一种自动上釉线的浸釉装置，其包括旋转装置、壳体及装设于壳体内的若干自转组件、自旋转装置，所述旋转装置带动壳体整体旋转，所述自旋转装置带动自转组件旋转；若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及装设于旋转轴上的若干传动齿轮，且每一传动齿轮对应于一自转组件；所述自转组件上设置有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件旋转。本实用新型专利技术的自动上釉线的浸釉装置实现了自动浸釉，不仅工作效率高，且沾釉均匀，适用性强，具有较强的推广意义。推广意义。推广意义。
【技术实现步骤摘要】
自动上釉线的浸釉装置
[0001]本技术涉及陶瓷制造设备
，尤其涉及一种自动上釉设备的浸釉装置。
技术介绍
[0002]在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在传统工艺中，通常为采用人工涂釉(喷釉)。然而，该种方法不仅劳动强度大、工作效率低，且存在涂釉(喷釉)不均或部分漏涂(喷)的现象，从而导致产品质量不稳定、不良率较高。
技术实现思路
[0003]为此，本技术的目的在于提供一种自动上釉线的浸釉装置，以解决传统坯体上釉工作效率低、质量不稳定、劳动强度大的问题。
[0004]一种自动上釉线的浸釉装置，其包括旋转装置、壳体及装设于壳体内的若干自转组件、自旋转装置，所述旋转装置带动壳体整体旋转，所述自旋转装置带动自转组件旋转；若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及若干传动齿轮，若干传动齿轮均装设于旋转轴上，且每一传动齿轮对应于一自转组件；所述自转组件上设置有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件旋转。
[0005]进一步地，还包括储釉箱，所述自转组件设置于储釉箱外侧，所述旋转装置带动自转组件旋转倾斜延伸于储釉箱内。
[0006]进一步地，还包括真空釉水箱及导釉管，所述自转组件的顶层部设有吸盘，自转组件的底端装设于真空釉水箱上，导釉管的底端穿设于真空釉水箱外，顶端延伸于所述吸盘内。
[0007]进一步地，所述自转组件还包括装设于吸盘底面上的自转轴，所述导釉管穿设于自转轴内，该导釉管与自转轴内表面之间形成连通吸盘及真空釉水箱的真空吸入腔。
[0008]进一步地，所述自转组件还包括将自转轴安装于真空釉水箱上的固定座，所述固定座上装设有轴承密封件。
[0009]进一步地，所述吸盘内设有一存釉仓，吸盘的顶面上设置有一内外贯穿存釉仓的吸口，所述自转轴的顶端延伸于存釉仓内；所述导釉管的顶端设置有一导釉头，该导釉头的顶端中部设置有连通导釉管的导釉孔。
[0010]进一步地，还包括真空泵及空釉转换器，所述吸盘组件还包括真空管及釉水回流管，所述真空泵连接于真空管及空釉转换器，所述空釉转换器连接于釉水回流管。
[0011]进一步地，所述空釉转换器包括真空腔体、釉水分散盘、下釉漏斗及真空釉水自动排水盖；所述真空腔体顶面上设置有接入口及真空吸入口，该接入口向下延伸设有一导管，所述釉水分散盘设于导管底部，该导管底部与釉水分散盘顶面之间设有过水孔。
[0012]进一步地，所述真空腔体的底部向下釉漏斗内延伸有一倾斜设置的导入管，所述真空釉水自动排水盖活动装设于导入管的上方表面上并盖合于导入管的开口端。
[0013]进一步地，所述空釉转换器还包括一真空进排自动盖，所述真空进排自动盖设置于真空腔体外侧。
[0014]综上所述，本技术的自动上釉线的浸釉装置通过整体旋转及自旋转实现了自动浸釉，不仅工作效率高，且沾釉均匀。此外，通过设置吸盘擦拭装置，可减少吸盘上釉水残留。本技术的适用性强，具有较强的推广意义。
附图说明
[0015]图1为本技术具有自动上釉线的浸釉装置的结构示意图；
[0016]图2为图1中吸盘组件的内部结构示意图；
[0017]图3为图2中吸盘装置的剖面结构示意图；
[0018]图4为图3中的部分放大结构示意图；
[0019]图5为浸釉装置中的吸盘擦拭装置的结构示意图；
[0020]图6为空釉转换装置、真空泵及浸釉装置的结构示意图；
[0021]图7为图6中空釉转换装置的结构示意图。
具体实施方式
[0022]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。
[0023]如图1至图7所示，本技术提供一种自动上釉线的浸釉装置，其用于对陶瓷坯体进行浸釉加工。所述自动上釉线的浸釉装置包括机架(图未示)及装设于机架上的吸盘装置10、储釉箱20，所述吸盘装置10设置于储釉装置20外侧。
[0024]所述吸盘装置10包括旋转装置(图未示)、壳体40、若干吸盘组件50及自旋转装置60，所述壳体40的两侧均设置有安装轴41，所述安装轴41装设于机架上，所述旋转装置装设于机架上，旋转装置带动壳体40沿转轴旋转，以将吸秀组件50旋转倾斜插入储釉箱20的釉水内。若干吸盘组件50均装设于壳体40内并延伸于壳体40外，所述自旋转装置60装设于吸盘组件50上并容置于壳体40内。
[0025]所述吸盘组件50包括自转组件及真空釉水箱54、导釉管55、固定座53，所述自转组件包括吸盘51及装设于吸盘51底面上的自转轴52，所述固定座53、真空釉水箱54均容置于壳体40内。所述自转轴52的上部分延伸于壳体40外，所述壳体40外侧的自转轴52上设置有密封圈60，以用于防尘密封。自转轴52的底部延伸于壳体40内，该自转轴52的顶端装设于吸盘51上，底端通过固定座53装设于真空釉水箱54上并可相对固定座53旋转。本实施例中，所述固定座53的上下两端均设置有轴承密封件531，所述轴承密封件531对自转轴52与固定座53之间的间隙进行密封。所述导釉管55穿设于自转轴52内，该导釉管55的顶端延伸了自转轴52外并容置于吸盘51内，导釉管55的底端延伸出自转轴52外并穿过真空釉水箱54的底面形成一釉水进入口。
[0026]所述吸盘51内设有一存釉仓511，吸盘51的顶面上设置有一内外贯穿存釉仓511的吸口512。所述导釉管55的顶端设置有一半圆导釉头551，该半圆导釉头551的顶端中部设置
有连通导釉管55的导釉孔552。所述自转轴52的顶端延伸于存釉仓511内，自转轴52与半圆导釉头551之间的导釉管55上设置有通孔553。此外，所述自转轴52呈中空管状结构设置，其内部设置有上下贯穿的真空吸入腔521，所述导釉管55穿设于该真空吸入腔521，该导釉管55的底端穿过真空釉水箱54并延伸于其外侧。
[0027]所述吸盘组件50还包括真空管51及釉水回流管52，所述真空釉水箱54上设置有真空导入口及釉水回流口，所述真空管51一端连接于真空泵，另一端连接于真空导入口上，所述釉水回流管52一端连接于釉水回流口，另一端连接于导釉管55底端的釉水进入口。
[0028]所述自旋转装置60包括自旋转驱动61、旋转轴62及若干传动齿轮63，所述旋转轴62呈水平延伸设置，若干传动齿轮63均匀装设于旋转轴62上，且每一传动齿轮63对应于一吸盘组件50。所述吸盘组件50上设置有从动齿轮56，所述从动齿轮56啮合于传动齿轮63上。所述自旋转驱动61通过旋转轴62、传动齿轮63带动吸盘组件50旋转，从而实现了吸盘组件50的自旋转。此外，所述储釉箱20内还设置有废坯渣滤网21。
[0029]所述自动上釉线的浸釉装置上还设置有一吸盘擦拭装置70，所述吸盘擦拭装置70包括拉杆71、定位杆72及海本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：包括旋转装置、壳体及装设于壳体内的自转组件、自旋转装置，所述旋转装置带动壳体整体旋转，所述自旋转装置带动自转组件自转；所述自转组件装设于壳体内并延伸于壳体外，所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及装设于旋转轴上的传动齿轮，所述自转组件上设置有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件旋转。2.如权利要求1所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：还包括储釉箱，所述自转组件设置于储釉箱外侧，所述旋转装置带动自转组件旋转倾斜延伸于储釉箱内。3.如权利要求1所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：还包括真空釉水箱及导釉管，所述自转组件的顶层部设有吸盘，自转组件的底端装设于真空釉水箱上，导釉管的底端穿设于真空釉水箱上，顶端延伸于所述吸盘内。4.如权利要求3所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述自转组件还包括装设于吸盘底面上的自转轴，所述导釉管穿设于自转轴内，该导釉管与自转轴内表面之间形成连通吸盘及真空釉水箱的真空吸入腔。5.如权利要求4所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述自转组件还包括将自转轴安装于真空釉水箱上的固定座，所述固定座上...
【专利技术属性】
技术研发人员：古泽恩，
申请(专利权)人：广东皓达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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