一种高效环保镀膜辅助装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种高效环保镀膜辅助装置，涉及半导体器件技术领域。本实用新型专利技术包括镀膜底座，镀膜底座中部插接连接有收集盒，且收集盒内中部放置有收集板，收集盒顶端插接连接有若干个镀膜室，且镀膜室顶端插接密封放置有镀膜盖，镀膜盖内顶端以及中部分别固定连接有活性炭和除尘器，镀膜室顶端呈开口设置，且其端口四周固定连接有第一矩形块。本实用新型专利技术通过设置除尘器、活性炭、镀膜室、第一矩形块、收集盒和收集板，具有除尘、除有害气味，避免污染工作环境以及高效性、可拼接和可镀膜大量工件，并且上下料速度更快和方便清洁镀膜室、收集镀膜室内镀膜镀膜废料，避免污染环境的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种高效环保镀膜辅助装置
本技术属于半导体器件
，特别是涉及一种高效环保镀膜辅助装置。
技术介绍
锗片是制作半导体器件，红外光学器件的材料。主要成分为锗，锗片镀膜可以起到增强透过率和对锗片保护的作用，目前，锗片镀膜过程镀膜室有灰尘和一定气味散发出来，影响了周围工作人员的身体健康，污染环境，同时，镀膜室空间有限且上下料速度慢，影响锗片镀膜的生产效率，并且，锗片镀膜完毕后镀膜室内不方便清洁，产生的镀膜废料污染环境，局限性较大，无法满足实际使用需求，所以市面上迫切需要能改进的技术，以解决上述问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种高效环保镀膜辅助装置，通过设置除尘器、活性炭、镀膜室、第一矩形块、收集盒和收集板，解决了现有锗片镀膜过程镀膜室有灰尘和一定气味散发出来，影响了周围工作人员的身体健康，污染环境，同时，镀膜室空间有限且上下料速度慢，影响锗片镀膜的生产效率，并且，锗片完毕后镀膜室内不方便清洁，产生的镀膜废料污染环境的问题。为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：本技术为一种高效环保镀膜辅助装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效环保镀膜辅助装置，包括镀膜底座（1），其特征在于：所述镀膜底座（1）中部插接连接有收集盒（12），且收集盒（12）内中部放置有收集板（8），所述收集盒（12）顶端插接连接有若干个镀膜室（6），且镀膜室（6）顶端插接密封放置有镀膜盖（4），所述镀膜盖（4）内顶端以及中部分别固定连接有活性炭（14）和除尘器（9），所述镀膜室（6）顶端呈开口设置，且其端口四周固定连接有第一矩形块（11）。/n

【技术特征摘要】
1.一种高效环保镀膜辅助装置，包括镀膜底座（1），其特征在于：所述镀膜底座（1）中部插接连接有收集盒（12），且收集盒（12）内中部放置有收集板（8），所述收集盒（12）顶端插接连接有若干个镀膜室（6），且镀膜室（6）顶端插接密封放置有镀膜盖（4），所述镀膜盖（4）内顶端以及中部分别固定连接有活性炭（14）和除尘器（9），所述镀膜室（6）顶端呈开口设置，且其端口四周固定连接有第一矩形块（11）。


2.根据权利要求1所述的一种高效环保镀膜辅助装置，其特征在于，所述镀膜底座（1）上表面中部设置有凹槽（101），且凹槽（101）内电性连接有电热板（10），所述收集盒（12）底端端口插接连接于电热板（10）两端外侧，所述镀膜底座（1）上表面两端固定连接有第一把手（3）。


3.根据权利要求1所述的一种高效环保镀膜辅助装置，其特征在于，所述镀膜室（6）外侧两端固定连接有提耳（7），且镀膜室（6）底端设置有矩形槽（601），且矩形槽（601）的尺寸大小与第一矩形块（11）的尺寸大小相...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔丁方，彭明清，缪彦美，子光平，廖吉伟，何兴军，陈知江，朱家义，
申请(专利权)人：云南驰宏国际锗业有限公司，
类型：新型
国别省市：云南;53