一种蒸发源制造技术

技术编号:29126626 阅读:43 留言:0更新日期:2021-07-02 22:21
本发明专利技术实施例提供一种蒸发源,该蒸发源包括坩埚、加热丝和多个半导体制冷片;所述加热丝围绕所述坩埚分布,多个所述半导体制冷片设置于所述加热丝远离所述坩埚的一侧,且多个所述半导体制冷片沿环绕所述坩埚的方向依次排列;每一所述半导体制冷片包括冷端和热端,所述冷端用于制冷,所述热端用于制热;所述半导体制冷片包括第一制冷片和第二制冷片,所述第一制冷片的冷端设置于邻近所述坩埚的一侧,所述第二制冷片的热端设置于邻近所述坩埚的一侧。本发明专利技术实施例提供的蒸发源,能够提高蒸发源的升温速率和降温速率。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源
本专利技术涉及蒸镀机领域,特别是涉及一种蒸发源。
技术介绍
目前,在微显示及面板行业使用的蒸镀机的蒸发源结构几乎大同小异,图1为现有技术中的一种蒸发源的俯视结构示意图,参考图1,都是由坩埚11、加热丝12、反射板13、冷却水14和外廓15等部件组成。该蒸发源虽然满足工艺需求,但是该蒸发源的缺点就是降温速度比较慢,近似于真空下自然冷却。
技术实现思路
本专利技术实施例提供的蒸发源,能够提高蒸发源的升温速率和降温速率。本专利技术实施例提供一种蒸发源,该蒸发源包括坩埚、加热丝和多个半导体制冷片;所述加热丝围绕所述坩埚分布,多个所述半导体制冷片设置于所述加热丝远离所述坩埚的一侧,且多个所述半导体制冷片沿环绕所述坩埚的方向依次排列;每一所述半导体制冷片包括冷端和热端,所述冷端用于制冷,所述热端用于制热;所述半导体制冷片包括第一制冷片和第二制冷片,所述第一制冷片的冷端设置于邻近所述坩埚的一侧,所述第二制冷片的热端设置于邻近所述坩埚的一侧。可选的,沿环绕所述坩埚的方向所述第一制冷片和所述第二制冷片间隔分布。...

【技术保护点】
1.一种蒸发源,其特征在于,包括坩埚、加热丝和多个半导体制冷片;/n所述加热丝围绕所述坩埚分布,多个所述半导体制冷片设置于所述加热丝远离所述坩埚的一侧,且多个所述半导体制冷片沿环绕所述坩埚的方向依次排列;/n每一所述半导体制冷片包括冷端和热端,所述冷端用于制冷,所述热端用于制热;所述半导体制冷片包括第一制冷片和第二制冷片,所述第一制冷片的冷端设置于邻近所述坩埚的一侧,所述第二制冷片的热端设置于邻近所述坩埚的一侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源,其特征在于,包括坩埚、加热丝和多个半导体制冷片;
所述加热丝围绕所述坩埚分布,多个所述半导体制冷片设置于所述加热丝远离所述坩埚的一侧,且多个所述半导体制冷片沿环绕所述坩埚的方向依次排列;
每一所述半导体制冷片包括冷端和热端,所述冷端用于制冷,所述热端用于制热;所述半导体制冷片包括第一制冷片和第二制冷片,所述第一制冷片的冷端设置于邻近所述坩埚的一侧,所述第二制冷片的热端设置于邻近所述坩埚的一侧。


2.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于:
沿环绕所述坩埚的方向所述第一制冷片和所述第二制冷片间隔分布。


3.根据权利要求2所述的蒸发源,其特征在于:
多个所述第一制冷片沿环绕所述坩埚的方向均匀分布,多个所述第二制冷片沿环绕所述坩埚的方向均匀分布。


4.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,还包括:
控制模块和电源模块,所述电源模块分别与所述第一制冷片和所述第二制冷片连接;所述控制模块用于根据所述蒸发源的工作状态控制所述电源模块为所述第一制冷片供电或控制所述电源模块为所述第二制冷片供电。


5.根据权利要求4所述的蒸发源,其特征在于:
所述控制模块用于在所述蒸发源处于升温状态时,控制所述电源模块为所述第二制冷片供电,在所述蒸发源处于降温状态时,控制所述电源模块为所述第一制冷片供电。


6.根据权利要求4所述的蒸发源,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:张久杰季渊
申请(专利权)人:南京昀光科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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