自动上釉线制造技术

一种自动上釉线，其包括机架及设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置。坯体自上料输送装置输送至对位装置前侧，对位装置对坯体进行对位；前转移装置将对位后坯体转移至沾水槽内坯底沾水，再将沾水后的坯体转移至粘蜡装置上进行底部粘蜡，沾蜡后的坯体再转移至浸釉装置上，浸釉装置带动坯体旋转浸釉，后转移装置将浸釉后的坯体转移至釉水擦拭装置上将坯体底部的釉水去除，再将坯体转移至下料输送装置上。本实用新型专利技术的自动化程度高，产品质量稳定性好；大大提高了生产效率、降低了生产成本；减轻了人工劳动强度及降低了安全风险，适用性强，具有较强的推广意义。较强的推广意义。较强的推广意义。

【技术实现步骤摘要】
自动上釉线


[0001]本技术涉及陶瓷制造设备
，尤其涉及一种自动上釉生产线。

技术介绍

[0002]在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在坯体上釉前，需在坯体底部上蜡，使上釉过程中坯体底部有蜡的地方不沾上釉料。另外，在陶瓷烧制过程中，高温时釉料融化会与匣钵底部粘结在一起，因此，在上釉工序后必须将坯体与匣钵底部接触的釉去除干净，防止陶瓷产品烧制过程中与匣钵底部粘结。
[0003]然而，在传统工艺中，上述工序大多为采用人工操作，不仅工人劳动强度大、效率低，且由于人工操作用力均匀性差，难以做到产品质量稳定一致，还可能会导致坯体破裂，造成坯体损坏。此外，也有部分自动上釉装置，然后该种自动上釉装置为分离式的，沾蜡、上釉、去除坯体底部的釉等操作均在不同的设备中进行，期间需要多次的转移，影响生产效率。

技术实现思路

[0004]为此，本技术的目的在于提供一种自动上釉线，以解决传统坯体上釉工作效率低、质量不稳定、人工劳动强度大的问题。
[0005]一种自动上釉线，其包括机架及设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述对位装置若干对位插口装置；所述前转移装及后转移装置底部均设置有若干吸盘，所述吸盘与对位插口装置呈一一对应设置；所述沾蜡装置上设置有储蜡槽，该储蜡槽内设置有若干导热盘；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体沿转轴旋转浸入至储釉箱内；所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及若干传动齿轮，若干传动齿轮均匀装设于旋转轴上，且每一传动齿轮对应于一自转组件；所述自转组件上设置有底吸盘及从动齿轮，所述从动齿轮设置于壳体内，底吸盘设置于自转组件顶部，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件自转旋转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，旋转方向相反，两输送装置上均设置有传送带，所述传送带外表面设置有海绵层；
[0006]所述上料输送装置将若干坯体输送至对位插口装置前侧，对位插口装置将坯体矫正，所述前转移装置的吸盘将对应位置的坯体吸至沾水槽内沾水，将沾水后的坯体转移至所述导热盘内沾蜡，将沾蜡后的坯体送至浸釉装置的底吸盘上，底吸盘将坯体吸紧然后吸盘装置整体旋转至坯体浸泡于储釉箱内，所述自转组件带动坯体在储釉箱内旋转充分浸釉后回位；所述后转移装置的吸盘吸于坯体的内侧底面上，底吸盘松开坯体，后转移装置将坯体转移至釉水擦拭装置上，且同一坯体在正转输送装置反转输送装置上各占一半，釉水擦
拭装置对坯体底部进行旋转擦拭，擦拭完后，后转移装置再将坯体转移至下料输送装置以转移至下一工序。
[0007]进一步地，所述上料输送装置上还设置有定位装置及除潮装置，所述定位装置设置于除潮装置前侧。
[0008]进一步地，所述对位装置包括若干对位插口装置，所述对位插口装置上设置有插口板，所述插口板的一侧端面上设置有插口，所述插口呈外宽内窄的三角形设置，该插口的两侧各设置有一导斜面。
[0009]进一步地，所述沾蜡装置外侧还设置有一吸废气装置，该吸废气装置上设置有吸气嘴，所述吸气嘴对应于所述导热盘设置。
[0010]进一步地，所述吸气嘴设置有多个，吸气嘴与所述导热盘呈一一对应设置。
[0011]进一步地，所述浸釉装置上还设置有一吸盘擦拭装置，该吸盘擦拭装置上设置有海绵夹，该海绵夹上夹持有擦拭海绵。
[0012]进一步地，所述除潮装置包括固定架、风机及加热器，所述固定架跨设于上料输送带上，风机装设于固定架上，加热器装设于固定架内并位于风机的下方。
[0013]进一步地，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干吸盘组件及自旋转装置，所述吸盘组件包括真空釉水箱及固定座，所述自转组件还包括装设于底吸盘底面上的自转轴；所述自转轴底端通过固定座装设于真空釉水箱上并可相对固定座旋转。
[0014]进一步地，所述吸盘组件还包括导釉管，所述导釉管穿设于自转轴内，导釉管与自转轴之间形成一真空吸入腔，该真空吸入腔与真空釉水箱相连通。
[0015]进一步地，所述底吸盘内设有存釉仓，底吸盘顶面设置有吸口；所述导釉管的顶端设置有半圆导釉头，该半圆导釉头的顶端中部设置有连通导釉管的导釉孔；所述自转轴的顶端延伸于存釉仓内，自转轴与半圆导釉头之间的导釉管上设置有通孔。
[0016]进一步地，所述浸釉装置还包括真空泵及空釉转换器，所述吸盘组件还包括真空管及釉水回流管，所述真空泵连接于真空管及空釉转换器，空釉转换器连接于釉水回流管。
[0017]进一步地，所述空釉转换器包括真空腔体、釉水分散盘、下釉漏斗及真空釉水自动排水盖；所述真空腔体顶面上设置有接入口及真空吸入口，该接入口向下延伸设有一导管，所述釉水分散盘设于导管底部，该导管底部与釉水分散盘顶面之间设有过水孔。
[0018]进一步地，所述真空腔体的底部向下釉漏斗内延伸有一倾斜设置的导入管，所述真空釉水自动排水盖活动装设于导入管的上方表面上并盖合于导入管的开口端。
[0019]综上所述，本技术的上釉线要将沾水、沾蜡、浸釉及擦坯体等工序一体自动完成，自动化程度高，且产品质量稳定性好。大大提高了生产效率、降低了生产成本；减轻了人工劳动强度及降低了安全风险，适用性强，具有较强的推广意义。
附图说明
[0020]图1为本技术具有自动上釉线的结构示意图；
[0021]图2为图1中上釉线另一视角的结构示意图；
[0022]图3为图1中上料装置的结构示意图；
[0023]图4为图3中对位装置的结构示意图；
[0024]图5为图2中前转移装置的结构示意图；
[0025]图6为图2中沾蜡装置的结构示意图；
[0026]图7为图6中储蜡装置的分解示意图；
[0027]图8为图2中浸釉装置的结构示意图；
[0028]图9为图8的内部结构示意图；
[0029]图10为图8的剖面结构示意图；
[0030]图11为图10的部分放大结构示意图；
[0031]图12为图5中吸盘擦拭装置的结构示意图；
[0032]图13为空釉转换装置、真空泵及浸釉装置的结构示意图；
[0033]图14为图13中空釉转换装置的结构示意；
[0034]图15图釉水擦拭装置的结构示意图；
[0035]图16为图15的分解示意图。
具体实施方式
[0036]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。
[0037]如图1至图16所示，本技术提供一种自动上釉线，其用于对陶瓷坯体进行上釉加工。所述自动上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动上釉线，其特征在于：包括机架及依次设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，且其延伸于壳体外部分的顶端设有底吸盘，自转组件内设有贯穿底吸盘的导釉管；所述自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体整体旋转使所述底吸盘浸入所述储釉箱内，自转装置带动自转组件自转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，旋转方向相反，两输送装置上均设置有传送带，所述传送带外表面设置有擦拭层。2.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述上料输送装置上还设置有定位装置及除潮装置，所述定位装置设置于除潮装置前侧。3.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述对位装置包括若干对位插口装置，所述对位插口装置上设置有插口板，所述插口板的一侧端面上设置有插口，所述插口呈外宽内窄的三角形设置，该插口的两侧各设置有一导斜面。4.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡装置上还设置有储蜡槽，该储蜡槽内设置有若干导热盘，储蜡槽外侧设有加热片，所述导热盘通过导热杆连接于发热片上。5.如权利要求4所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡装置外侧还设置有一吸废气装置，该吸废气装置上设置有吸气嘴，所述吸气嘴对应于所述导热盘设置。6.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及若干装设于旋转轴上的传动齿轮，所述自转组件上设有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上，所述自旋转驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：古泽恩，
申请(专利权)人：广东皓达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：