一种自动上釉线的釉水擦拭装置，其包括机架及装设于机架上的正转输送装置、反转输送装置，所述正转输送装置与反转输送装置呈并排设置，且二者的结构相同，旋转方向相反；所述正转输送装置包括驱动装置、传送带、主动辊、从动辊、第二导辊及水槽，所述主动辊及从动辊设于机架上，水槽设于机架下方，第二导辊设于水槽上；传送带套设于主动辊、从动辊、第二导辊的外表面上，该传送带的外表面设置有擦拭层；所述驱动装置连接于主动辊上。本实用新型专利技术的擦拭装置可对坯体底部进行自动擦拭，不仅降低了劳动强度，且擦拭均匀度一致，提高了加工质量。此外，该擦拭装置一次性可对多个坯体进行擦拭加工，大大提高了工作效率高，适用性强，具有较强的推广意义。的推广意义。的推广意义。
【技术实现步骤摘要】
自动上釉线的釉水擦拭装置
[0001]本技术涉及陶瓷制造设备
，尤其涉及一种自动上釉设备的釉水擦拭装置。
技术介绍
[0002]在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在陶瓷烧制过程中，高温时釉料融化会与匣钵底部粘结在一起，因此，在上釉工序后必须将坯体底端与匣钵底部接触的釉去除干净，防止陶瓷产品烧制过程中与匣钵底部粘结。
[0003]在传统工艺中，去除釉料通常为采用人工擦拭，然而，该种方法不仅使工人劳动强度大、工作效率低，且由于人工操作用力均匀性差，存在擦拭不干净或者用力过度导致坯体破裂、坯体损坏的问题。
技术实现思路
[0004]为此，本技术的目的在于提供一种自动上釉线的釉水擦拭装置，以解决传统坯体釉料去除不干净、人工劳动强度大、工作效率低、易损坏坯体的问题。
[0005]一种自动上釉线的釉水擦拭装置，其包括机架及装设于机架上的正转输送装置、反转输送装置，所述正转输送装置与反转输送装置呈并排设置，且二者的结构相同，旋转方向相反；所述正转输送装置包括驱动装置、传送带、主动辊、从动辊、第二导辊及水槽，所述主动辊及从动辊水平装设于机架上，水槽设置于机架下方，第二导辊装设于水槽上；所述传送带套设于主动辊、从动辊、第二导辊的外表面上，该传送带的外表面设置有擦拭层；所述驱动装置连接于主动辊上，该驱动装置驱动主动辊带动传送带旋转，第二导辊底部传送带上的擦拭层与水槽内的水相接触。
[0006]进一步地，所述水槽内还设置有溢流管，所述溢流管的顶部开口低于水槽的顶面。
[0007]进一步地，还包括两第一导辊，两所述第一导辊分别设置于所述水槽的两侧。
[0008]进一步地，所述传送带的内表面中部设置有凸起部，传送带内侧的导辊外表面上均设置有导槽，所述凸起部卡合于导槽内。
[0009]进一步地，所述正转输送装置与反转输送装置上对应的辊安装于同一转轴上。
[0010]进一步地，还包括一机械手转移装置，所述机械手转移装置上设置有一排吸盘，所述吸盘的排列方向与主动轮、从动轮的排列方向一致。
[0011]进一步地，所述擦拭层为海绵层。
[0012]综上所述，本技术采用双向海绵输送带对坯体底部进行自动擦拭，不仅降低了劳动强度，且擦拭均匀度一致，提高了加工质量。此外，该擦拭装置一次性可对多个坯体进行擦拭加工，大大提高了工作效率高。本技术的适用性强，具有较强的推广意义。
附图说明
[0013]图1为本技术具有自动上釉线的釉水擦拭装置的结构示意图；
[0014]图2为图1中擦拭装置的分解示意图。
具体实施方式
[0015]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。
[0016]如图1和图2所示，本技术提供一种自动上釉线的釉水擦拭装置，用于将上釉后陶瓷坯体底部的釉料去除干净；其装设于自动上釉线上。所述自动上釉线的釉水擦拭装置包括双海绵正反转输送装置10及设置于其一侧的机械手转移装置(图未示)，所述转移装置20将浸釉后的坯体转移至正反转输送装置10上，正反转输送装置10对坯体底部进行擦拭；擦拭完成后，转移装置20再将坯体移至下一工序。
[0017]所述正反转输送装置10包括机架11及装设于机架11上的正转输送装置12、反转输送装置13，所述正转输送装置12与反转输送装置13呈并排设置，且二者的结构也相同，不同之处在于旋转方向相反。所述正转输送装置12包括驱动装置121、传送带122、主动辊123、从动辊124、两第一导辊125、第二导辊126及水槽127，所述主动辊123及从动辊124水平装设于机架11上，所述水槽127设置于机架11下方。两第一导辊125设置于水槽127的两侧，所述第二导辊126装设于水槽127上。可以理解地，所述第一导辊125及第二导辊126可根据需求设置不同的数量。
[0018]所述主动辊123、从动辊124、第一导辊125及第二导辊126的均为平行设置，所述正转输送装置12及反转输送装置13上的传送带122并排套设于主动辊123、从动辊124、两第一导辊125、一第二导辊126的外表面上。所述驱动装置121连接于主动辊123上，该驱动装置121驱动所述主动辊123带动传送带122旋转。所述传送带122的外表面设置有海绵层128，传送带122的内表面中部设置有凸起部129，所述主动辊123、从动辊124、两第一导辊125、一第二导辊126的外表面上均设置有导槽130，所述传送带122上的凸起部129装设于所述导槽130内。此外，所述正转输送装置12与反转输送装置13上相应的辊安装于同一转轴上，两传送带122之间在不影响运动的情况下为极小间隙。
[0019]所述水槽127内还设置有溢流管131，所述溢流管131的顶部开口低于水槽127的顶面，从而当水太满时，水会自溢流管131排出至，进而可避免水自水槽127顶面溢出。所述机械手转移装置上设置有多个吸盘，多个所述吸秀排成一排；，机械式转移装置可一次将多个坯体转移至正反转输送装置10上。
[0020]使用时，所述机械手转移装置将多个坯体吸至正反转输送装置10上，并将坯体的底部放置于正转输送装置12及反转输送装置13的传送带122上，且同一坯体在两传送带122上的坯体各占一半。所述正转输送装置12的驱动装置121驱动其正转，反转输送装置13的驱动装置121驱动其反转。两传送带分别带动相应侧的坯体移动，且移动方和各不相同，从而会使得该坯体自动旋转；当该坯体旋转一周(也可根据需求设置有两周或更多)时，此时釉水已被传送带外表面的海绵擦拭干净；擦拭釉水后的传送带向下旋转至水槽127内，传送带122外表面的海绵层与水槽127内的水移动接触，从而可起到清洗海绵层的作用。
[0021]综上所述，本技术采用双向海绵输送带对坯体底部进行自动擦拭，不仅降低
了劳动强度，且擦拭均匀度一致，提高了加工质量。此外，该擦拭装置一次性可对多个坯体进行擦拭加工，大大提高了工作效率高。本技术的适用性强，具有较强的推广意义。
[0022]以上所述实施例仅表达了本技术的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不因此而理解为对本技术专利范围的限制，应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围，因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动上釉线的釉水擦拭装置，其特征在于：包括机架及装设于机架上的正转输送装置、反转输送装置，所述正转输送装置与反转输送装置呈并排设置，且二者的结构相同，旋转方向相反；所述正转输送装置包括驱动装置、传送带、主动辊、从动辊、第二导辊及水槽，所述主动辊及从动辊水平装设于机架上，水槽设置于机架下方，第二导辊装设于水槽上；所述传送带套设于主动辊、从动辊、第二导辊的外表面上，该传送带的外表面设置有擦拭层；所述驱动装置连接于主动辊上，该驱动装置驱动主动辊带动传送带旋转，第二导辊底部传送带上的擦拭层与水槽内的水相接触。2.如权利要求1所述的自动上釉线的釉水擦拭装置，其特征在于：所述水槽内还设置有溢流管，所述溢流管的顶部开口低于水槽的顶面。3.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：古泽恩，
申请(专利权)人：广东皓达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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