一种蒸镀坩埚及蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体；以及支脚，设置在所述坩埚本体底部；所述支脚的至少部分表面凸出所述坩埚本体底部以使所述坩埚本体的底部悬空。本实用新型专利技术的蒸镀坩埚由于在坩埚本体底部设置有支脚来使得坩埚本体可以悬空，这样坩埚本体放置到蒸镀装置的火山口上时，就能够与火山口隔开，而火山口的底部是流通有循环冷却水，通过支脚的间隔作用，在蒸镀贵金属靶源时，电子束轰击坩埚本体内贵金属靶源产生的热量不会传导至火山口上，这样贵金属靶源更加容易熔化，蒸镀过程的耗能更低，且技术方案成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀坩埚及蒸镀装置
本技术涉及半导体
，尤其涉及一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。
技术介绍
蒸镀是发光二极管(LightEmittingDiode，LED)加工过程中的一个重要环节，即在真空腔体内加热靶源材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过光罩的开孔沉积在基板上。传统的LED蒸镀设备，蒸镀贵金属的坩埚直接与火山口接触，而火山口的下方通有冷却水，受水冷影响，电子枪加热贵金属的过程需要更高的能量。为了解决隔热的问题，现有一种方式是通过在蒸镀坩埚底部设置一石墨垫片，但是由于石墨垫片易损坏，所以需要频繁更换，成本消耗严重，且石墨垫片容易产生粉尘污染蒸镀环境，导致膜层附着性差，电极的外观异常。因此，现有技术还有待于发展和改进。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种蒸镀坩埚及蒸镀设备，旨在解决现有采用石墨垫片隔热的蒸镀坩埚成本高的技术问题。一方面，本技术提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体；以及支脚，设置在所述坩埚本体底部；所述支脚的至少部分表面凸出所述坩埚本体底部以使所述坩埚本体的底部悬空。在上述实施方式中，本技术的蒸镀坩埚由于在坩埚本体底部设置有支脚来使得坩埚本体可以悬空，这样坩埚本体放置到蒸镀装置的火山口上时，就能够与火山口隔开，而火山口的底部是流通有循环冷却水，通过支脚的间隔作用，在蒸镀贵金属靶源时，电子束轰击坩埚本体内贵金属靶源产生的热量不会传导至火山口上，这样贵金属靶源更加容易熔化，蒸镀过程的耗能更低。可选地，所述支脚与所述坩埚本体一体成型或可拆卸连接。在上述实施方式中，支脚可以与坩埚本体一体成型，这样支脚的制作简单，支脚与坩埚本体连接更加牢固，支脚与可拆卸连接，这样蒸镀坩埚可以满足不同使用场景的需求，比如，在不需要将坩埚本体与火山口隔开时，则可以将支脚拆下。可选地，所述支脚与所述坩埚本体可拆卸连接时，所述坩埚本体的底部设置有第一凹槽，所述支脚的一端嵌入设置在所述第一凹槽内。在上述实施方式中，通过在坩埚本体的底部设置第一凹槽，支脚嵌入设置在第一凹槽内，实现与坩埚本体的可拆卸连接。可选地，所述第一凹槽内设置有磁体，所述支脚和所述坩埚本体之间磁性连接。在上述实施方式中，支脚和坩埚本体之间磁性连接，支脚拆装方便。可选地，所述第一凹槽的内壁上设置有内螺纹，所述支脚的外壁上设置有外螺纹，所述支脚与所述坩埚本体之间螺纹连接。在上述实施方式中，支脚和坩埚本体之间螺纹连接，同样方便拆装支脚。可选地，所述支脚凸出所述坩埚本体底部的部分表面为曲面。在上述实施方式中，支脚的部分表面为曲面，支脚与火山口的接触面积会大大地减小，可以进一步地减小坩埚本体与火山口之间的传热速率。可选地，所述支脚的数量为多个，各所述支脚均匀分布于所述坩埚本体的底部。在上述实施方式中，支脚设置有多个且均匀分布于所述坩埚本体的底部，这样坩埚本体的受力更加平衡，同时坩埚本体底部份温度更加均匀。可选地，所述坩埚本体具有一开口，环绕所述开口的边缘设置有一平台，所述平台上开设有沟槽。在上述实施方式中，开口的边缘设置有平台，且平台上开设有沟槽，这样增加了坩埚本体内的贵金属靶源熔液溢出坩埚的难度，从而防止由于贵金属靶源熔液溢出造成的装置损坏。可选地，所述沟槽的几何中心与所述开口的几何中心重合。在上述实施方式中，沟槽与开口同心设置，充分利用平台表面的空间，可以起到很好的防止贵金属靶源熔液溢出的效果。另一方面，本技术还提供了一种蒸镀装置，包括上述任意一项所述的蒸镀坩埚。在上述实施方式中，本技术的蒸镀装置由于采用了上述任一项的蒸镀坩埚，这样坩埚本体与火山口之间可以通过支脚隔开，在坩埚在蒸镀贵金属靶源时，电子束轰击坩埚内贵金属靶源产生的热量不会传导至火山口一侧，贵金属靶源更加容易熔化，蒸镀过程的耗能更低。附图说明图1为本技术一实施例的蒸镀坩埚的使用场景示意图；图2为本技术又一实施例的蒸镀坩埚的使用场景示意图；图3为本技术一实施例的蒸镀坩埚的剖面示意图；图4为本技术另一实施例的蒸镀坩埚的使用场景示意图；图5为本技术一实施例的蒸镀坩埚的爆炸结构示意图；图6为本技术另一实施例的蒸镀坩埚的爆炸结构示意图；图7为本技术一实施例的蒸镀坩埚的支脚形状示意图。图中的附图标记如下:10-坩埚本体；20-火山口；30-循环冷却水；40-贵金属靶源；50-石墨垫片；60-支脚；70-第一凹槽；80-磁体；90-内螺纹；100-外螺纹；110-平台；120-沟槽。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。参见图1，在传统的LED蒸镀贵金属电极的工艺中，蒸镀坩埚的坩埚本体10直接放在火山口20上的，且坩埚本体10的底部与火山口20需完全贴合，火山口20的下方通有循环冷却水30，由于传统的蒸镀坩埚是针对熔点较低金属(比如铝、镉)设计的，对于熔点较高的贵金属(比如铂、金)等，由于坩埚本体10受水冷影响，电子枪加热贵贵金属靶源40的过程就需要更高的能量，且还容易出现贵金属的损耗严重、坩埚本体10底部的贵金属靶源40熔融不彻底，导致镀膜的功率不稳定，膜层质量差。为了解决隔热问题，一种方式是通过在蒸镀坩埚底部设置一石墨垫片，具体参考图2，所述蒸镀坩埚包括坩埚本体10以及设置在所述坩埚本体10底部的石墨垫片50。通过坩埚本体10的底部放置石墨垫片50，同样可以起到隔绝热量作用，但是由于石墨垫片50易损坏，所以需要频繁更换，成本消耗严重，且石墨垫片50容易产生粉尘污染蒸镀环境，导致膜层附着性差，电极的外观异常。为了解决上述隔热方式所存在的技术问题，参见图3，本技术提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体10；以及支脚60，设置在所述坩埚本体10底部；所述支脚60的至少部分表面凸出所述坩埚本体10底部以使所述坩埚本体10的底部悬空。参见图4，本技术的蒸镀坩埚由于在坩埚本体10底部设置有支脚60来使得坩埚本体10可以悬空，这样坩埚本体10放置到蒸镀装置的火山口20上时，就能够与火山口20隔开，而火山口20的底部是流通有循环冷却水30，通过支脚60的间隔作用，在蒸镀贵金属靶源40时，电子束轰击坩埚本体10内贵金属靶源40产生的热量不会传导至火山口20上，这样贵金属靶源40更加容易本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：/n坩埚本体；以及/n支脚，设置在所述坩埚本体底部；所述支脚的至少部分表面凸出所述坩埚本体底部以使所述坩埚本体的底部悬空；/n所述支脚与所述坩埚可拆卸连接，所述坩埚本体的底部设置有第一凹槽，所述支脚的一端嵌入设置在所述第一凹槽内,所述支脚与所述第一凹槽之间过盈配合。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：
坩埚本体；以及
支脚，设置在所述坩埚本体底部；所述支脚的至少部分表面凸出所述坩埚本体底部以使所述坩埚本体的底部悬空；
所述支脚与所述坩埚可拆卸连接，所述坩埚本体的底部设置有第一凹槽，所述支脚的一端嵌入设置在所述第一凹槽内,所述支脚与所述第一凹槽之间过盈配合。


2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一凹槽内设置有磁体，所述支脚和所述坩埚本体之间磁性连接。


3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一凹槽的内壁上设置有内螺纹，所述支脚的外壁上设置有外螺纹，所述支脚与所述坩埚本体之间螺纹连接。...

【专利技术属性】
技术研发人员：盛东洋，杨然翔，王沛占，王怀超，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50