镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种镀膜装置，所述镀膜装置具有真空腔室，在真空腔室中，在基板支架的两侧分别安装第一靶材组件和第二靶材组件，第一靶材组件和第二靶材组件相对设置，可以保证待镀膜基板的第一表面和第二表面同时镀膜，提高镀膜效率，并且，在第一靶材组件中具有第一磁铁，在第二靶材组件中具有第二磁铁，第一磁铁与第二磁铁相对设置，可以使得第一表面与第二表面的溅射作用力相互抵消，从而增加膜层的附着力，减少膜片变形。

【技术实现步骤摘要】
镀膜装置
本技术涉及镀膜
，尤其是涉及一种镀膜装置。
技术介绍
随着科学技术的不断发展，越来越多的具有通信功能的电子设备被广泛的应用于人们的日常生活以及工作当中，为人们的日常生活以及工作带来了巨大的便利，成为当前人们不可或缺的重要工具。电子设备需要通过表面具有镀膜的基板制作的壳体和盖板进行封装保护。目前，在塑料基板上镀膜经常会遇到膜层附着力不达标的情况，随着5G时代了到来，塑料基板将会更加大量的被应用。因此，如何在塑料基板上镀膜出附着力良好的膜层是本领域技术人员亟需解决的事情。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种镀膜装置，可以提高镀膜效率，增加膜层的附着力，减少膜片变形。为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种镀膜装置，所述镀膜装置具有真空腔室，所述真空腔室内包括：基板支架，所述基板支架用于放置待镀膜基板；所述待镀膜基板具有相反的第一表面和第二表面；第一靶材组件，所述第一靶材组件位于所述基板支架的第一侧，用于放置第一靶材，以对所述第一表面进行镀膜；第二靶材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置具有真空腔室，所述真空腔室内包括：/n基板支架，所述基板支架用于放置待镀膜基板；所述待镀膜基板具有相反的第一表面和第二表面；/n第一靶材组件，所述第一靶材组件位于所述基板支架的第一侧，用于放置第一靶材，以对所述第一表面进行镀膜；/n第二靶材组件，所述第二靶材组件位于所述基板支架的第二侧，用于放置第二靶材，以对所述第二表面进行镀膜；/n其中，所述第一侧和所述第二侧为所述基板支架相反的两侧；所述第一靶材组件中具有第一磁铁，所述第二靶材组件中具有第二磁铁，所述第一磁铁与所述第二磁铁用于控制磁场方向，所述第一磁铁与所述第二磁铁相对设置，以使得所述第一表面与所述...

【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置具有真空腔室，所述真空腔室内包括：
基板支架，所述基板支架用于放置待镀膜基板；所述待镀膜基板具有相反的第一表面和第二表面；
第一靶材组件，所述第一靶材组件位于所述基板支架的第一侧，用于放置第一靶材，以对所述第一表面进行镀膜；
第二靶材组件，所述第二靶材组件位于所述基板支架的第二侧，用于放置第二靶材，以对所述第二表面进行镀膜；
其中，所述第一侧和所述第二侧为所述基板支架相反的两侧；所述第一靶材组件中具有第一磁铁，所述第二靶材组件中具有第二磁铁，所述第一磁铁与所述第二磁铁用于控制磁场方向，所述第一磁铁与所述第二磁铁相对设置，以使得所述第一表面与所述第二表面的溅射作用力相互抵消。


2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述基板支架为第一圆筒部件，所述第一圆筒部件的圆柱侧面具有多个固定窗口，每个所述固定窗口用于安装一个所述待镀膜基板；
其中，所述第一靶材组件贯穿所述第一圆筒部件的圆形顶面和圆形底面；所述第二靶材组件位于所述第一圆筒部件的外侧；所述第一圆筒部件能够基于其轴线转动。


3.根据权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材组件为第二圆筒部件，所述第二圆筒部件嵌套在所述第一圆筒部件内，所述第一磁铁位于所述第二圆筒部件内；
其中，所述第一靶材为嵌套在所述第二圆筒部件的圆柱侧面外的第一圆筒形靶材。


4.根据权利要求3所述的镀膜装置，其特征在于，所述第二圆筒部...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，易伟华，向军，刘慧，郑芳平，徐彬彬，洪华俊，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36