一种真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术属于真空镀膜领域，涉及一种真空镀膜机，包括真空腔、成膜伞架、基片、蒸发源以及支撑杆，成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，蒸发源设置于成膜伞架下方，支撑杆的一端固定于真空腔侧面且另一端延伸进入成膜伞架和蒸发源之间的空间，支撑杆上安装有阻隔板，阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行。本实用新型专利技术提供的真空镀膜机能够修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，使得同一批次光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围能够控制在2nm以内，提升成膜良品率及产能，成本低，实际利用率高，具有很高的市场推广价值。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机
本技术属于真空镀膜领域，具体涉及一种真空镀膜机。
技术介绍
真空镀膜机是一种在高真空度下镀膜形成光学薄膜的设备，包括蒸发式真空镀膜机、溅射式真空镀膜机。其中，蒸发式真空镀膜机通常包括真空腔、成膜伞架、基片以及蒸发源，所述成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，所述基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，所述基片的数量通常为多个，多个基片均匀悬挂于成膜伞架的下表面，所述蒸发源设置于成膜伞架下方，所述成膜伞架的中心设置有中心回转机构，工作时，在中心回转机构的驱动下成膜伞架绕其旋转，加热蒸发源以使蒸发源组分以原子团或者离子形式被蒸发出来，这些原子团或离子不断上升至成膜伞架处，遇到基板而冷凝形成薄膜。然而，由于成膜伞架具有伞状结构，成膜伞架的不同位置由于与蒸发源的距离不同，因此会造成不同位置的基片处原子团或者离子浓度不同，从而导致同一批成膜伞架上的光学薄膜的颜色、光谱波长均存在差异，无法统一，从而产能良品率低下。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服采用现有的真空镀膜机进行真空镀膜时，同一批成膜伞架上的光学薄膜的颜色、光谱波长不一致的问题，而提供一种能够修正成膜伞架上不同位置光学薄膜的颜色以及光谱波长差异的真空镀膜机。本技术的技术方案是：一种真空镀膜机，包括真空腔、成膜伞架、基片、蒸发源以及支撑杆，所述成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，所述成膜伞架的中心设置有中心回转机构以驱动成膜伞架旋转，所述基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，所述蒸发源设置于成膜伞架下方，所述支撑杆的一端固定于真空腔侧面且另一端延伸进入成膜伞架和蒸发源之间的空间，所述支撑杆上安装有阻隔板，所述阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行。当工作时，成膜伞架在中心回转机构的驱动下绕其旋转，加热蒸发源以使蒸发源组分以原子团或者离子形式被蒸发出来，这些原子团或离子不断上升至阻隔板处被其阻隔，再绕过阻隔板进入位于阻隔板和成膜伞架之间的空间，之后再上升至悬挂于成膜伞架下表面的基片处，冷凝形成薄膜，当镀膜完成之后，将基片从成膜伞架上卸下来。进一步地，所述支撑杆与真空腔侧面的固定处设置有气缸，通过气缸控制支点的上下升降，以调整阻隔板上表面与成膜伞架下表面之间的距离。术语“支点”是指支撑杆固定于真空腔侧面的位置点。进一步地，所述气缸的升降压力为0.5～0.8MPa。进一步地，所述阻隔板上表面与成膜伞架下表面之间的距离为20～60cm，此时不仅能够节约蒸发薄膜材料，而且还更有利于修正颜色差异，保证同一批光学薄膜颜色的一致性。进一步地，所述支撑杆的支点和蒸发源之间的连线与水平方向的夹角为30°～70°。进一步地，以所述成膜伞架的半径R为基准，所述阻隔板的长度为4/5R～R，此时不仅不会影响蒸发成膜，而且还能够修正每层颜色一致性。进一步地，所述阻隔板的上表面形状呈方形或扇形。此外，所述阻隔板可以可拆卸地固定在支撑杆上，也可以焊接在支撑杆上。进一步地，当所述阻隔板的上表面形状呈方形时，以所述成膜伞架的外圆周长L及半径R为基准，所述阻隔板的宽度为1/6L～1/3L，长度为4/5R～R。进一步地，当所述阻隔板的上表面形状呈扇形时，以所述成膜伞架的外圆周长L为基准，所述阻隔板的弧长为1/12L～1/2L，圆心角为30°～180°。进一步地，所述阻隔板为不锈钢板。进一步地，所述阻隔板的厚度为1～3mm，此时不仅能够避免由于厚度过薄而变形以影响层与层之间颜色一致性，而且还能够避免由于厚度过厚而影响升降。本技术的有益效果：通过在成膜伞架和蒸发源之间的空间设置支撑杆，支撑杆上安装有阻隔板并使得阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行，源自蒸发源的原子团或离子在遇到基板之前，首先会被阻隔板阻挡，之后再绕过阻隔板进入位于阻隔板和成膜伞架之间的空间，这样能够使得源自蒸发源的原子团或离子在阻隔板处实现混合及再次分布，从而降低原子团或离子浓度在不同基板处的差异，由此来修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，使得同一批次光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围能够控制在2nm以内，提升成膜良品率及产能，成本低，实际利用率高，具有很高的市场推广价值。附图说明图1为本技术提供的真空镀膜机的结构示意图。附图标记说明1-真空腔；2-成膜伞架；3-基片；4-蒸发源；5-支撑杆；6-阻隔板；7-气缸。具体实施方式下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步详细说明。实施例1如图1所示，本技术提供的真空镀膜机包括真空腔1、成膜伞架2、基片3、蒸发源4以及支撑杆5，所述成膜伞架2具有伞状结构且设置于真空腔1的顶部，所述成膜伞架2的中心设置有中心回转机构以驱动成膜伞架2旋转，所述基片3可拆卸地悬挂于成膜伞架2的下表面，所述蒸发源4设置于成膜伞架2下方，所述支撑杆5的一端固定于真空腔1侧面且另一端延伸进入成膜伞架2和蒸发源4之间的空间，所述支撑杆5上安装有阻隔板6，所述阻隔板6的上表面与成膜伞架2的下表面平行且两者的距离为40cm，所述支撑杆5的支点和蒸发源4之间的连线与水平方向的夹角为30°。本实施例中，所述阻隔板的上表面形状呈方形，以所述成膜伞架的外圆周长L及半径R为基准，所述阻隔板的宽度为1/4L，长度为R。该真空镀膜机通过支撑杆和阻隔板的设置，能够降低原子团或离子浓度在不同位置处的差异，由此来修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，同一批成膜伞架上的光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围为1nm，提升成膜良品率及产能。优选地，所述支撑杆5与真空腔1侧面的固定处设置有气缸7，通过气缸7控制支点的上下升降，以调整阻隔板6上表面与成膜伞架2下表面之间的距离。所述气缸的升降压力为0.6MPa。优选地，所述阻隔板为不锈钢板。优选地，所述不锈钢板的厚度为2mm。实施例2实施例2的真空镀膜机与实施例1相同，不同的是，所述阻隔板6的上表面与成膜伞架2之间的距离为20cm，所述支撑杆的支点和蒸发源之间的连线与水平方向的夹角为70°。该真空镀膜机通过支撑杆和阻隔板的设置，能够降低原子团或离子浓度在不同位置处的差异，由此来修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，同一批成膜伞架上的光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围为1.1nm，提升成膜良品率及产能。实施例3实施例3的真空镀膜机与实施例1相同，不同的是，所述阻隔板6的上表面与成膜伞架2之间的距离为60cm，所述支撑杆的支点和蒸发源之间的连线与水平方向的夹角为30°。该真空镀膜机通过支撑杆和阻隔板的设置，能够降低原子团或离子浓度在不同位置处的差异，由此来修正成膜伞架不同位置处光学薄膜的颜色以及光谱波长的差异，同一批成膜伞架上的光学薄膜的颜色基本一致，光谱波长的波动范围为0.9nm，提升成膜良品率及产能。尽管上面已经示出和描述了本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜机包括真空腔、成膜伞架、基片、蒸发源以及支撑杆，所述成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，所述成膜伞架的中心设置有中心回转机构以驱动成膜伞架旋转，所述基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，所述蒸发源设置于成膜伞架下方，所述支撑杆的一端固定于真空腔侧面且另一端延伸进入成膜伞架和蒸发源之间的空间，所述支撑杆上安装有阻隔板，所述阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜机包括真空腔、成膜伞架、基片、蒸发源以及支撑杆，所述成膜伞架具有伞状结构且设置于真空腔的顶部，所述成膜伞架的中心设置有中心回转机构以驱动成膜伞架旋转，所述基片可拆卸地悬挂于成膜伞架的下表面，所述蒸发源设置于成膜伞架下方，所述支撑杆的一端固定于真空腔侧面且另一端延伸进入成膜伞架和蒸发源之间的空间，所述支撑杆上安装有阻隔板，所述阻隔板的上表面与成膜伞架的下表面平行。


2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述支撑杆与真空腔侧面的固定处设置有气缸，通过气缸控制支点的上下升降，以调整阻隔板上表面与成膜伞架下表面之间的距离。


3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述气缸的升降压力为0.5～0.8MPa。


4.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述阻隔板上表面与成膜伞架下表面之间的距离为20～60cm。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏男，罗红敏，
申请(专利权)人：厦门美澜光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35