皓达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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